发光式摄影测量光学标志的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种用于提高摄影测量精度的光学测量标志，具体地涉及一种用于对被测对象位置与位移高精度摄影测量的发光式光学测量标志。
【背景技术】
[0002]由于摄影测量技术具有测试精度高、测试速度快、环境适应性好、使用方便等诸多优点，因此摄影测量技术在当今社会人类生产与生活的各个领域均得到了十分广泛的应用。
[0003]摄影测量所用的传感器主要是固体图像传感器，用于测量被测对象的位置与位移时，均存在一定的边缘效应，即被测对象图像的边缘会有一定的失真。导致边缘效应(或失真)的原因主要有:
[0004]1、测对象边缘的不规整；
[0005]2、被测对象的边缘由复杂的三位曲面构成；
[0006]3、被测对象外形的尺寸误差；
[0007]4、被测对象的形状误差。
[0008]无论是哪一种原因导致的边缘效应均不可避免会带来对位置、位移的测量误差。为此需要专门配制一种用于测试的光学标志。过去所用的光学标志都是采用反光材料制成，如公告号为CN 201787950的中国专利公开了一种数字摄影测量光学标志，由反光图标和毛面的黑色磁性橡胶底衬两部分组成，其中:所述反光图标用白色反光材料涂覆在毛面的黑色磁性橡胶底衬表面，该反光图标的形状为圆形或环形。
[0009]由反光材料制成的光学标志其存在的缺点是:1、当环境光较强时，反光型的光学标志极易被强光所淹没，使得无法提取所需的信息。2、若环境光太弱，会因光学标志的反光强度不足而无法找到光学标志。
【发明内容】
[0010]为了克服反光式光学标志的上述不足，本实用新型目的是:提供一种发光式摄影测量光学标志，可以有效地消除因边缘效应带来的测试误差，可以获得便于识别、且边缘清晰的图像，无论环境光是强还是弱都不会影响到摄影测量的结果，可以满足各种不同光照环境下摄影测量的要求。
[0011]本实用新型的技术方案是:
[0012]—种发光式摄影测量光学标志，包括用于吸附的衬底，其特征在于，所述衬底上还设置有发光体，所述发光体为规则图形。
[0013]优选的，所述衬底由毛面的黑色磁性橡胶制成或者为真空吸盘。
[0014]优选的，所述发光体为LED阵列，所述LED阵列由100?200个单一波长的发光二极管均匀排列在基面上。
[0015]优选的，所述LED阵列采用粘结剂粘在底衬上，LED阵列和底衬的总厚度为25mm?40mmo
[0016]优选的，所述发光体为圆形、矩形或者三角形。
[0017]与现有技术相比，本实用新型的优点是:
[0018]该发光式摄影测量光学标志使用时，在摄影测量所用固体图像传感器的前端加装一个滤光镜过滤掉环境光，无论环境光是强还是弱都不会影响到摄影测量的结果，可以满足各种不同光照环境下摄影测量的要求。可以有效地消除因边缘效应带来的测试误差，提高测试的准确性。
【附图说明】
[0019]下面结合附图及实施例对本实用新型作进一步描述:
[0020]图1为本实用新型发光式摄影测量光学标志的结构示意图。
[0021]其中:1、LED阵列，2、衬底，11、基面。
【具体实施方式】
[0022]为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚明了，下面结合【具体实施方式】并参照附图，对本实用新型进一步详细说明。应该理解，这些描述只是示例性的，而并非要限制本实用新型的范围。此外，在以下说明中，省略了对公知结构和技术的描述，以避免不必要地混淆本实用新型的概念。
[0023]实施例:
[0024]如图1所示，一种发光式摄影测量光学标志，由底衬2和LED阵列I二大部分组成。
[0025]底衬2用毛面的黑色磁性橡胶制成，或者为真空吸盘，以便能有效吸附在被测对象的表面上。
[0026]LED阵列I用100?200个单一波长的发光二极管均匀排列在基面11上构成一个发光体，LED阵列I可以排列成圆形也可以排列成矩形或三角形等其他规则的图形，其目的是为了获得便于识别、且边缘清晰的图像。
[0027]LED阵列I采用粘结剂粘在底衬I上，LED阵列I和底衬2的总厚度为25mm?40mmo
[0028]由于LED阵列I发出的是单一波长的光，只需在摄影测量所用固体图像传感器的前端加装一个滤光镜过滤到掉环境光，则摄影测量所测的对象就只是由LED阵列制成的发光式光学标志，即无论环境光是强还是弱都不会影响到摄影测量的结果。换言之，本发明发光式光学标志彻底克服了反光式光学标志的缺点，是摄影测量理想的光学标志，可以满足各种不同光照环境下摄影测量的要求。
[0029]发光体不限于上述的LED阵列结构，也可以为单个LED灯或者其他的发光物体。
[0030]应当理解的是，本实用新型的上述【具体实施方式】仅仅用于示例性说明或解释本实用新型的原理，而不构成对本实用新型的限制。因此，在不偏离本实用新型的精神和范围的情况下所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。此外，本实用新型所附权利要求旨在涵盖落入所附权利要求范围和边界、或者这种范围和边界的等同形式内的全部变化和修改例。
【主权项】
1.一种发光式摄影测量光学标志，包括用于吸附的衬底，其特征在于，所述衬底上还设置有发光体，所述发光体为规则图形。2.根据权利要求1所述的发光式摄影测量光学标志，其特征在于，所述衬底由毛面的黑色磁性橡胶制成或者为真空吸盘。3.根据权利要求1或2所述的发光式摄影测量光学标志，其特征在于，所述发光体为LED阵列，所述LED阵列由100?200个单一波长的发光二极管均匀排列在基面上。4.根据权利要求3所述的发光式摄影测量光学标志，其特征在于，所述LED阵列采用粘结剂粘在底衬上，LED阵列和底衬的总厚度为25mm?40mm。5.根据权利要求3所述的发光式摄影测量光学标志，其特征在于，所述发光体为圆形、矩形或者三角形。
【专利摘要】<b>本实用新型公开了一种发光式摄影测量光学标志，包括用于吸附的衬底，其特征在于，所述衬底上还设置有发光体，所述发光体为规则图形。无论环境光是强还是弱都不会影响到摄影测量的结果，可以满足各种不同光照环境下摄影测量的要求。可以有效地消除因边缘效应带来的测试误差，提高测试的准确性。</b>
【IPC分类】G01C15/02
【公开号】CN204902839
【申请号】CN201520620822
【发明人】郑郧
【申请人】郑郧
【公开日】2015年12月23日
【申请日】2015年8月18日