[0032]第一，说明根据磁场强度矢量来确定输入设备的操作子区域的方法。
[0033]根据两个或更多的预定的位置，将电子设备I的外部区域划分为多个子区域。处理单元12进行标定处理，即基于在将输入设备放置在预定的位置时由磁传感器11产生的磁场强度矢量中的预定分量的大小，获得与所述多个子区域分别对应的磁场强度矢量中的预定分量的大小范围。
[0034]图2是例示设定四个预定位置(即电子设备I的壳体的左上角、左下角、右下角、右上角)、并根据该四个预定位置将电子设备I的外部区域划分为四个子区域(即上区域、下区域、左区域、右区域)的示意图。此外，预定位置的数目、位置仅仅是例示，不限定于图2所示的方法。
[0035]在图2所示的情况下，处理单元12分别获得在将输入设备放置在电子设备I的壳体的左上角、左下角、右下角、右上角时的磁场强度矢量的预定分量的大小，并根据所获得的四个磁场强度矢量的预定分量的大小，确定与四个子区域分别对应的磁场强度矢量的预定分量的大小范围。
[0036]图3是例示在将电子设备I平放在水平面(即X轴Y轴决定的平面)上时由处理单元12进行了标定处理的结果的示意图。具体地，处理单元12获得在将输入设备放置在电子设备I的壳体的左上角、左下角、右下角、右上角时的磁场强度矢量的X轴分量和Y轴分量的大小，并根据将输入设备放置在电子设备I的壳体的左上角、左下角、右下角、右上角时的磁场强度矢量的X轴分量和Y轴分量的大小，确定与上区域、下区域、左区域、右区域分别对应的磁场强度矢量的X轴分量和Y轴分量的大小范围。具体地，在图3中，半直线LI与半直线L2所围的坐标区域的X轴分量和Y轴分量的大小范围对应于上区域，半直线L2与半直线L3所围的坐标区域的X轴分量和Y轴分量的大小范围对应于右区域，半直线L3与半直线L4所围的坐标区域的X轴分量和Y轴分量的大小范围对应于下区域，半直线L4与半直线LI所围的坐标区域的X轴分量和Y轴分量的大小范围对应于左区域。
[0037]如上所述，在将电子设备I平放在水平面而进行标定处理时，磁场强度矢量的预定分量为X轴分量和Y轴分量。但是，根据由处理单元12进行标定处理时的电子设备I的姿态，标定处理的结果不同。例如，在将电子设备I放置在由X轴、Z轴决定的平面时，与所述多个子区域分别对应的范围是磁场强度矢量中的X轴分量和Z轴分量的大小范围(即预定分量为X轴分量和Y轴分量)。因此，在使用电子设备I的过程中，如果电子设备I的姿态变化，则根据电子设备I的姿态来改变与多个子区域分别对应的磁场强度信息中的预定分量的大小范围。
[0038]具体地，电子设备I还包括加速度传感器。该加速度传感器配置来获得电子设备I的姿态。处理单元12根据变化后的电子设备I的姿态，对所标定的与多个子区域分别对应的磁场强度信息中的预定分量的大小范围进行调整。此外，用于获得电子设备I的姿态的部件不限定于加速度传感器，例如也可以通过陀螺仪等部件来获得电子设备I的姿态。
[0039]在用户利用输入设备在特定子区域挥动或敲击的情况下，由磁传感器11获得的磁场强度矢量的预定分量的大小落入与该特定子区域对应的预定分量的大小范围。
[0040]因此，处理单元12根据上述标定处理的结果，基于由磁传感器11产生的磁场强度矢量中的预定分量的大小，确定与该预定分量的大小落入的范围对应的对应子区域，从而将对应子区域确定为输入设备的操作子区域。
[0041]具体地，在如图3所示的标定处理的结果的情况下，处理单元12获取由磁传感器11产生的磁场强度矢量中的X轴分量和Y轴分量的大小，并确定与所获取的X轴分量和Y轴分量的大小所落入的范围对应的对应子区域，从而将对应子区域确定为输入设备的操作子区域。例如，在所获取的X轴分量和Y轴分量的大小落入图3的半直线LI与半直线L2所围的坐标区域的情况下，将上区域确定为输入设备的操作子区域。
[0042]其中，处理单元12在获取由磁传感器11产生的磁场强度矢量中的X轴分量和Y轴分量的大小时，优选地，可以获取磁场强度矢量中的X轴分量的预定间隔时间平均值，也可以获取预定期间中的波峰值。
[0043]此外，在电子设备I中，预先确定了子区域与乐器类型的对应关系。例如，将上区域与小提琴相对应，将下区域与小号相对应，将左区域与大提琴相对应，将右区域与长号相对应。
[0044]进而，处理单元12产生使得声音输出单元13输出与操作子区域对应的音色的声音的控制信息。例如，处理单元将上区域确定为输入设备的操作子区域的情况下，根据预先设定的子区域与乐器类型的对应关系，产生使得声音输出单元13输出小号的声音的控制信息。
[0045]第二，说明根据磁场强度矢量来确定操作节奏的方法。
[0046]在用户利用输入设备例如进行敲击运动的情况下，首先输入设备从远处靠近电子设备I，在敲击完成后，输入设备远尚电子设备I。因此，在输入设备进行敲击运动时，磁场强度矢量按照敲击的节奏而变化。
[0047]处理单元12基于由磁传感器11获得的磁场强度矢量的变化周期，确定输入设备的操作节奏。
[0048]图4是例示在输入设备进行敲击运动时的磁场强度矢量的各个分量的波形图。如图4所示，磁场强度矢量的各个分量按照敲击运动的节奏，从波谷到波峰再到波谷。
[0049]具体地，处理单元12可以首先对磁场强度矢量的各个分量进行高通滤波，将高频功率大的预定分量作为处理对象。在图5所示的情况下，可以选取X轴分量作为处理对象。进而，处理单元12可以将X轴分量曲线的波峰作为敲击的时间点，依次计算X轴分量曲线的波峰的时间点，将相邻的波峰的时间间隔作为磁场强度矢量的变化周期。
[0050]此外，计算磁场强度矢量的变化周期的方法不限定于此，也可以应用其他的方法。例如，也可以计算相邻的波谷的时间间隔作为磁场强度矢量的变化周期，也可以在频域中对预定分量进行处理来获得变化周期，当然也可以对磁场强度矢量的多个分量的曲线进行处理来获得变化周期。
[0051]进而，处理单元12产生使得声音输出单元13以与操作节奏对应的声音节奏输出声音的控制信息。
[0052]第三，说明根据磁场强度矢量来确定操作力度的方法。
[0053]在输入设备的操作力度大的情况下，在磁场强度矢量上体现为波峰值与波谷值的差值变大、并且波谷到波峰的时间间隔变短。相反，在输入设备的操作力度小的情况下，在磁场强度矢量上体现为波峰值与波谷值的差值变小、并且波谷到波峰的时间间隔变长。即，操作力度磁场强度矢量的变化周期和变化幅度相关，具体地与磁场强度矢量的变化幅度成正比，并且与磁场强度矢量的变化周期成反比。
[0054]因此，处理单元12基于磁场强度矢量的变化周期和变化幅度，确定输入设备的操作力度。
[0055]具体地，处理单元12可以首先对磁场强度矢量的各个分量进行高通滤波，将高频功率大的预定分量作为处理对象。在图5所示的情况下，可以选取X轴分量作为处理对象。进而，处理单元12可以计算相邻的波峰值与波谷值的差值，从而作为磁场强度矢量的变化幅度，并且计算相邻的波谷与波峰的时间间隔作为磁场强度矢量的变化周期，最后利用该变化周期除以该变化幅度的商作为操作力度。
[0056]此外，计算磁场强度矢量的操作力度的方法不限定于此，也可以应用其他的方法。例如，也可以仅计算相邻的波峰值与波谷值的差值作为磁场强度矢量的变化周期，也可以在频域中对预定分量进行处理来获得变化周期，当然也可以对磁场强度矢量的多个分量的曲线进行处理来获得变化周期。
[0057]进而，处理单元12产生使得声音输出单元13以与操作力度对应的音量输出声音的控制信息。
[0058]在现有技术中，通常通过在触摸屏幕上进行触控操作而完成乐器的演奏，因此用户缺乏真实的体感和乐感。即，通过压力传感器来感应演奏的力度，因此需要多个压力传感器，成本比较高。
[0059]通过实施例1的技术方案，能够利用电子设备现有的磁传感器，采用包括永磁铁的输入设备在电子设备I周围演奏不同的乐器，产生节奏，音调不同的音乐。因此能够降低成本比较低，且能够提升虚实结合的用户体验。