技术特征：
1.基于光传感的电镀集控区电镀废水处理记录结构，其特征是：包括：空腔球体（6-2-3）、球形透镜（6-2-4）、四象限光电传感器（6-2-6）、振动传感接触面（6-2-5）、流体传感控制单元（6-2-1）、发光管（6-2-2）、第二支撑杆（7）和第一支撑杆（8）构成的下管路流体传感器（6-2），第二支撑杆（7）和第一支撑杆（8）一端一下一上的连接在上下隔层管架支撑柱（4）上，第一支撑杆（8）的另一端（下端）与空腔球体（6-2-3）顶部连接，第二支撑杆（7）一端支撑在第一支撑杆（8）上，第二支撑杆（7）、第一支撑杆（8）和上下隔层管架支撑柱（4）形成三角结构连接，空腔球体（6-2-3）悬挂在下隔层管架固定的排放管路（1）上；空腔球体（6-2-3）下端的振动传感接触面（6-2-5）与排放管路（1）上的顶部动态接触；空腔球体（6-2-3）上顶部腔体内固定流体传感控制单元（6-2-1），流体传感控制单元（6-2-1）电连接有发光管（6-2-2），发光管（6-2-2）发光头向腔体中心垂直向下发光，空腔球体（6-2-3）的腔体底部有球形透镜（6-2-4），球形透镜（6-2-4）下端有四象限光电传感器（6-2-6），在稳定状态下，发光管（6-2-2）发光头向腔体中心垂直向下发光，通过球形透镜（6-2-4）后投影在四象限光电传感器（6-2-6）上，由四象限光电传感器（6-2-6）获取稳定的信号。2.根据权利要求1所述的基于光传感的电镀集控区电镀废水处理记录结构，其特征是：所述的下管路流体传感器（6-2）工作方法是：流体通过排放管路（1）排放液体，从而使排放管路（1）产生微振动，这一微振动会影响空腔球体（6-2-3）的振动，由此使球形透镜（6-2-4）在空腔球体（6-2-3）内滚动，由发光管（6-2-2）发光头向腔体中心垂直向下发光时，不会稳定的将光投在四象限光电传感器（6-2-6）上，四象限光电传感器（6-2-6）将输出随振动频率和幅度变化的信号，四象限光电传感器（6-2-6）输出的幅度和频率变化的电信号由流体传感控制单元（6-2-1）处理，通过通信网将传到上位机，由上位机随时记录和处理，并通知给相关管理人员，以确定这一位置对应管路是属铬、锌、铜、铅、镍的那一种，实现废水处理的时间和时间对应的流量的管控。3.根据权利要求1所述的基于光传感的电镀集控区电镀废水处理记录结构，其特征是：所述的下管路流体传感器（6-2）或包括一对，对称固在上下隔层管架支撑柱（4）的两侧，同时悬挂在下隔层管架固定的左右排放管路（1）上。4.根据权利要求1所述的基于光传感的电镀集控区电镀废水处理记录结构，其特征是：所述的排放管路（1）或是铬处理水排放管路，或是锌处理水排放管路，或是铜处理水排放管路，或是铅处理水排放管路，或是镍处理水的放管路。
技术总结
本发明涉及废水处理技术，特别是电镀行业的废水处理管理，确切说是基于光传感的电镀集控区电镀废水处理记录结构，其特征是：包括：空腔球体（6-2-3）、球形透镜（6-2-4）、四象限光电传感器（6-2-6）、振动传感接触面（6-2-5）、流体传感控制单元（6-2-1）、发光管（6-2-2）、第二支撑杆（7）和第一支撑杆（8）构成的下管路流体传感器（6-2）。它提供基于光传感的电镀集控区电镀废水处理记录结构，以便能随时了解生产状态和不同时间铬、锌、铜、铅、镍处理水的排放量。镍处理水的排放量。镍处理水的排放量。
技术研发人员：郑志发 费西凯 吴健 余小军 李凯军
受保护的技术使用者：中国启源工程设计研究院有限公司
技术研发日：2021.03.16
技术公布日：2022/6/28