一种干扰处理方法及电子设备的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及数据处理技术，具体涉及一种干扰处理方法及电子设备。
【背景技术】
[0002]随着触控技术的发展，大尺寸的触控屏应用在电子设备中，如一体机。电容式触控屏包括玻璃层和薄膜涂层。当电子设备的触控显示屏平放时，受到触控显示屏自身重量的影响，触控显示屏最外层的玻璃面板会发生下沉形变；触控显示屏的尺寸越大，玻璃面板下沉的形变越严重。通常，电子设备的显示面板的像素电路设置在触控屏的内侧，当触控屏发生下沉形变时，触控屏和显示面板之间的空气间隙变薄，显示面板的像素电路会影响电容式触控屏的感应电容，且距离越近，对感应电容的干扰越大，从而影响对触控屏的触控操作，导致触控操作异常或无响应的问题。
【发明内容】
[0003]为解决现有存在的技术问题，本发明实施例提供一种干扰处理方法及电子设备，能够解决由于触控单元的形变导致的触控操作异常或无响应的问题。
[0004]为达到上述目的，本发明实施例的技术方案是这样实现的:
[0005]本发明实施例提供了一种干扰处理方法，所述方法包括:
[0006]检测电子设备的触控单元的第一参数；所述第一参数表征所述触控单元的形变程度；
[0007]基于所述第一参数确定所述触控单元的第一触控区域，并基于所述第一参数调整所述第一触控区域的第二参数；所述第二参数表征所述触控单元的驱动参数；
[0008]控制所述触控单元的所述第一触控区域输出所述第二参数。
[0009]上述方案中，调整后的所述第二参数与所述第一参数正相关。
[0010]上述方案中，所述基于所述第一参数确定所述触控单元的第一触控区域，包括:
[0011]基于所述第一参数确定所述第一触控区域的中心点，按所述中心点确定第一触控子区域和第二触控子区域；所述第一触控区域包括第一触控子区域和所述第二触控子区域；
[0012]其中，所述第一触控子区域和所述第二触控子区域的中心点重合，且所述第一触控子区域的面积不等于所述第二触控子区域的面积。
[0013]上述方案中，所述基于所述第一参数确定所述第一触控区域的中心点，按所述中心点确定第一触控子区域和第二触控子区域，包括:
[0014]确定所述第一参数最大的位置为所述第一触控子区域和所述第二触控子区域的中心点；
[0015]基于所述中心点按第一半径确定第一触控子区域；
[0016]基于所述中心点按第二半径确定第二触控子区域；
[0017]其中，所述第一半径不等于所述第二半径；所述第一半径与所述触控区域的尺寸具有第一比例关系；所述第二半径与所述触控区域的尺寸具有第二比例关系；所述第一比例关系与所述第二比例关系均与所述第一参数正相关。
[0018]上述方案中，当所述第二触控子区域的面积大于所述第一触控子区域的面积时，所述基于所述第一参数调整所述第一触控区域的第二参数，包括:
[0019]调整所述第一触控子区域的第二参数为Ml ;
[0020]调整所述第二触控子区域内且所述第一触控子区域外的触控区域的第二参数为M2 ；
[0021]其中，Ml不等于M2 ；M1与M2均与所述第一参数正相关。
[0022]本发明实施例还提供了一种电子设备，所述电子设备包括:触控单元、检测单元、分析处理单元和控制单元；其中，
[0023]所述检测单元，用于检测触控单元的第一参数；所述第一参数表征所述触控单元的形变程度；
[0024]所述分析处理单元，用于基于所述检测单元检测的所述第一参数确定所述触控单元的第一触控区域，并基于所述第一参数调整所述第一触控区域的第二参数；所述第二参数表征所述触控单元的驱动参数；
[0025]所述控制单元，用于控制所述触控单元的所述第一触控区域输出所述第二参数。
[0026]上述方案中，调整后的所述第二参数与所述第一参数正相关。
[0027]上述方案中，所述分析处理单元，用于基于所述第一参数确定所述第一触控区域的中心点，按所述中心点确定第一触控子区域和第二触控子区域；所述第一触控区域包括第一触控子区域和所述第二触控子区域；其中，所述第一触控子区域和所述第二触控子区域的中心点重合，且所述第一触控子区域的面积不等于所述第二触控子区域的面积。
[0028]上述方案中，所述分析处理单元，用于确定所述第一参数最大的位置为所述第一触控子区域和所述第二触控子区域的中心点；基于所述中心点按第一半径确定第一触控子区域；基于所述中心点按第二半径确定第二触控子区域；其中，所述第一半径不等于所述第二半径；所述第一半径与所述触控区域的尺寸具有第一比例关系；所述第二半径与所述触控区域的尺寸具有第二比例关系；所述第一比例关系与所述第二比例关系均与所述第一参数正相关。
[0029]上述方案中，所述分析处理单元，用于当所述第二触控子区域的面积大于所述第一触控子区域的面积时，调整所述第一触控子区域的第二参数为Ml ;调整所述第二触控子区域内且所述第一触控子区域外的触控区域的第二参数为M2 ;其中，Ml不等于M2 ;M1与M2均与所述第一参数正相关。
[0030]本发明实施例提供的干扰处理方法及电子设备，检测电子设备的触控单元的第一参数；所述第一参数表征所述触控单元的形变程度；基于所述第一参数确定所述触控单元的第一触控区域，并基于所述第一参数调整所述第一触控区域的第二参数；所述第二参数表征所述触控单元的驱动参数；控制所述触控单元的所述第一触控区域输出所述第二参数。如此，采用本发明实施例的技术方案，通过对触控单元的第一参数的检测，从而调整所述触控单元的第二参数，使得当所述触控单元的形变程度过大时，增大所述触控单元的驱动参数，避免了由于触控单元的形变导致的触控操作异常或无响应的问题，提升了用户的操作体验。
【附图说明】
[0031]图1为本发明实施例一的干扰处理方法的流程示意图；
[0032]图2为本发明实施例二的干扰处理方法的流程示意图；
[0033]图3为本发明实施例三的干扰处理方法的流程示意图；
[0034]图4为本发明实施例三中的第一触控区域的场景示意图；
[0035]图5为本发明实施例的电子设备的组成结构示意图。
【具体实施方式】
[0036]下面结合附图及具体实施例对本发明作进一步详细的说明。
[0037]实施例一
[0038]本发明实施例提供了一种干扰处理方法。图1为本发明实施例一的干扰处理方法的流程示意图；如图1所示，所述方法包括:
[0039]步骤101:检测电子设备的触控单元的第一参数；所述第一参数表征所述触控单元的形变程度。
[0040]本实施例所述的干扰处理方法应用于电子设备中，所述电子设备具有触控单元，所述触控单元可以为电容式触控单元；具体的，所述电子设备可以是具有触控功能的手机、平板电脑、一体机、桌面电脑等等。则本步骤中，所述检测电子设备的触控单元的第一参数，包括:所述电子设备检测自身的触控单元的第一参数。
[0041]具体的，所述触控单元(如电容式触控单元)的最外层为玻璃层，玻璃层内涂有导电涂层(ITO)，则形成导电玻璃层；导电玻璃层的四个角引出四个电极，导电玻璃在所述四个电极提供电压下形成均匀电场；导电玻璃层下设置有阵列型的感应电容；由于人体是带电导体，在用户手指接触到触控单元表面时，手指从接触点吸走部分电流，从而改变所述接触点对应的感应电容的电容大小；控制器基于感应电容的电容大小的改变确定接触点的位置坐标。由于玻璃层的表面积较大且自身厚度较薄，当所述触控单元(具体为玻璃层)处于非竖直放置状态(如平放)时，玻璃层会收到自身重力的影响发生形变，基于此，本步骤中检测所述触控单元的第一参数，也即检测所述玻璃层的第一参数。
[0042]其中，所述触控单元设置在所述电子设备的液晶显示面板电路的上方，所述触控单元和所述液晶显示面板电路之间具有一层空气层，即所述触控单元和所述液晶显示面板电路之间具有一定距离；所述空气层具体可以为1.4毫米(mm)。本实施例中，所述第一参数表征所述触控单元的形变程度，所述第一参数可以通过所述触控单元与所述液晶显示面板电路之间的距离表征。具体的，作为一种实施方式，所述第一参数可通过距离传感器检测获得；如检测所述触控单元与所述液晶显示面板电路之间的距离与标准距离的差值确定所述第一参数。作为另一种实施方式，可基于所述触控单元(具体为玻璃层)的自身重量，结合所述触控单元与竖直方向的夹角确