专利名称：印章核对装置、印章核对方法及印章核对程序的制作方法
技术领域：
本发明涉及将核对对象的印迹作为核对印迹图像输入，形成重叠了预先登记好的登记印迹图像与所述核对印迹图像的重叠图像，并根据所述重叠图像来进行核对的印章核对装置、印章核对方法及印章核对程序，更详细地说，涉及当重叠了类似的核对印迹图像与登记印迹图像时，能够高效地发现差异部分并进行核对的印章核对装置、印章核对方法及印章核对程序。
背景技术：
迄今，为了使在银行等中进行的印章核对实现自动化，已设计出一种印章核对装置。
所述印章核对装置通过将从扫描仪等输入装置读入的印章的核对印迹图像和预先登记的登记印迹图像进行比较，能够自动判断核对印迹图像与登记印迹图像是否是从同一个印章得到的印迹。
在所述现有的印章核对装置中所使用的具体方法之一是利用向量计算进行印章核对(例如，参照专利文献1)。所述专利文献1中所公开的印章核对装置从核对印迹图像及登记印迹图像分别形成浓度图像(濃淡画像)，并根据该浓度图像的浓度值来进行向量计算，算出核对率，从而使得不容易受位置偏移或者印迹模糊等的影响。
此外，在专利文献2所公开的印章核对装置中，为了防止核对印迹图像与登记印迹图像之间的位置偏移等，将各个图像分割成多个块，按每个块形成相关图像之后，只向具有所述相关图像的极大值的像素以及所述像素的邻近像素赋予像素值来形成插值极大值图像，并关于各块相加所述插值极大值图像来形成累积值图像，从而根据所述累积值图像来核对印章。
专利文献1日本专利特开2001-202514号公报专利文献2日本专利特开平9-288734号公报然而，由于现有的印章核对装置着眼于整体的差异量，因此在局部差异的情况下就无法进行正确的判断。具体地说，当重叠了核对印迹图像与登记印迹图像的时候，在局部存在较大的差异量时，在基于整体的差异量来进行判断的以往的印章核对装置中，即使局部差异量很大，也由于整体的差异量小，从而会作出核对印迹图像与登记印迹图像一致的错误判断。
即，在现有的印章核对装置中存在印章核对精度低的问题，因此目前非常重要的课题是实现对局部差异的印迹的正确判断，并提高核对精度。
发明内容
本发明是为了消除上述现有技术的缺陷、并解决研究课题而作出的，其目的在于，提供一种通过检测局部差异来提高核对精度的印章核对装置、印章核对方法以及印章核对程序。
与本发明第一方面相关的印章核对装置将核对对象的印迹作为核对印迹图像输入，形成重叠了预先登记好的登记印迹图像与所述核对印迹图像的重叠图像，并根据所述重叠图像来进行核对，其特征在于包括差异部分检测部件，检测所述重叠图像中的所述核对印迹图像与所述登记印迹图像的差异部分；特征量计算部分，算出表示所述差异部分的局部特征的特征量；判断部件，根据由所述特征量计算部件算出的特征量来判断所述核对印迹图像与所述登记印迹图像是否相一致。
根据本发明第一方面的发明，印章核对装置形成核对印迹图像与登记印迹图像之间的重叠图像，在重叠图像中检测核对印迹图像与登记印迹图像不一致的差异部分，从检测到的差异部分算出表示局部特征的特征量，并根据算出的特征量来判断核对印迹图像与登记印迹图像是否一致。
此外，与本发明第二方面相关的印章核对装置的特征在于，在本发明第一方面的发明中，所述特征量计算部件将所述重叠图像分割成多个区域，算出各区域中所述差异部分的像素数，并依次算出将所述像素数除以所述区域中所包含的全部像素数的差异比例，将所述算出的差异比例作为所述特征量。
根据本发明第二方面的发明，印章核对装置将重叠图像分割成多个区域并算出各区域内差异部分的像素数，进行依次算出差异比例的掩模(mask)图案处理，其中，所述差异比例是通过将像素数除以各区域内的全部像素数从而得到的。
此外，与本发明第三方面相关的印章核对装置的特征在于，在权利要求1的发明中，所述特征量计算部件从所述差异部分提取具有规定以上面积的差异形状，并将所述差异形状的面积值作为所述特征量来输出。
根据本发明第三方面的发明，印章核对装置从重叠图像检测出差异部分，从差异部分提取具有规定以上面积的差异形状，从而以差异形状的面积为基础来判断核对印迹图像与登记印迹图像是否一致。
此外，与本发明第四方面相关的印章核对方法将核对对象的印迹作为核对印迹图像输入，形成重叠了预先登记好的登记印迹图像与所述核对印迹图像的重叠图像，并根据该重叠图像来进行核对，其特征在于包括差异部分检测步骤，检测所述重叠图像中的所述核对印迹图像与所述登记印迹图像的差异部分；特征量计算步骤，计算表示所述差异部分的局部特征的特征量；判断步骤，根据由所述特征量计算步骤算出的特征量来判断所述核对印迹图像与所述登记印迹图像是否相一致。
根据本发明第四方面的发明，印章核对方法形成核对印迹图像与登记印迹图像的重叠图像，在重叠图像中检测核对印迹图像与登记印迹图像不一致的差异部分，从检测到的差异部分算出表示局部特征的特征量，并根据算出的特征量来判断核对印迹图像与登记印迹图像是否一致。
此外，与本发明第五方面相关的印章核对程序将核对对象的印迹作为核对印迹图像输入，形成重叠了预先登记好的登记印迹图像与所述核对印迹图像的重叠图像，并根据所述重叠图像来进行核对，其特征在于包括差异部分检测过程，检测所述重叠图像中所述核对印迹图像与所述登记印迹图像的差异部分；特征量计算过程，算出表示所述差异部分的局部特征的特征量；判断过程，根据由所述特征量计算步骤算出的特征量来判断所述核对印迹图像与所述登记印迹图像是否相一致。
根据本发明第五方面的发明，印章核对程序形成核对印迹图像与登记印迹图像的重叠图像，在重叠图像中检测核对印迹图像与登记印迹图像不一致的差异部分，从检测到的差异部分算出表示局部特征的特征量，并根据算出的特征量来判断核对印迹图像与登记印迹图像是否一致。
根据本发明第一方面的发明，印章核对装置形成核对印迹图像与登记印迹图像的重叠图像，在重叠图像中检测核对印迹图像与登记印迹图像不一致的差异部分，从检测到的差异部分算出表示局部特征的特征量，并根据检测到的特征量来判断核对印迹图像与登记印迹图像是否一致，因此，可获得通过有效检测出局部差异来高精度地进行核对的印章核对装置。
此外，根据本发明第二方面的发明，印章核对装置进行掩模图案处理，即，将重叠图像分割成多个区域来算出各区域中差异部分的像素数，并依次算出将像素数除以各区域内的所有像素数而获得差异比例，因此，可获得通过有效检测出局部差异来高精度地进行核对的印章核对装置。
此外，根据本发明第三方面的发明，印章核对装置从重叠图像部分检测出差异部分，从差异部分提取具有规定以上面积的差异形状，并以差异形状的面积为基础来判断核对印迹图像与登记印迹图像是否一致，因此，可获得通过有效检测出局部差异来高精度地进行核对的印章核对装置。
此外，根据本发明第四方面的发明，印章核对方法形成核对印迹图像与登记印迹图像的重叠图像，在重叠图像中检测核对印迹图像与登记印迹图像不一致的差异部分，从检测到的差异部分算出表示局部特征的特征量，并根据算出的特征量来判断核对印迹图像与登记印迹图像是否一致，因此，可获得通过有效检测出局部差异来高精度地进行核对的印章核对方法。
此外，根据本发明第五方面的发明，印章核对程序形成核对印迹图像与登记印迹图像的重叠图像，在重叠图像中检测核对印迹图像与登记印迹图像不一致的差异部分，从检测到的差异部分算出表示局部特征的特征量，并根据算出的特征量来判断核对印迹图像与登记印迹图像是否相一致，因此，可获得通过有效检测出局部差异来高精度地进行核对的印章核对程序。
图1是表示本发明实施例一中的印章核对装置简要结构的简要结构图。
图2是在印章核对中所使用的图像的具体例子的说明图。
图3是图1所示的掩模内不一致处检测部分的处理说明图。
图4是图1所示的差异比例计算部分的处理说明图。
图5是说明图1所示的印章核对装置的处理动作的流程图。
图6是计算差异比例超过规定值的次数并根据所述结果进行印章核对时的处理动作流程图。
图7是说明本发明实施例二中的印章核对装置的简要结构的简要结构图。
图8是根据图7所示的差异检测部分的处理说明图。
图9是掩模内所包含的核对印迹不一致部分及登记印迹不一致部分的具体例子示意图。
图10是图7所示的印章核对装置20的处理动作流程图。
图11是本发明实施例三中的印章核对装置70的简要结构说明图。
图12是使用平滑处理的核对处理的概念说明图。
图13是说明图11所示的印章核对装置的处理动作的流程图。
具体实施例方式
下面，参照附图，详细说明本发明印章核对装置、印章核对方法以及印章核对程序的适宜的实施方式。
首先说明本发明实施例一中的印章核对的概念。实施例一所示的印章核对装置在形成重叠图像之后，通过对重叠图像进行掩模图案处理来检测出局部差异，其中，所述重叠图像是重叠作为印章核对对象的核对印迹图像和预先登记好的登记印迹图像而形成的。
图1是表示本发明实施例一中的印章核对装置简要结构的简要结构图。如该图所示，印章核对装置1连接在扫描仪2以及显示器15上，将利用扫描仪2引入的印迹图像和预先登记在印章核对装置1中的印迹图像进行比较，并将比较结果显示在显示器15上。
这里，印章核对装置1在其内部具有输入部分3、预处理部分4、重叠处理部分5、登记图像存储部分6、差异检测部分7、判断部分8、掩模图案处理部分9以及输出部分10。
输入部分3读入由扫描仪2引入的作为核对对象的印章的印迹图像，并将读入的印迹图像输出到预处理部分4中。预处理部分4对输入的图像进行印迹部分的剪切处理，生成如图2所示的核对印迹图像50。并且，预处理部分4将生成的核对印迹图像50输出到重叠处理部分5中。
登记图像存储部分6将预先登记的印迹图像作为登记印迹图像存储。
当从预处理部分4输入了核对印迹图像50时，重叠处理部分5从登记图像存储部分6中读取与输入的核对印迹图像50相对应的登记印迹图像51，并形成重叠了核对印迹图像50与登记印迹图像51的重叠图像52。
差异检测部分7在其内部具有一致处检测部分7a以及不一致处检测部分7b。一致处检测部分7a进行从重叠图像52剪切核对印迹图像50与登记印迹图像51一致的一致部分53的处理。此外，不一致处检测部分7b进行从重叠图像52剪切核对印迹图像50与登记印迹图像51有差异的不一致部分54的处理。
判断部分8将通过差异检测部分7剪切的一致部分53以及不一致部分54为基础，进行判断核对印迹图像50与登记印迹图像51是否一致的处理。具体地说，判断部分8在其内部具有一致率计算部分8a以及一致处消除部分8b。
一致率计算部分8a从一致部分53算出一致像素数，同时从不一致部分54算出不一致像素数。而且，一致率计算部分8a将一致像素数除以相加一致像素数与不一致像素数而得到的相加值，算出一致率。即，所述一致率是表示一致部分在印迹整体中的比率的值。当所述一致率不足规定值时，判断部分8作出核对印迹图像50与登记印迹图像51不一致的判断，并通过输出部分10将判断结果输出到显示器15上。
另一方面，如果一致率为规定值以上，则一致处消除部分8b从重叠图像52消除由一致处检测部分8剪切的一致部分53，生成如图2所示的不一致图像55，输出到掩模图案处理部分9中。
掩模图案处理部分9在其内部具有掩模内不一致处检测部分9a以及差异比例计算部分9b。掩模内不一致处检测部分9a进行如下处理，即，对不一致图像55设定恒定大小的掩模，依次移动所述掩模的位置并计算各掩模位置中不一致图像55的像素数。此外，差异比例计算部分9b算出差异比例，并将其输出到判断部分8中，其中，所述差异比例是将由掩模内不一致处检测部分9a检测到的像素数除以掩模66内所包含的全部像素数而得到的。
即，差异比例是表示恒定掩模内不一致部分的大小的值。
若该值很大，则表示差异集中存在于该掩模位置。判断部分8以该差异比例为基础，再次判断核对印迹图像50与登记印迹图像51是否一致，并通过输出部分10将判断结果显示在显示器15上。
这里，举出具体例子来说明掩模图案处理部分9的掩模图案处理。图3是掩模内不一致处检测部分9a的处理说明图，图4是差异比例计算部分9b的处理说明图。如图3所示，掩模内不一致处检测部分9a针对不一致图像55设定规定大小的掩模66，并计算掩模内的像素数。如果掩模内的像素数的计算结束，则如图3所示，掩模内不一致处检测部分9a依次横向移动掩模位置，并计算各掩模内的像素数。
并且，如果掩模的横向移动结束，则掩模内不一致处检测部分9a如图3所示将掩模位置向纵向偏移后，重复进行相同的处理。这样，通过横向及纵向依次移动掩模位置，能够对于整个不一致图像55检测出局部差异。
另外，如图4所示，差异比例计算部分9b通过将掩模内不一致像素67的个数除以掩模66中所包含的所有像素数来算出不一致比例。在图4中，由于掩模66的大小为每边12像素，因此，整个掩模66的像素数为144像素。另一方面，掩模66中所包含的不一致像素的个数为84像素，所以差异比例从84/144得到为58％。
接着，对印章核对装置1的处理动作进行说明。图5是说明印章核对装置1的处理动作的流程图。如该图所示，如果输入部分3引入了由扫描仪2读取的印章的印迹图像(步骤S101)，则预处理部分4进行输入的印迹图像的印迹区域的剪切处理，并将生成的核对印迹图像50输出到重叠处理部分5中(步骤S102)。
之后，重叠处理部分5选择与输入的印迹图像50相对应的登记印迹图像51(步骤S103)，生成重叠了核对印迹图像50与登记印迹图像51的重叠图像52(步骤S104)。接着，差异检测部分7进行一致部分53以及不一致部分54的剪切(步骤S105)。
然后，判断部分8从一致部分53以及不一致部分54算出一致率，进行一致率与规定值的比较(步骤S106)。当一致率不足规定值时(步骤S106，否)，判断部分8作出核对印迹图像50与登记印迹图像51不一致的判断，并通过输出部分10将判断结果显示在显示器15上(步骤S107)，结束处理。
另一方面，当一致率为规定值以上时(步骤S106，是)，一致处消除部分8b从重叠图像52消除一致部分53从而形成不一致图像55，并输出到掩模图案处理部分9中(步骤S108)。进而，掩模图案处理部分9针对不一致图像55设定掩模66，计算掩模66内的不一致像素(步骤S109)，算出差异比例并将其输出到判断部分8中(步骤S110)。
如果差异比例为规定值以上(步骤S111，是)，则判断部分8判断核对印迹图像50与登记印迹图像51不一致，并通过输出部分10将判断结果显示在显示器15上(步骤S107)，结束处理。
另一方面，如果差异比例不足规定值(步骤S111，否)，则掩模图案处理部分9判断对于不一致图像55全部范围的差异比例的计算是否结束(步骤S112)，当差异比例的计算还没有结束时(步骤S112，否)，移动掩模66的位置(步骤S113)，计算不一致像素数(步骤S109)。
与此相反，如果对于不一致图像55全部范围的差异比例的计算结束(步骤S112，是)，则判断部分8作出核对印迹图像50与登记印迹图像51一致的判断，并通过输出部分10将判断结果显示在显示器15上(步骤S114)，结束处理。
如此，从核对印迹图像50及登记印迹图像51形成不一致图像55，对不一致图像55进行掩模图案处理，从而能够检测核对印迹图像50与登记印迹图像51的局部差异来正确地判断核对印迹图像50与登记印迹图像51是否一致。
然而，在图5所示的处理流程中，只要检测到一次差异比例为规定值以上时就判断印迹不一致，但是，例如也可以在检测到差异比例为规定值以上的次数超过预先设定的次数时，判断为不一致。
在图6中示出了计算差异比例为规定值以上的次数并根据该计算结果来进行印章核对时的处理动作。如该图所示，如果输入部分3引入了由扫描仪2读取的印章的印迹图像(步骤S201)，则预处理部分4进行输入的印迹图像的印迹区域的剪切处理，并将生成的核对印迹图像50输出到重叠处理部分5中(步骤S202)。
然后，重叠处理部分5选择与输入的核对印迹图像50相对应的登记印迹图像51(步骤S203)，生成重叠了核对印迹图像50与登记印迹图像51的重叠图像52(步骤S204)。接着，差异检测部分7进行一致部分53及不一致部分54的剪切(步骤S205)。
然后，判断部分8从一致部分53及不一致部分54算出一致率，进行一致率与规定值的比较(步骤S206)。当一致率不足规定值时(步骤S206，否)，判断部分8作出核对印迹图像50与登记印迹图像51为不一致的判断，并通过输出部分10将判断结果显示在显示器15上(步骤S207)，结束处理。
另一方面，当一致率为规定值以上时(步骤S206，是)，一致处消除部分8b从重叠图像52消除一致部分53从而形成不一致图像55，并将其输出到掩模图案处理部分9中(步骤S208)。另外，掩模图案处理部分9针对不一致图像55设定掩模66，并计算掩模66内的不一致像素数(步骤S209)，从而算出差异比例并将其输出到判断部分8中(步骤S210)。
如果差异比例为规定值以上，则判断部分8确认差异比例超过规定值的次数(步骤S212)。如果差异比例超过规定值的次数达到了n次(步骤S212，是)，则判断部分8作出核对印迹图像50与登记印迹图像51不一致的判断，并将判断结果通过输出部分10显示在显示器15上(步骤S207)，结束处理。
另一方面，当差异比例不足规定值(步骤S211，否)或者差异比例超过规定值的次数不足n次(步骤S212，否)时，掩模图案处理部分9判断对于不一致图像55全部范围的差异比例的计算是否已结束(步骤S213)。当差异比例的计算没有结束时(步骤S213，否)，掩模图案处理部分9移动掩模66的位置(步骤S214)，计算不一致像素数(步骤S209)。
与此相对，如果对于不一致图像55全部范围的差异比例的计算结束了(步骤S213，是)，则判断部分8作出核对印迹图像50与登记印迹图像5 1相一致的判断，并通过输出部分10将判断结果显示在显示器15上(步骤S215)，结束处理。
如上所述，在本实施例一的印章核对装置1中，从核对印迹图像50以及登记印迹图像51形成不一致图像55，对不一致图像55进行掩模图案处理，从而检测核对印迹图像50与登记印迹图像51的局部差异。因此，即使在核对印迹图像50与登记印迹图像51的整体一致率很高的情况下，也可以高精度地检测出局部差异，从而能够提高印迹的核对精度。
(实施例二)接着，对本发明的实施例二进行说明。在本实施例二中，当检测核对印迹图像与登记印迹图像的差异时，通过识别核对印迹图像相对于登记印迹图像的差异以及登记印迹图像相对于核对印迹图像的差异来判断整体的一致和不一致。
图7是用于说明本发明实施例二中的印章核对装置20的简要结构的简要结构图。如该图所示，在印章核对装置20中，差异检测部分21具有一致处检测部分21a、核对印迹不一致处检测部分21b以及登记印迹不一致处检测部分21c。
此外，掩模图案处理部分23具有掩模内核对印迹不一致处检测部分23a、掩模内登记印迹不一致处检测部分23b以及比率比例计算部分23c。由于其他部分的结构及动作与实施例一中所示的印章核对装置1相同，因此对相同的构成部分标注相同的标号并省略说明。
首先，对差异检测部分21的处理进行说明。图8是差异检测部分21的处理说明图。当由重叠处理部分5输出重叠了核对印迹图像与登记印迹图像的重叠图像60时，一致处检测部分21a进行剪切核对印迹图像与登记印迹图像相一致的部分即一致部分61的处理。
另一方面，核对印迹不一致处检测部分21b进行从重叠图像60剪切核对印迹图像相对于印迹图像有差异的部分即核对印迹不一致部分62的处理。此外，核对印迹不一致处检测部分21c进行从重叠图像60剪切登记印迹图像相对于核对印迹图像有差异的部分即登记印迹不一致部分63的处理。
当掩模图案处理部分23对不一致图像进行掩模图案处理时，对掩模内所包含的核对印迹不一致部分62的像素数与登记印迹不一致部分63的像素数进行比较。图9是掩模内所包含的核对印迹不一致部分62及登记印迹不一致部分63的具体例子示意图。
掩模内核对印迹不一致处检测部分23a计算掩模64内所包含的核对印迹不一致部分62的像素数，并将其作为核对印迹不一致像素数62a输出。此外，掩模内登记印迹不一致处检测部分23b计算掩模64内所包含的登记印迹不一致部分63的像素数，并将其作为登记印迹不一致像素数63a输出。
另一方面，比率比例计算部分23c计算核对印迹不一致像素数62a与登记印迹不一致像素数63a之差的绝对值，进而将算出的差绝对值除以核对印迹不一致像素数62a与登记印迹不一致像素数63a之和，并将得到的值作为比率比例。
所述比率比例的分母(核对印迹不一致像素数62a与登记印迹不一致像素数63a之和)是掩模64的内部存在的不一致部分的总量，不一致部分越大该值就越大。并且，核对印迹不一致像素数62a越接近登记印迹不一致像素数63a，比率比例的分子(核对印迹不一致像素数62a与登记印迹不一致像素数63a之差的绝对值)所取的值就越小。
因此，不一致部分越是集中于核对印迹不一致部分62与登记印迹不一致像素数63中的一个上，比率比例所取的值就越大，它是表示不一致的偏倚指标。
利用所述比率比例，可以严格地区别掩模内存在的差异是由核对印迹图像的偏移、字迹模糊、污染等导致的，还是由核对印迹图像与登记印迹图像之间的形状差别而导致的。
例如，当核对印迹图像的形状与登记印迹图像的形状不同时，就会分别产生核对印迹图像相对于登记印迹图像的差异和登记印迹图像相对于核对印迹图像的差异。其结果比率比例的值变小。
另一方面，当核对印迹图像产生了偏移、字迹模糊、污染等时，就会显著地产生核对印迹图像相对于登记印迹图像的差异、和登记印迹图像相对于核对印迹图像的差异中的某一个。其结果比率比例取较大值。
因此，通过从核对印迹图像以及登记印迹图像算出比率比例，并基于该数值来判断印迹整体的一致和不一致，由此，可以严格地区别开由印迹的模糊或污染等所导致的差异和由印迹的形状差别所导致的差异，从而能够检测出局部形状差异来进行核对。
接着，说明印章核对装置20的处理动作。图10是用于说明印章核对装置20的处理动作的流程图。如该图所示，如果输入部分3引入了由扫描仪2读取的印章的印迹图像(步骤S301)，则预处理部分4进行印迹图像的印迹区域的剪切处理，并将生成的核对印迹图像输出到重叠处理部分5中(步骤S302)。
然后，重叠处理部分5选择与输入的核对印迹图像相对应的登记印迹图像(步骤S303)，生成重叠了核对印迹图像与登记印迹图像的重叠图像60(步骤S304)。接着，差异检测部分21进行一致部分61、核对印迹不一致部分62以及登记印迹不一致部分63的剪切(步骤S305)。
然后，判断部分8从一致部分61、核对印迹不一致部分62以及登记印迹不一致部分63算出一致率，并进行一致率与规定值的比较(步骤S306)。当一致率不足规定值时(步骤S306，否)，判断部分8作出核对印迹图像与登记印迹图像不一致的判断，并通过输出部分14将判断结果显示在显示器15上(步骤S307)，结束处理。
另一方面，当一致率为规定值以上时(步骤S306，是)，一致处消除部分8b从重叠图像60消除一致部分61从而形成不一致图像，并将其输出到掩模图案处理部分23中(步骤S308)。进而，掩模图案处理部分23针对不一致图像设定掩模64，并计算掩模64内的核对印迹不一致像素数62a(步骤S309)，同时计算掩模64内的登记印迹不一致像素数63a(步骤S310)。
然后，比率比例计算部分23c从核对印迹不一致像素数62a以及登记印迹不一致像素数63a算出比率比例，输出到判断部分8中(步骤S311)。
如果比率比例为规定值以下(步骤S312，是)，则判断部分8作出核对印迹图像与登记印迹图像不一致的判断，并通过输出部分14将判断结果显示在显示器15上(步骤S307)，结束处理。
另一方面，如果比率比例大于规定值(步骤S312，否)，则掩模图案处理部分23判断对于不一致图像全部范围的比率比例的计算是否结束(步骤S313)，当比率比例的计算还没有结束时(步骤S313，否)，移动掩模的位置(步骤S314)，计算核对印迹不一致像素数62a(步骤S309)。
与此相反，如果对于不一致图像全部范围的比率比例的计算已经结束(步骤S313，是)，则判断部分8作出核对印迹图像与登记印迹图像相一致的判断，并通过输出部分14将判断结果显示在显示器15上(步骤S315)，结束处理。
如上所述，在所述实施例二的印章核对装置20中，从重叠了核对印迹图像与登记印迹图像的重叠图像检测出核对印迹图像相对于登记印迹图像的差异、和登记印迹图像相对于核对印迹图像的差异，并在进行掩模图案处理时利用作为不一致的偏倚指标的比率比例，由此检测核对印迹图像与登记印迹图像之间的局部形状差异。
因此，即使在核对印迹图像存在偏移、模糊、污染等的情况下，也可以严格地区别开由印迹模糊等导致的差异和由形状差别导致的差异，从而可提高印迹的核对精度。
另外，在所述实施例二中，在掩模图案处理中只有检测到一次比率比例为规定值以下，就判断印迹不一致，但是与实施例一所示的差异比例的情况一样，当然也可以在检测到比率比例为规定值以下的次数超过预先设定的次数时，判断其不一致。
此外，在实施例一及实施例二中，在进行掩模图案处理时，对于各个掩模位置都进行了差异比例或者比率比例的值与规定值的比较，并且在差异比例的值为规定值以上时、或者在比率比例为规定以下时结束了处理，但是本发明并不局限于此，例如也可以对不一致图像整体进行掩模图案处理，并将差异比例的最大值或者比率比例的最小值与规定值进行比较。
另外，实施例一所示的差异比例和实施例二所示的比率比例不必一定要单独使用，当然也可以同时使用差异比例与比率比例来进行核对。
(实施例三)下面，说明对本发明实施例三。在上述实施例一及实施例二中，通过掩模图案处理来检测核对印迹图像与登记印迹图像之间的局部差异，但是在本实施例三中，将说明利用平滑处理来检测局部差异的印章核对装置。
图11是本发明实施例三中的印章核对装置70的简要结构说明图。如该图所示，印章核对装置70在判断部分71的内部除了具有一致率计算部分71a和一致处消除部分71b之外，还具有平滑处理部分71c，而没有掩模图案处理部分。由于其他部分的结构及动作与实施例一所示的印章核对装置1相同，因此对相同的构成部分标注相同的标号并省略说明。
参照图12来说明根据所述印章核对装置70的核对处理的概念。如图12所示，印章核对装置70首先形成重叠了核对印迹图像80与登记印迹图像81的重叠图像82。重叠图像82具有一致部分83与不一致部分84，因此，可通过从重叠图像82消除一致部分83来获得不一致图像85。
进而，如果对不一致图像85进行平滑处理，则细微的差异将被消除，从而只剩下较大的不一致部分(被平滑的不一致部分86)。因此，通过求出所述平滑处理后的被平滑的不一致部分86的大小(面积)，并将被平滑的不一致部分86的大小与规定值进行比较，可以根据核对印迹图像80与登记印迹图像81之间的局部差异来进行核对。
下面，说明印章核对装置70的处理动作。图13是说明印章核对装置70的处理动作的流程图。如该图所示，如果输入部分3引入了由扫描仪2读取的印章的印迹图像(步骤S401)，则预处理部分4进行输入的印迹图像的印迹区域的剪切处理，并将生成的核对印迹图像80输出到重叠处理部分5中(步骤S402)。
然后，重叠处理部分5选择与输入的核对印迹图像80相对应的登记印迹图像81(步骤S403)，并生成重叠了核对印迹图像80与登记印迹图像81的重叠图像82(步骤S404)。接着，差异检测部分7进行重叠图像82中一致部分83及不一致部分84的剪切处理(步骤S405)。
然后，判断部分71从一致部分83及不一致部分84算出一致率，并进行一致率与规定值的比较(步骤S406)。当一致率不足规定值时(步骤S406，否)，判断部分71作出核对印迹图像80与登记印迹图像81不一致的判断，并通过输出部分14将判断结果显示在显示器15上(步骤S407)，结束处理。
另一方面，当一致率超过规定值时(步骤S406，是)，一致处消除部分71b从重叠图像82消除一致部分83从而形成不一致图像85(步骤S408)。平滑处理部分71c对所述不一致图像85进行平滑处理，形成被平滑的不一致部分86(步骤S409)。之后，判断部分71算出被平滑的不一致部分86的大小，并将算出的大小值与规定值进行比较(步骤S411)。
如果被平滑的不一致部分86的大小为规定值以上(步骤S411，是)，则判断部分71作出核对印迹图像80与登记印迹图像81不一致的判断，并通过输出部分14将判断结果显示在显示器15上(步骤S407)，结束处理。
另一方面，如果被平滑的不一致部分86的大小不足规定值(步骤S411，否)，则判断部分71作出核对印迹图像80与登记印迹图像81相一致的判断，并通过输出部分14将判断结果显示在显示器15上(步骤S412)，结束处理。
另外，当通过平滑处理而获得了多个被平滑的不一致部分时，既可以算出各个被平滑的不一致部分的大小并将算出的大小的最大值与规定值进行比较，也可以将被平滑的不一致部分的大小的合计值与规定值进行比较。
如上所述，在所述实施例三的印章核对装置70中，从核对印迹图像80及登记印迹图像81形成不一致图像85，并对不一致图像85进行平滑处理，由此检测出核对印迹图像80与登记印迹图像81之间的局部差异。
因此，即使在核对印迹图像80与登记印迹图像81的整体一致率较高的情况、或者在细微差异较多的情况下，也能够高精度地检测出局部差异，从而能够提高印迹的核对精度。此外，由于可通过相对于图像整体的处理来检测局部差异，所以能够简化装置结构，减少处理工作量。
另外，在上述实施例一、实施例二及实施例三中，作为核对结果输出“一致”、“不一致”中的任一个，但是本发明的应用并不局限于此，例如也可以将核对印迹图像与登记印迹图像的核对结果作为“核对率”以百分比等形式进行表示。
另外，当利用百分比来输出核对结果时，例如也可以作为初级处理(一次处理)来形成图像整体的核对率，然后，通过进行求解上述局部差异的处理来修正经过初级处理所获得的核对率。
作为初级处理的例子，例如将重叠图像中的一致像素数除以通过重叠处理而获得的重叠图像整体的像素数即可。具体地说，当重叠图像整体的像素数为5496像素，并且，其中核对印迹图像与登记印迹图像相一致的像素数为4376像素时，初级处理的核对率由“4376÷5496”可得“79.6％”。对于所述初级处理的核对率“79.6％”，使用局部差异的比率来进行修正，由此可简单并准确地进行印章的核对。
工业实用性如上所述，本发明的印章核对装置、印章核对方法及印章核对程序适用于要求高核对精度的印章核对。
权利要求
1.一种印章核对装置，所述装置将核对对象的印迹作为核对印迹图像输入，形成重叠了预先登记好的登记印迹图像与所述核对印迹图像的重叠图像，并根据所述重叠图像来进行核对，其特征在于包括差异部分检测部件，检测所述重叠图像中的所述核对印迹图像与所述登记印迹图像的差异部分；特征量计算部件，算出表示所述差异部分的局部特征的特征量；和判断部件，根据由所述特征量计算部件算出的特征量来判断所述核对印迹图像与所述登记印迹图像是否相一致。
2.如权利要求1所述的印章核对装置，其特征在于，所述特征量计算部件将所述重叠图像分割成多个区域，计算各区域中所述差异部分的像素数，并依次算出将所述像素数除以所述区域中所包含的全部像素数的差异比例，将所述算出的差异比例作为所述特征量。
3.如权利要求1所述的印章核对装置，其特征在于，所述差异部分检测部件分别检测所述核对印迹图像相对于所述登记印迹图像有差异的部分即第一差异处，和所述登记印迹图像相对于所述核对印迹图像有差异的部分即第二差异处；所述差异计算部件将所述重叠图像分割成多个区域，算出各区域中的表示第一差异处的像素数的第一差异像素数，和表示第二差异处的像素数的第二差异像素数，并依次算出将所述第一像素数与所述第二像素数之差的绝对值除以所述第一差异像素数与所述第二差异像素数的相加值的差异比率，将所述差异比率作为所述特征量。
4.如权利要求1所述的印章核对装置，其特征在于，所述特征量计算部件从所述差异部分提取具有规定以上面积的差异形状，并将所述差异形状的面积值作为所述特征量来输出。
5.如权利要求1至4中任一项所述的印章核对装置，其特征在于，所述差异部分检测部件还检测所述核对印迹图像与所述登记印迹图像相重叠的一致部分，所述特征量计算部件算出表示所述一致部分的像素数的一致像素数，当所述一致像素数为阈值以下时，所述判断部件作出所述核对印迹图像与所述登记印迹图像不一致的判断。
6.如权利要求1至4中任一项所述的印章核对装置，其特征在于，还包括整体一致率计算部件，所述整体一致率计算部件算出所述核对印迹图像整体与所述登记印迹图像整体的一致率来作为整体一致率；所述判断部件根据由所述特征量计算部件算出的特征量与所述整体一致率来判断所述核对印迹图像与所述登记印迹图像是否相一致。
7.一种印章核对方法，所述方法将核对对象的印迹作为核对印迹图像输入，形成重叠了预先登记好的登记印迹图像与所述核对印迹图像的重叠图像，并根据所述重叠图像来进行核对，其特征在于包括差异部分检测步骤，检测所述重叠图像中所述核对印迹图像与所述登记印迹图像的差异部分；特征量计算步骤，算出表示所述差异部分的局部特征的特征量；和判断步骤，根据所述特征量计算步骤算出的特征量来判断所述核对印迹图像与所述登记印迹图像是否相一致。
8.如权利要求7所述的印章核对方法，其特征在于，所述特征量计算步骤将所述重叠图像分割成多个区域，计算各区域中所述差异部分的像素数，并依次算出将所述像素数除以所述区域中所包含的全部像素数的差异比例，将所述算出的差异比例作为所述特征量。
9.如权利要求7所述的印章核对方法，其特征在于，所述差异部分检测步骤分别检测所述核对印迹图像相对于所述登记印迹图像有差异的部分即第一差异处，和所述登记印迹图像相对于所述核对印迹图像有差异的部分即第二差异处；所述差异计算步骤将所述重叠图像分割成多个区域，算出各区域中的表示第一差异处的像素数的第一差异像素数，和表示第二差异处的像素数的第二差异像素数，并依次算出将所述第一像素数与所述第二像素数之差的绝对值除以所述第一差异像素数与所述第二差异像素数的相加值的差异比率，将所述差异比率作为所述特征量。
10.如权利要求7所述的印章核对方法，其特征在于，所述特征量计算步骤从所述差异部分提取具有规定以上面积的差异形状，并将所述差异形状的面积值作为所述特征量来输出。
11.如权利要求7至10中任一项所述的印章核对方法，其特征在于，还包括整体一致率计算步骤，所述整体一致率计算步骤算出所述核对印迹图像整体与所述登记印迹图像整体的一致率来作为整体一致率；所述判断步骤根据由所述特征量计算步骤算出的特征量与所述整体一致率来判断所述核对印迹图像与所述登记印迹图像是否相一致。
12.一种印章核对程序，所述程序将核对对象的印迹作为核对印迹图像输入，形成重叠了预先登记好的登记印迹图像与所述核对印迹图像的重叠图像，并根据所述重叠图像来进行核对，其特征在于包括差异部分检测过程，检测所述重叠图像中所述核对印迹图像与所述登记印迹图像的差异部分；特征量计算过程，算出表示所述差异部分的局部特征的特征量；和判断过程，根据所述特征量计算步骤算出的特征量来判断所述核对印迹图像与所述登记印迹图像是否相一致。
13.如权利要求12所述的印章核对程序，其特征在于，所述特征量计算过程将所述重叠图像分割成多个区域，计算各区域中所述差异部分的像素数，并依次算出将所述像素数除以所述区域中所包含的全部像素数的差异比例，将所述算出的差异比例作为所述特征量。
14.如权利要求12所述的印章核对程序，其特征在于，所述差异部分检测过程分别检测所述核对印迹图像相对于所述登记印迹图像有差异的部分即第一差异处，和所述登记印迹图像相对于所述核对印迹图像有差异的部分即第二差异处；所述差异计算过程将所述重叠图像分割成多个区域，算出各区域中的表示第一差异处的像素数的第一差异像素数，和表示第二差异处的像素数的第二差异像素数，并依次算出将所述第一像素数与所述第二像素数之差的绝对值除以所述第一差异像素数与所述第二差异像素数的相加值的差异比率，将所述差异比率作为所述特征量。
15.如权利要求12所述的印章核对程序，其特征在于，所述特征量计算过程从所述差异部分提取具有规定以上面积的差异形状，将所述差异形状的面积值作为所述特征量来输出。
16.如权利要求12至15中任一项所述的印章核对程序，其特征在于，还包括整体一致率计算过程，所述整体一致率计算过程算出所述核对印迹图像整体与所述登记印迹图像整体的一致率来作为整体一致率；所述判断过程根据由所述特征量计算过程算出的特征量与所述整体一致率来判断所述核对印迹图像与所述登记印迹图像是否相一致。
全文摘要
在本发明中，扫描仪(2)输入印章的印迹图像，预处理部分(4)生成剪切印迹图像而获得的核对印迹图像，重叠处理部分(5)从登记图像存储部分(6)中读取与核对印迹图像对应的登记印迹图像。重叠处理部分(5)生成重叠了核对印迹图像与登记印迹图像的重叠图像。然后，差异检测部分(7)基于重叠图像检测出核对印迹图像与登记印迹图像的形状不一致的差异部分。此外，掩模图案处理部分(9)将差异部分分割成多个区域，并依次算出表示各区域中差异部分的比率的差异比例，判断部分(8)基于所述差异比例来判断核对印迹图像与登记印迹图像的一致和不一致。由此，检测出核对印迹图像与登记印迹图像的局部差异，从而提高印章核对的精度。
文档编号G06K9/62GK1622119SQ200410037350
公开日2005年6月1日 申请日期2004年4月27日 优先权日2003年11月28日
发明者稻冈秀行, 岸野琢已, 胜又裕 申请人:富士通株式会社, 富士通先端科技