一种触摸屏LOGO制作方法及触摸屏与流程

文档序号:12595590阅读:808来源:国知局
一种触摸屏LOGO制作方法及触摸屏与流程

本发明涉及显示器件领域,尤其涉及一种触摸屏LOGO制作方法。



背景技术:

智能化是后工业时代制造业最重要的发展趋势,触摸屏较好的解决了智能化进程中的人机交互瓶颈问题,并且改变其商业模式(以智能手机为典型),促进了整个产业链健康发展,因此拥有广阔前景,可已经广泛应用于手机、PDA/多媒体等电子产品中。按触摸感应原理,现有触摸屏主要分为电阻式、电容式、表面红外式触摸屏。其中,电容式触摸屏具有结构简单、透光率高、耐摩擦、耐环境湿度温度变化、使用寿命长、可实现多点触摸等优点,而日渐成为触摸屏的市场中心和市场焦点。

为了有效降低触控模块成本,同时满足终端消费性电子产品轻薄化市场趋势,近两年触控行业积极着手研发减少(Indium tin oxide,氧化铟锡)ITO薄膜或ITO玻璃用量,布局发展单层一体化电容式触摸屏(one glass solution,OGS)、内嵌式触控或玻璃薄膜技术。其中OGS是一种新型的电容式触摸屏,将ITO玻璃与保护玻璃集成为一片玻璃。OGS制程中,玻璃表面一般先丝网印刷边框油墨再制作线路,再切割、CNC,然后进行LOGO丝网印刷。但触摸屏LOGO一般为镜面银设计,需要使用镜面银油墨,镜面银油墨中的树脂混有金属铝片,丝网印刷中若溢墨会造成触摸屏导电膜接合区不良,影响触摸屏的电性能,导致OGS良率降低。



技术实现要素:

本发明所要解决的技术问题在于提供一种触摸屏LOGO制作方法,以提高触摸屏的良率。

为了实现上述目的,本发明实施方式提供如下技术方案:

本发明供了一种触摸屏LOGO制作方法,包括:

通过印刷在基板上形成边框,以形成第一半成品,其中,所述边框上具有预留区域;

在所述第一半成品上镀金属膜,以形成第二半成品;

利用掩膜对所述第二半成品曝光显影,以将掩膜上的预设图案形成在所述第二半成品的对应所述预留区域的区域上;以及

通过对具有所述图案的所述第二半成品进行蚀刻、剥膜在所述预留区域上形成金属LOGO图案。

其中,利用掩膜对所述第二半成品曝光显影,以将掩膜上的预设图案形成在所述第二半成品的对应所述预留区域的区域上包括:

在所述第二半成品上涂布光阻剂;

利用预设波长的紫外线通过掩膜后照射在涂有光阻剂的第二半成品上,从而将所述掩膜上的预设图案完整地复制到所述第二半成品的对应所述预留区域的区域上。

其中,所述光阻剂为正型光阻剂,所述正型光阻剂在所述预设波长的紫外线的照射下光阻剂的光照部分发生分解,溶解度增大,在所述第二半成品的对应所述预留区域的区域上形成与所述掩膜上的预设图案一致的图案。

其中,所述光阻剂为负型光阻剂,所述负型光阻剂在所述预设波长的紫外线的照射下光阻剂的光照部分发生交联反应,溶解度变小,在所述第二半成品的对应所述预留区域的区域上形成与所述掩膜上的预设图案相反的图案。

其中,通过对具有所述图案的所述第二半成品进行蚀刻、剥膜在所述预留区域上形成金属LOGO图案包括:

采用混合酸作为蚀刻剂与所述第二半成品上的未被所述光阻剂保护的金属膜发生化学反应,蚀刻得到LOGO图案,以形成第三半成品;

通过预设浓度的碱液剥离所述第三半成品的光阻剂,从而在所述预留区域得到金属LOGO图案。

其中,所述方法还包括:

利用掩膜对所述第二半成品曝光显影,以将掩膜上的预设图案形成在所述第二半成品的对应所述预留区域的区域上的同时,掩膜上的预设外围走线图案形成在所述第二半成品的对应所述边框的区域上;以及

通过对具有预设图案及预算外围走线图案的所述第二半成品进行蚀刻、剥 膜在所述预留区域上形成金属LOGO图案,并在所述边框上形成外围金属走线。

本发明还提供一种触摸屏,包括基板、边框及显示电路,所述基板包括边框区及由所述边框区围成的可视区,所述边框形成在所述边框区,所述显示线路形成在所述可视区,其中,所述边框区上具有预留区域,所述预留区域为在基板上进行油墨印刷边框时未印刷有油墨的区域,所述预留区域镀有金属LOGO。

其中,所述金属LOGO的厚度在2.5微米到3微米之间。

其中,所述金属LOGO由金属Ag或Mo-Al-Mo复合金属镀层形成。

其中,所述触摸屏还包括外围电路,所述外围电路形成在所述边框区并形成在印刷油墨层表面,且与所述金属LOGO一体成型。

其中,所述触摸屏为一体化电容式触摸屏。

本发明供了一种触摸屏LOGO制作方法,包括通过印刷在基板上形成边框,以形成第一半成品,其中,所述边框上具有预留区域;在所述第一半成品上镀金属膜,以形成第二半成品;利用掩膜对所述第二半成品曝光显影,以将掩膜上的预设图案形成在所述第二半成品的对应所述预留区域的区域上;以及通过对具有所述图案的所述第二半成品进行蚀刻、剥膜在所述预留区域上形成金属LOGO图案。因此,本发明的LOGO制作方法,不会出现传统LOGO制作中的溢墨问题,从而避免了油墨溢墨后导致触摸屏导电膜接合区的短路问题,因此,不会影响触摸屏的电性能,提高了触摸屏的良率。

附图说明

为了更清楚地说明本发明的技术方案,下面将对实施方式中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施方式,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以如这些附图获得其他的附图。

图1是本发明第一方案第一实施例提供的一种触摸屏LOGO制作方法的流程图。

图2是图1中步骤103的流程图。

图3是图1中步骤104的流程图。

图4是本发明第一方案第二实施例提供的一种触摸屏LOGO制作方法的流 程图。

图5为本发明第二方案实施例提供的一种触摸屏的示意图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施方式中的附图,对本发明实施方式中的技术方案进行清楚、完整地描述。

将理解,当一个元件或层被称为在另一元件或层“上”、“连接到”或“耦接到”另一元件或层时,它可以直接在另一元件或层上、直接连接到或耦接到另一元件或层,或者可以存在居间元件或层。相反,当一个元件被称为“直接在”另一元件或层上、“直接连接到”或“直接耦接到”另一元件或层时,不存在居间元件或层。相同的符合标记始终指代相同的元件。在此所用时,术语“和/或”包括一个或多个相关列举项目的任何及所有组合。

将理解,虽然这里可以使用术语第一、第二等描述各种元件、组件、区域、层和/或部分,但这些元件、组件、区域、层和/或部分不应受到这些术语限制。这些术语仅用于将一个元件、组件、区域、层或部分与另一元件、组件、区域、层或部分区别开。因此,以下讨论的第一元件、组件、区域、层或部分可以被称为第二元件、组件、区域、层或部分而不背离本发明的教导。

为便于描述,这里可以使用诸如“在…之下”、“在…下面”、“下”、“在…之上”、“上”等空间相对性术语来描述如图中所示的一个元件或特征与另一个(些)元件或特征的关系。将理解,空间相对性术语旨在涵盖除图中示出的取向之外,器件在使用或操作中的不同取向。例如,如果附图中的器件被翻转,则被描述为“在”其他元件或特征“之下”或“下面”的元件将会在其他元件或特征“上方”。因此,示例性术语“在…下面”可以涵盖之上和之下两种取向。器件可以以别的方式取向(旋转90度或其他取向),这里所用的空间相对性描述符被相应地解释。

这里所用的术语仅是为了描述特定实施例,并非要限制本发明。在这里使用时,除非上下文另有明确表述,否则单数形式“一”和“该”也旨在包括复数形式。将进一步理解,当在本说明书中使用时,术语“包括”和/或“包含”表明所述特征、整体、步骤、操作、元件和/或组件的存在,但不排除一个或多个其他特征、整体、步骤、操作、元件、组件和/或其组合的存在或增加。

除非另行定义,这里使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)都具有本发明所属领域内的普通技术人员所通常理解的相同含义。将进一步理解,诸如通用词典中所定义的术语,否则应当被解释为具有与它们在相关领域的语境中的含义相一致的含义,而不应被解释为理想化或过度形式化的意义,除非在此明确地如此定义。

请参阅图1,本发明第一方案第一实施例提供一种触摸屏LOGO制作方法。所述方法包括如下步骤:

步骤101,通过印刷在基板上形成边框,以形成第一半成品,其中,所述边框上具有预留区域。

需要说明的是,所述基板上形成边框是通过丝网印刷油墨得到。可选地,丝网印刷可以采用丝、尼龙、聚酯纤维或不锈钢金属丝网。将上述丝网绷在网框上,使其张紧固定。采用手工刻漆膜或光化学制版的方法制得丝网印刷所用网版。印刷时,在丝网印版的一端倒入油墨,油墨在无外力的作用下不会自行通过网孔,当用刮墨板以一定的倾斜角及压力刮动油墨时,油墨通过网版转移到网版下的基板上。网版与基板之间有间隙,印刷时,在刮墨板的作用下,印版与基板形成一条压印线,无数条压印线构成印刷面,从而实现边框的形成。其中,丝网印刷得到的最小压印线宽度可做到100μm左右。印刷有边框的基板构成了所述第一半成品。所述预留区域为在基板上进行油墨印刷边框时未印刷有油墨的区域。

步骤102,在所述第一半成品上镀金属膜,以形成第二半成品。

需要说明的是,所述金属膜为Ag膜或Mo-Al-Mo金属膜。在本实施例中,在所述第一半成品上镀金属膜是采用磁控溅射方式在所述第一半成品上镀金属膜。具体地,真空磁控溅射技术利用Ar-O2混合气体中的等离子体在电场和交变磁场的作用下,被加速的高能粒子轰击靶材表面。能量交换后,靶材表面的原子脱离原晶格而逸出,转移到基体表面而成膜。在磁控溅射镀膜技术中,溅出的原子是与具有数千电子伏的高能离子交换能量后飞溅出来的,其能量较高,往往比蒸发原子高出1~2个数量级,因而用溅射法形成的薄膜与衬底的粘附性较蒸发更佳。若在溅射时衬底加适当的偏压,可以兼顾衬底的清洁处理,这对生成薄膜的台阶覆盖也有好处。另外,用溅射法可以制备不能用蒸发工艺制备的高熔点、低蒸气压物质膜,便于制备化合物或合金的薄膜。

步骤103,利用掩膜对所述第二半成品曝光显影,以将掩膜上的预设图案形成在所述第二半成品的对应所述预留区域的区域上。

需要说明的是,本实施例采用湿法显影方式。显影液为浓度较低的碱液,如KOH、NaOH、有机碱等。

请参阅图2,可选地,本步骤S103可以包括:

步骤1031,在所述第二半成品上涂布光阻剂。

需要说明的是,本实施例中,采用旋涂方式或辊涂方法在所述第二半成品表面上涂布光阻剂。在其他实施例中,也可以采用其他的方式在所述第二半成品表面上涂布光阻剂。

步骤1032,利用预设波长的紫外线通过掩膜后照射在涂有光阻剂的第二半成品上,从而将所述掩膜上的预设图案完整地复制到所述第二半成品的对应所述预留区域的区域上。

需要说明的是,在本实施例中,所述光阻剂为正型光阻剂。所述正型光阻剂在所述预设波长的紫外线的照射下光阻剂的光照部分发生分解,溶解度增大,在所述第二半成品的边框区域上形成与所述掩膜上的预设图案一致的图案。在其他的实施例中,所述光阻剂也可以为负型光阻剂。所述负型光阻剂在所述预设波长的紫外线的照射下光阻剂的光照部分发生交联反应,溶解度变小,在所述第二半成品的边框区域上形成与所述掩膜上的预设图案相反的图案。

步骤104,通过对具有所述图案的所述第二半成品进行蚀刻、剥膜在所述预留区域上形成金属LOGO图案。

请参阅图3,可选地,本步骤S104可以包括:

步骤1041,采用混合酸作为蚀刻剂与所述第二半成品上的未被所述光阻剂保护的金属膜发生化学反应,蚀刻得到LOGO图案,以形成第三半成品。

其中,所述混合酸包括磷酸及硝酸。

步骤1042,通过预设浓度的碱液剥离所述第三半成品的光阻剂,从而在所述预留区域得到金属LOGO图案。

所述预设浓度的碱液为KOH、NaOH或有机碱。

在本实施例中,触摸屏LOGO制作方法包括:通过印刷在基板上形成边框,以形成第一半成品,其中,所述边框上具有预留区域;在所述第一半成品上镀金属膜,以形成第二半成品;利用掩膜对所述第二半成品曝光显影,以将掩膜 上的预设图案形成在所述第二半成品的对应所述预留区域的区域上;以及通过对具有所述图案的所述第二半成品进行蚀刻、剥膜在所述预留区域上形成金属LOGO图案。因此,本发明的LOGO制作方法,不会出现传统LOGO制作中的溢墨问题,从而避免了油墨溢墨后导致触摸屏导电膜接合区的短路问题,因此,不会影响触摸屏的电性能,提高了触摸屏的良率。

请参阅图4,本发明第一方案第二实施例提供一种触摸屏LOGO制作方法。所述第二实施例提供的方法与所述第一实施例提供的方法相似,在所述第二实施例中,所述方法步骤401-404。其中,所述步骤401与所述步骤101相同。所述步骤402与所述步骤102相同。故,步骤401及402不再赘述。

步骤403,利用掩膜对所述第二半成品曝光显影,以将掩膜上的预设图案形成在所述第二半成品的对应所述预留区域的区域上的同时,掩膜上的预设外围走线图案形成在所述第二半成品的对应所述边框的区域上。

步骤404,通过对具有预设图案及预算外围走线图案的所述第二半成品进行蚀刻、剥膜在所述预留区域上形成金属LOGO图案,并在所述边框上形成外围金属走线。

需要说明的是,通过步骤403及404可知,所述金属LOGO与所述外围金属走线同时制作而成(即两者无缝连接),进一步提高了生产效率。且所述金属LOGO与所述外围金属走线材质相同。

另外,所述触摸屏LOGO制作方法包括通过印刷在基板上形成边框,以形成第一半成品,其中,所述边框上具有预留区域;在所述第一半成品上镀金属膜,以形成第二半成品;利用掩膜对所述第二半成品曝光显影,以将掩膜上的预设图案形成在所述第二半成品的对应所述预留区域的区域上的同时,掩膜上的预设外围走线图案形成在所述第二半成品的对应所述边框的区域上;以及通过对具有预设图案及预算外围走线图案的所述第二半成品进行蚀刻、剥膜在所述预留区域上形成金属LOGO图案,并在所述边框上形成外围金属走线。因此,本发明的LOGO制作方法,不会出现传统LOGO制作中的溢墨问题,从而避免了油墨溢墨后导致触摸屏导电膜接合区的短路问题,因此,不会影响触摸屏的电性能,提高了触摸屏的良率。

请参阅图5,本发明第二方案实施例提供一种触摸屏500。所述触摸屏包括基板510、边框及显示线路。所述基板510包括边框区512及由所述边框区512 围成的可视区514。所述边框形成在所述边框区512。所述显示线路形成在所述可视区514。其中,所述边框区上具有预留区域,所述预留区域为在基板上进行油墨印刷边框时未印刷有油墨的区域,所述预留区域镀有金属LOGO。如图所述,所述金属LOGO的图案可以为字母,如ABC。也可以根据实际需要更改为其他的图案。

在本实施例中,所述金属LOGO由金属Ag或Mo-Al-Mo复合金属镀层形成。所述触摸屏为一体化电容式触摸屏。所述金属LOGO的厚度在2.5微米到3微米之间。在其他实施例中,所述金属LOGO也可以根据实际需要为其他金属LOGO。

可选地,所述触摸屏500还包括外围电路(未示出)。所述外围电路形成在所述边框区,且与所述金属LOGO一体成型。

需要说明的是,所谓所述外围电路与所述金属LOGO一体成型为在结构上,所述外围电路与所述金属LOGO为无缝连接,且两者同时形成,材质相同。

在本实施例中,所述触摸屏500包括基板510、边框及显示线路。所述基板510包括边框区512及由所述边框区512围成的可视区514。所述边框形成在所述边框区512。所述显示线路形成在所述可视区514。其中,所述边框区上具有印刷油墨层及预留区域,所述预留区域为在基板上未被所述印刷油墨层覆盖的区域。所述预留区域镀有金属LOGO。因此,本发明触摸屏500不会出现传统触摸屏的导电膜接合区的短路问题,不会影响触摸屏500的电性能,从而提高了触摸屏500的良率。

以上所述是本发明的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也视为本发明的保护范围。

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