本实用新型涉及精密科学仪器，特别是指一种微型原位纳米压痕保护装置。
背景技术：
原位纳米压痕测试技术是指在金刚石压头压入和压出被测试件表面的过程中通过高分辨率显微成像系统在线观测材料及其制品在载荷作用下的变形损伤过程，而原位纳米压痕仪是一种设计机电一体化的精密科学仪器。现有实验室对原位纳米压痕仪的保存和维护往往是在表面放一块遮尘布，但是一来遮尘布容易滑落或者被风吹落，二来遮尘布没有刚性的骨架支撑，并不能有效的阻挡来自外界的损害。
技术实现要素：
本实用新型提出一种微型原位纳米压痕保护装置，解决了现有实验室对原位纳米压痕仪保护和维护不当的问题。
本实用新型的技术方案是这样实现的：一种微型原位纳米压痕保护装置，包括底座，底座上设有压痕仪，所述的底座上设有位于前后侧的卷帘槽和位于中间的侧帘槽，卷帘槽内设有活动的卷轴，卷轴与遮尘帘的一端连接，遮尘帘的另一端设有固定杆，遮尘帘穿过底座，固定杆的两端设有螺钉，侧帘槽内设有位于前后侧的长槽，长槽内设有左右两个侧帘框，侧帘框左右两侧均设有圆柱凸起、柔性凸起和固定槽，圆柱凸起和柔性凸起均与长槽配合，固定槽分别与固定杆和螺钉配合，侧帘框内设有遮尘网，底座上设有位于前后侧的放置槽，放置槽与固定杆配合。
所述的卷轴包括固定轴、卷筒和发条弹簧，固定轴固定在卷帘槽内，卷筒套设在固定轴上，固定轴与卷筒之间设有发条弹簧，卷筒与遮尘帘的一端连接。
所述的放置槽内均设有卡凸。
本实用新型的优点：通过前后侧的卷轴和左右侧的侧帘形成遮尘的保护框架，结构可靠稳定不怕晃动或者风吹，同时具有具有刚性骨架的支撑，能够一定程度上隔绝外界的触碰或者损害。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本实用新型主视图。
图2为本实用新型侧视图。
图3为本实用新型剖视图。
图中：1-底座，2-卷帘槽，3-侧帘槽，4-卷轴，5-遮尘帘，6-固定杆，7-螺钉，8-长槽，9-侧帘框，10-圆柱凸起，11-柔性凸起，12-遮尘网，13-固定槽，14-放置槽，15-卡凸。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有付出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
如图1-3所示，一种微型原位纳米压痕保护装置，包括底座1，底座1上设有压痕仪，所述的底座1上设有位于前后侧的卷帘槽2和位于中间的侧帘槽3，卷帘槽2内设有活动的卷轴4，卷轴4与遮尘帘5的一端连接，遮尘帘5穿过底座1，遮尘帘5的另一端设有固定杆6，固定杆6的两端设有螺钉7，侧帘槽3内设有位于前后侧的长槽8，长槽8内设有左右两个侧帘框9，侧帘框9左右两侧均设有圆柱凸起10、柔性凸起11和固定槽13，圆柱凸起10和柔性凸起11均与长槽8配合，固定槽13分别与固定杆6和螺钉7配合，侧帘框9内设有遮尘网12，底座1上设有位于前后侧的放置槽14，放置槽14与固定杆6配合。
所述的卷轴4包括固定轴、卷筒和发条弹簧，固定轴固定在卷帘槽2内，卷筒套设在固定轴上，固定轴与卷筒之间设有发条弹簧，卷筒与遮尘帘5的一端连接。
所述的放置槽14内均设有卡凸15。
当压痕仪使用的时候，前后两个遮尘帘收在卷轴内，遮尘帘的固定杆卡在放置槽内，左右两个侧帘框收在测量槽内，侧帘框通过圆柱凸起和柔性凸起卡在长槽内，当压痕仪使用完毕需要防护时，先将左右两个侧帘框抽出，然后旋转侧帘框，侧帘框以圆柱凸起为转心，柔性凸起从长槽内脱离并卡在底座上，从而将侧帘框固定，然后将前侧的遮尘帘从卷轴上抽出，将遮尘帘上的固定杆扣在对面的固定槽内，并拧紧固定杆上的螺钉，螺钉顶紧固定槽，使得固定杆固定在固定槽内，然后将后侧的遮尘帘从卷轴上抽出，将遮尘帘上的固定杆扣在对面的固定槽内，并固定好固定杆，此时遮尘帘和遮尘网形成密闭的遮尘空间，能够阻挡外界的灰尘，保护内部的高精度设备，同时各个结构以底座为基础安装固定，遮尘网和遮尘帘固定在固定框架上，从而形成稳定的保护框架，也能在一定程度上抵挡外界的触碰，如人手误触或者其他实验器材掉落或者磕碰在压痕仪上。
卷轴为能够自动收紧的卷轴，遮尘帘缠绕在卷筒上，卷筒套设在固定轴上可以自由转动，抽拉遮尘帘时，卷筒与固定轴发生相对转动，同时卷筒与固定轴之间的发条弹簧收缩，弹力逐渐变大，遮尘帘依靠弹力能够很好的贴付在侧帘框上，遮尘帘收回时，卷筒依靠弹力将遮尘帘缠绕在卷筒上，固定杆此时卡在放置槽内，卡凸夹紧固定杆。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。