一种触摸屏的制作方法及触摸屏的制作方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种电容触摸屏技术领域，具体涉及一种触摸屏的制作方法及通过该制作方法制成的触摸屏。
【背景技术】
[0002]随着科技的不断发展，触摸屏作为一种简单、便捷的人机交互方式，已经广泛应用于我们日常生活的各个领域，比如手机、媒体播放器、导航系统、数码相机、相框、PDA、游戏设备、显示器、电器控制、医疗设备等。目前市场上触控技术的种类繁多，大致可以分为如下类型:电阻式、电容式、表面声波式、振波感应式、红外线式等。其中，电容式触摸屏(主要指其中的投射电容式)因技术门槛高、重量轻、尺寸应用广等特点，已成为市场的主导技术。其中，GFF技术由于使用Film膜，具有可弯曲性，同时由于良率较高，利于降低生产成本等优势成为目前主流的触摸屏技术。
[0003]如图1所示，以GFF电容触摸屏为例，GFF (英文全称:Glass-Film-Film，中文即:玻璃-薄膜-薄膜)电容屏是电容屏中的一种，其结构包括玻璃面板(G)和传感层，所述传感层的结构包括上线OCA (英文全称:0ptical Clear Adhesive，中文全称:光学透明胶)层、上线ITO (英文全称:Indium Tin Oxide，中文全称:氧化铟锡)薄膜(F)、下线OCA层和下线ITO薄膜(F)。所谓的上线ITO薄膜和下线ITO薄膜均为一在薄膜基体上形成有ITO图案层的层状结构，即上线ITO薄膜包括一上线薄膜基体和成型在所述上线薄膜基体上的上线ITO图案层，下线ITO薄膜包括一下线薄膜基体和成型在所述下线薄膜基体上的下线ITO图案层。
[0004]根据结构，目前多点式触控应用的诉求为高解析度、轻、薄、低成本。但是GFF架构在大尺寸应用上良率较差，在制程过程中，尤其是贴合过程中易发生ITO线路折断；同时含有两层Film膜及两层OCA使其厚度难以下降；而且随着ITO资源的稀缺，价格的可控性不强。GFF结构触摸屏虽破裂后还能保存触控功能，但比较厚、透光率低、制作工序较为繁琐，不利于降低人力及材料成本，且使用在便携式电子产品上时功耗较高，而且触摸屏轻薄化是触摸屏发展的主要趋势。
【发明内容】
[0005]为了解决上述现有技术的不足，本发明提供了一种工序简易、可操作性强、有利于提升触摸屏的应用性、可以有效降低整机厚度，实现产品真正的超薄方案的触摸屏制作方法，该制作方法将触控功能层在透明高分子制成的透明载板上，透明载板可以起到保护触控功能层的作用，同时增强触摸屏的抗静电能力和提高整体透光率，制成的超轻薄触摸屏盖板破裂后还能正常使用，增强其应用性。本发明还提供了一种由所述制作方法制作的触摸屏。
[0006]本发明所要解决的技术问题通过以下技术方案予以实现:
一种触摸屏的制作方法，包括以下步骤: (1)提供一基板；
(2)在基板上涂覆一层透明高分子材料并固化成透明载板；
(3)在透明载板上形成触控功能层；
(4)在触控功能层上贴合光学胶；
(5)剥离该基板，再将具有触控功能层的透明载板切割成预定尺寸规格的多个触摸屏主体；
(6)在触摸屏主体上绑定FPC组件和贴合盖板，制成触摸屏。
[0007]进一步地，所述步骤(5)包括:剥离该基板，并在透明载板上未贴合光学胶的一侧涂覆一保护层；再将具有触控功能层的透明载板切割成预定尺寸规格的触摸屏主体；在制成触摸屏后剥离该保护层。
[0008]进一步地，所述高分子材料为聚酰亚胺。
[0009]进一步地，所述透明载板的厚度为1~100 μ m。
[0010]进一步地，所述触控功能层包括ITO功能图案层；
或者，
所述触控功能层包括ITO功能图案层、涂覆在ITO功能图案层上的绝缘层、形成在绝缘层上导电图案层；
或者，
所述触控功能层包括ITO功能图案层、形成在ITO功能图案层上的导电图案层、涂覆在导电图案层上绝缘层；
或者，
所述触控功能层包括ITO桥、涂覆在ITO桥上绝缘层、形成在绝缘层上的ITO功能图案层、形成在ITO功能图案层上的导电图案层、涂覆在导电图案层上绝缘层。
[0011]进一步地，所述触控功能层的厚度为0.01-20 μπι。
[0012]进一步地，所述光学胶为OCA或OCR光学胶。
[0013]进一步地，所述光学胶的厚度为10~200 μηι。
[0014]进一步地，所述盖板为玻璃、蓝宝石、PMMA和PET的一种。
[0015]一种按照所述制作方法制成的触摸屏，其包括透明载板、形成在透明载板上的触控功能层、贴合在触控功能层上的光学胶、绑定在透明载板上并与触控功能层导通的FPC组件及贴合在透明载板上的盖板。
[0016]本发明具有如下有益效果:该制作方法工序简单、可操作性强，有利于提升触摸屏的产能及其广泛的应用性、可以有效降低整机厚度，实现产品真正的超薄方案；该制作方法将触控功能层在透明高分子制成的透明载板上，透明载板可以起到保护触控功能层的作用，同时增强触摸屏的抗静电能力和提高整体透光率，制成的触摸屏超轻薄且盖板破裂后还能正常使用，增强其应用性，符合触摸屏轻薄化、高透光率、低成本的发展趋势。
【附图说明】
[0017]图1为现有技术GFF触摸屏的结构示意图；
图2为本发明触摸屏制作方法的流程示意图；
图3为本发明触摸屏的结构示意图； 图4为本发明实施例1触摸屏制作方法的流程示意图；
图5为图4所示制作方法制作的触摸屏的结构示意图；
图6为本发明实施例2触摸屏制作方法的流程示意图；
图7为图6所示制作方法制作的触摸屏的结构示意图；
图8为本发明实施例3触摸屏制作方法的流程示意图；
图9为图8所示制作方法制作的触摸屏的结构示意图；
图10为本发明实施例4触摸屏制作方法的流程示意图；
图11为图10所示制作方法制作的触摸屏的结构示意图。
【具体实施方式】
[0018]下面结合附图和实施例对本发明进行详细的说明。
[0019]如图2所示，本实施例提供了一种触摸屏的制作方法，具体包括以下步骤:
(O提供一基板，并进行等离子清洗；
(2)在清洗后的基板上涂覆一层透明高分子材料并固化形成一透明载板；所使用的透明高分子材料优选为聚酰亚胺，其他较致密的、绝缘的、耐高温及耐酸碱的高分子材料也可以；固化形成的透明载板厚度优选为1~100 μ?? ；
(3)在透明载板上形成触控功能层，其至少包括ITO图案功能层，厚度优选0.01-20 μπι ；
(4)在步骤(3)制得的触控功能层上贴合一光学胶，其厚度优选为10~200μπι ;光学胶已预先挖空好绑定位；
(5)将基板剥离，并将具有触控功能层的透明载板切割成预定尺寸规格的多个触摸屏主体；
(6)在触摸屏主体上绑定FPC组件，其与ITO图案功能层导通；贴合上盖板，制成触摸屏。绑定FPC组件步骤和贴合盖板步骤没有严格的先后顺序，即可先绑定FPC组件再贴合盖板，也可以先贴合盖板再绑定FPC组件。
[0020]其中，步骤(5)还可以是:将基板剥离，并在透明载板上未贴合光学胶的一侧涂覆一保护层，保护层优选为PE或PET保护膜；再将具有触控功能层的透明载板切割成预定尺寸规格的多个触摸屏主体。在制成触摸屏后剥离该保护层。
[0021]本发明将触控功能层制作在一层超薄的聚酰亚胺(或其它高分子材料)透明载板上，聚酰亚胺的透明载板预先形成在一基板上，再在触控功能层上贴上光学胶，然后将透明载板、触控功能层及光学胶剥离该基板，剥离后激光或其它工艺制作成预定尺寸规格的多个触摸屏主体，再绑定FPC组件和贴合盖板，制作成一种相对轻薄且盖板破裂后还能正常使用的触摸屏，同时该触控功能层设置在盖板和透明载板之间，较好地保护了触控功能层，抗静电能力较高，防止破裂静电击伤，该触摸屏还可有效提高整体透光率，比现有GFF触摸屏更薄，现有GFF需要两层光学胶和两层菲林片，它只要一层光学胶和一层聚酰亚胺，成本更低，且透过率更高，更符合触摸屏轻薄化、高透光率、低成本的发展趋势。
[0022]本触摸屏制作方法也可应用于其他结构触摸屏。
[0023]如图3所示，本实施例提供了一种按上述触摸屏制作方法制作的触摸屏，其包括: 一由透明高分子材料制成的透明载板；所述高分子材料优选为致密的、绝缘的、耐高温及耐酸碱的高分子材料，本实施例优选为聚酰亚胺；
形成在透明载板上方的触控功能层，其至少包括ITO图案功能层；
贴合在触控功能层上的光学胶层，其包括OCA或OCR光学胶；
贴合在光学胶层上方的盖板；
还包括绑定在透明载板上与ITO图案功能层导通的FPC组件。
[0024]所述ITO图案功能层上用于实现触摸功能的ITO图案，可通过溅镀、曝光、显影、蚀刻等常规工艺加工而成；所述导电图案层优选为金属层，一般为Mo/Al/Mo，Mo，银浆，感光银浆，可通过镀膜及蚀刻等常规工艺加工而成。
[0025]在本实施例中，所述透明载板的厚度优选1~100 μπι ;触控功能层的厚度优选0.01~20 μπι;光学胶的厚度优选为10~200 μπι。所述盖板可以是玻璃、蓝宝石、PMMA和PET中的任一种，其厚度优选为0.l~2mm ;其朝向触控功能层的下层还设置有装饰油墨层。
[0026]优选地，在透明载板上与触摸图案功能层(或光学胶层)相对的另一侧上涂覆有保护层，其优选为PE或PET保护膜，以增强透明载板强度，用于绑定FPC组件时不至于压裂透明载板，贴合盖板后可撕掉此保护膜。此保护膜也可不撕掉，在后期工序使用触摸屏时再撕掉该保护膜。
[0027]实施例1
如图4所示，一种触摸屏的制作方法，具体包括以下步骤:
(O提供一基板，并进行等离子清洗；
(2)在清洗后的基板上涂覆一层聚酰亚胺并固化形成一厚度约Iym的透明载板；
(3)在透明载板上溅镀一层ITO膜；按照预设功能图案在该ITO膜上蚀刻加工出所需要的ITO功能图案，制得一直接形成在透明载板上的厚度约0.01 μπι的ITO功能图案层；具体实现时，还可在该ITO功能图案