一种高导电率低反射率金属网格制品的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型属于触摸面板材料领域，尤其是一种高导电率低反射率金属网格制品O
【背景技术】
[0002]未来移动终端、可穿戴设备、智能家电等产品，对触摸面板有着强劲需求，同时随着触控面板大尺寸化、低价化，以及传统ITO薄膜不能用于可弯曲应用，导电性及透光率等本质问题不易克服等因素，众面板厂商纷纷开始研宄ITO的替代品，包括纳米银线、金属网格、纳米碳管以及石墨烯等材料。其中，金属网格因具有成本最低、导电性能良好的特性，在市场中的应用也最为广泛。
[0003]现有的大多数金属网格的横截面为矩形，其上下宽度一致，即与透明基材接触的金属网格位置、远离透明基材的金属网格位置的宽度相等，而与透明基材接触的金属网格位置宽度越宽，对光的反射率越强，越容易出现莫瑞干涉波纹，其分辨率越差；远离透明基材的金属网格位置的宽度越宽，其导电率越好，因此，现有的金属网格无法兼具低发射率和高导电率双重优良特性。
【发明内容】
[0004]本实用新型旨在提供一种高导电率低反射率金属网格制品，该金属网格制品与透明基材接触的位置，线宽窄，可尽量降低其反射率，避免出现莫瑞干涉波纹；同时，在远离透明基材的区域，线宽较大，又可尽量维持较高的导电率。
[0005]本实用新型的高导电率低反射率金属网格制品，金属网格上宽下窄。这样的金属网格与透明基材接触的位置，线宽窄，可尽量降低其反射率，避免出现莫瑞干涉波纹；同时，在远离透明基材的区域，线宽较大，又可尽量维持较高的导电率，尤其适合应用于大尺寸触控面板。
【附图说明】
[0006]图1为本实用新型的透明基板涂布光阻层后的结构图；
[0007]图2为本实用新型的透明基板上进行光阻层压印的工作结构图，其中，箭头方向为当时压印模板的移动方向；
[0008]图3为本实用新型的透明基板上光阻层经电浆蚀刻后的结构图；
[0009]图4为本实用新型的金属网格制品的结构图。
【具体实施方式】
[0010]现结合附图具体说明本实用新型的实施方式:
[0011]本实用新型的高导电率低反射率金属网格制品，金属网格7上宽下窄(如图4所示
[0012]本实用新型的金属网格7与透明基材3接触的位置，线宽窄，可尽量降低其反射率，避免出现莫瑞干涉波纹；同时，在远离透明基材3的区域，线宽较大，又可尽量维持较高的导电率，尤其适合应用于大尺寸触控面板。
[0013]本实用新型的高导电率低反射率金属网格制品的制作方法，包括以下步骤:
[0014](I)在透明基材3上涂布光阻层(1、2)，光阻层厚度为20~60微米，光阻层为两层蚀刻速率不同的光阻层叠加而成(如图1~3所示);且，上层光阻层I所选用的光阻材料的电浆蚀刻速率大于下层光阻层2所选用的光阻材料的电浆蚀刻速率；
[0015](2)采用底部带有电路图案凸起的压印模板4对光阻层(1、2)进行压印，拔出压印模板4后，在光阻层(1、2)内形成电路图案沟槽5 (如图2所示)；
[0016](3)对压印后的光阻层(1、2)进行电浆蚀刻，露出透明基材3，其中，电浆蚀刻条件为:电浆功率为2000~3000瓦，蚀刻时间为2~30分钟，得到上宽下窄的金属网格沟槽6 (如图3所示)；
[0017](4)采用现有的镀膜技术将金属网格沟槽6内镀满金属网格材料，形成呈电路图案形状分布的金属网格7 ；
[0018](6)最后采用光阻剥离液将光阻层(1、2)溶出，并采用清洗剂进行清洗，得到金属网格7 (如图4所示)。
【主权项】
1.一种高导电率低反射率金属网格制品，其特征在于:其金属网格上宽下窄。
【专利摘要】本实用新型提供一种高导电率低反射率金属网格制品，该金属网格上宽下窄。本实用新型的金属网格制品与透明基材接触的位置，线宽窄，可尽量降低其反射率，避免出现莫瑞干涉波纹；同时，在远离透明基材的区域，线宽较大，又可尽量维持较高的导电率，尤其适合应用于大尺寸触控面板。
【IPC分类】G06F3-041
【公开号】CN204537089
【申请号】CN201520085148
【发明人】林杰, 侯则良, 王维纲
【申请人】福建省诺希科技园发展有限公司
【公开日】2015年8月5日
【申请日】2015年2月6日