投射式电容触摸屏的制作方法
【技术领域】
[0001 ] 本发明涉及一种触摸屏，特别涉及一种投射式电容触摸屏。
【背景技术】
[0002]随着移动互联网技术的发展，移动终端的普及，作为移动终端的交互设备的投射式电容触摸屏，因其具有可进行多点触控，透光率高等特点而得到越来越广泛的应用。
[0003]随着技术发展，业界对投射式电容触摸屏提出越来越高的要求，其中一个重要的要求是提高投射式电容触摸屏的触摸信号的信噪比，从而提高投射式电容触摸屏的检测精度和检测灵敏度。为此，申请日为2009年11月30日公开号为CN102081484A的中国专利申请公开了一种可以有效提高触摸信号的信噪比的射式电容触摸屏。关于所述专利申请所公开的射式电容触摸屏具体技术内容请参阅中国知识产权局公开的专利文件。该专利文件中的技术内容同时被弓I用到本专利中，作为本专利记载的内容。
[0004]请参阅图1，图1为CN102081484A号中国专利申请公开的射式电容触摸屏结构示意图。CN102081484A号中国专利申请公开的射式电容触摸屏6，其包括基板61，设置在基板61 一侧表面上的驱动电极62和感应电极63。以及设置在感应电极63和驱动电极62之间的屏蔽电极64。所述屏蔽电极64接地或电连接一固定电动势,从而所述屏蔽电极64可以屏蔽驱动电极62与感应电极63之间的形成的互感电容。
[0005]根据CN102081484A号中国专利申请介绍，驱动电极62与感应电极63之间的形成的互感电容是投射式电容触摸屏的噪音信号产生的重要原因，因此，在感应电极63和驱动电极62之间设置屏蔽电极64，从而屏蔽驱动电极62与感应电极63之间的形成的互感电容，就可以达到提高投射式电容触摸屏的触摸信号的信噪比的目的。然而本发明专利的发明人经过研究后发现，现有技术的投射式电容触摸屏还需要进一步的改进。
【发明内容】
[0006]本发明的目的是提供一种投射式电容触摸屏，以解决现有技术的投射式电容触摸屏的触摸信号的信噪比较低、检测灵敏度不够高的问题。
[0007]为解决上述问题，本发明提供了一种投射式电容式触摸屏，所述触摸屏包括基板、驱动电极、感应电极和屏蔽电极，所述基板包括上表面，驱动电极与感应电极设置在所述上表面上，所述驱动电极与所述感应电极之间具有间隙，屏蔽电极设置所述间隙，所述屏蔽电极用以屏蔽所述驱动电极与所述感应电极之间形成的互感电容；所述屏蔽电极在垂直所述上表面方向的高度大于所述驱动电极和所述感应电极邻近所述屏蔽电极一侧边缘的厚度。
[0008]本发明专利的发明人经过研究后发现:现有技术中，所述屏蔽电极主要通过设置在驱动电极与感应电极之间，从而阻挡驱动电极与感应电极之间形成的电场线，从而达到屏蔽驱动电极与感应电极之间形成的互感电容。然而，现有技术中，屏蔽电极通常与驱动电极或感应电极在同一沉积刻蚀工艺中形成，从而使得屏蔽电极的高度与驱动电极或感应电极的厚度基本相等，因此，屏蔽电极至多只能遮挡驱动电极和感应电极侧面的正对面积；如此，驱动电极与感应电极之间还可以通过所述正对面积以外的空间形成电场。使得驱动电极或感应电极之间仍然会形成较大的互感电容。
[0009]与现有技术相比，本发明中，使得屏蔽电极的高度大于所述驱动电极和所述感应电极邻近所述屏蔽电极一侧边缘的厚度，从而使得屏蔽电极能够遮挡比驱动电极或感应电极侧面的正对面积更大的面积，从而使得驱动电极和感应电极之间的互感电容减少，进而提高本发明投射式电容触摸屏的触摸信号的信噪比，提高检测灵敏度。
【附图说明】
[0010]图1是现有投射式电容触摸屏的结构示意图。
[0011]图2是图1所示投射式电容触摸屏沿I1-1I的剖面结构放大示意图。
[0012]图3为本发明投射式电容触摸屏第一实施方式的平面结构示意图。
[0013]图4是图3所示投射式电容触摸屏沿IV-1V线的剖面结构放大示意图。
[0014]图5是本发明投射式电容触摸屏第二实施方式的剖面结构放大示意图。
[0015]图6是本发明投射式电容触摸屏第三实施方式的剖面结构放大示意图。
[0016]图7是本发明投射式电容触摸屏第四实施方式的剖面结构放大示意图。
[0017]图8是本发明投射式电容触摸屏第五实施方式的平面结构示意图。
【具体实施方式】
[0018]请参阅图2，图2是图1所示现有技术投射式电容触摸屏沿I1-1I线的剖面结构放大示意图。本发明专利的发明人经过研究后发现，现有技术中，所述屏蔽电极64主要通过设置在驱动电极62与感应电极63之间，从而阻挡驱动电极62与感应电极63之间形成的电场线66，进而达到屏蔽驱动电极62与感应电极63之间形成的互感电容。然而，现有技术中，屏蔽电极64通常与驱动电极62或感应电极63在同一沉积刻蚀工艺中形成，从而使得屏蔽电极64的高度与驱动电极62或感应电极63的厚度基本相等，因此，屏蔽电极64至多只能遮挡驱动电极62和感应电极63侧面的正对面积；如此，驱动电极62与感应电极63之间还可以通过所述正对面积以外的空间形成电场。使得驱动电极62或感应电极63之间仍然会形成较大的互感电容。使得现有技术的投射式电容触摸屏6的触摸信号的信噪比较低、检测灵敏度不够高。为解决现有技术现有技术的投射式电容触摸屏的触摸信号的信噪比较低、检测灵敏度不够高的问题，本发明提出一种投射式电容式触摸屏。所述触摸屏包括基板、驱动电极、感应电极和屏蔽电极，所述基板包括上表面，驱动电极与感应电极设置在所述上表面上，所述驱动电极与所述感应电极之间具有间隙，屏蔽电极设置所述间隙，所述屏蔽电极用以屏蔽所述驱动电极与所述感应电极之间形成的互感电容；所述屏蔽电极在垂直所述上表面方向的高度大于所述驱动电极和所述感应电极邻近所述屏蔽电极一侧边缘的厚度。
[0019]与现有技术相比，本发明的投射式电容触摸屏，使屏蔽电极的高度大于所述驱动电极和所述感应电极邻近所述屏蔽电极一侧边缘的厚度，从而使得屏蔽电极能够遮挡比驱动电极或感应电极侧面的正对面积更大的面积，从而使得驱动电极和感应电极之间的互感电容减少，进而提高本发明投射式电容触摸屏的触摸信号的信噪比，提高检测灵敏度。
[0020]下面将结合具体的实施方式对本发明的技术方案进行详细的说明；为使得申请文件中的术语意思表达清楚，先对一些术语进行定义:在申请文件的描述过程中，“高于”是用于表达位于基板同一侧的两个原件中，一个原件较另一原件相对基板的距离更远；“低于”是用于表达位于基板同一侧的两个原件中，一个原件较另一原件相对基板的距离更近；“一次沉积刻蚀工艺”是指在基底上沉积一层材料层并通过光罩工艺蚀刻所述材料层以形成对应的材料层图案的一个工艺过程。
[0021]请同时参考图3和图4，图3为本发明投射式电容触摸屏第一实施方式的平面结构示意图。图4是图3所示投射式电容触摸屏I沿IV-1V线的剖面结构放大示意图。所述投射式电容触摸屏I包括基板11、驱动电极12、感应电极13和屏蔽电极14。所述基板11具有相对设置的上表面和下表面。所述驱动电极12、所述感应电极13和所述屏蔽电极14均设置在所述上表面上。所述驱动电极12和所述感应电极13间隔设置在所述基板11的上表面。所述屏蔽电极14设置在所述驱动电极12和所述感应电极13之间的间隙。所述屏蔽电极14在垂直所述基板11上表面的方向的高度H大于所述驱动电极12和所述感应电极13的厚度L。由于所述屏蔽电极14具有较高的高度，因此，使得所述屏蔽电极14能够遮挡比驱动电极12和感应电极13侧面的正对面积更大的面积，从而使得所述驱动电极12和所述感应电极13之间的互感电容减少。可选的，所述驱动电极12和所述感应电极13的厚度为不均匀时，所述屏蔽电极14在垂直所述基板11上表面方向的高度H大于所述驱动电极12和所述感应电极13邻近所述屏蔽电极14 一侧边缘的厚度L。
[0022]在本实施方式中，所述驱动电极12、所述感应电极13和所述屏蔽电极14直接设置在所述基板11的上表面。如此，所述屏蔽电极14背离基板11的一侧高于所述驱动电极12背离所述基板11的第一表面，同时也高于所述感应电极13背离所述基板11的第三表面。且所述屏蔽电极14面对所述基板11的一侧与所述驱动电极12面对所述基板11的第二表面和所述感应电极13面对所述基板11的第三表面持平。所述第一表面、第二表面、第三表面和第四表面，在所述驱动电极12和所述感应电极13的厚度为不均匀时，指代的是所述驱动电极12和所述感应电极13邻近所述屏蔽电极14 一侧边缘区域上的表面。如此，所述屏蔽电极14完全遮挡所述感应电极13的侧面与所述驱动电极12侧面的正对面积并延伸到正对面积之外的区域；又因为感应电极13的侧面与所述驱动电极12侧面的正对面积区域形成的电场线排布最密；从而所述屏蔽电极14可以更好地屏蔽所述感应电极13与所述驱动电极12之间形成的互感电容。
[0023]优选的，本【具体实施方式】中，所述触摸屏I包括多个成矩阵排列的驱动电极12和多条长条状的感应电极13。每条感应电极13设置在相邻两行驱动电极12之间。所述屏蔽电极13成长条状。所述屏蔽电极13设置在相邻的一行驱动电极12与一条感应电极13之间。可选的，所述驱动电极12和所述感应电极13在同一次沉积刻蚀工艺中形成；所述屏蔽电极14通过一次或多次沉积刻蚀工艺形成。优选的，所述驱动电极12和所述感应电极13分别在两次不同的沉积刻蚀工艺中形成；所述屏蔽电极14通过形成所述驱动电极12和所述感应电极13的两次沉积刻蚀工艺形成的材料层叠加形成，从而使得所述屏蔽电极层14的高度H为所述驱动电极12和所述感应电极13厚度之和。如此，在制造所述投射式电容触摸屏I的过程中，无需另外增加一次形成所述屏蔽电极14的沉积刻蚀工艺，可以提高效率。
[0024]请参阅图5，图5是本发明投射式电容触摸屏第二实施方式的剖面结构放大示意