光盘的制作方法

文档序号:6763741阅读:317来源:国知局
专利名称:光盘的制作方法
技术领域
本发明是关于光盘,特别是关于利用硅高分子中的一种-PDMS,在表面涂上保护层的光盘。
背景技术
最近,在对高密度、大容量信息储存设备的需求急剧增加的趋势下,对价格便宜、使用方便的光盘的研究也在广泛地进行。
其中,对采用以近场刻录NFR(Near-Field Recording)或者SIL(Solid-Immersion Lens)进行表面刻录方式的研究也广泛开展着。特别是对可以在笔记本、数码相机、凸轮编码器及移动电话中使用的小型光盘的研究同样也在一些公司中进行,在此也致力于采用表面刻录方式以增加刻录密度。
在这种光盘中,大体存在两种方式,一种是光磁盘,另一种是相变型光盘。
就这两种方式而言,为进行高密度刻录而增加数值孔径(NunericalApertureNA)的值是一种趋势。
图1是展示在依据现有技术设计的光盘进行刻录时,光盘和激光的施加位置的示意图。如图1所示,由光拾取器透镜10集束的激光,从光盘100的基盘侧入射以刻录数据。
此时,上述光拾取器透镜10的数值孔径(NA)具有0.5至0.6的值,而对于最近正在开发中的蓝光光盘情况,是将数值孔径(NA)的值再扩大设置为0.85。并且,在下一代研究的光学系统中,应用更大的数值孔径值正在成为现实。
在如此使用大数值孔径的情况下,光盘100和光拾取器透镜10之间距离变得非常狭窄,所以为保护刻录膜免受外部冲击或污染,必须在其上面设置保护层。
通常这种保护层倾向于选用高强度材料,以使表面不被污染,并且也不会因机械性冲击使光盘的表面产生擦痕般的缺陷。
图2是展示当前正在开发的蓝光光盘的普通构造的截面的示意图,其结构是由聚碳酸酯之类的透明基盘110上的反射层,第1带电层130,记录层140,第2带电层150及保护层160构成的。
这样,为了保护刻有信息的光盘表面,要在光盘的最上面形成100μm厚度的保护层160。此时,一般来说,使用紫外线硬化树脂或者聚碳酸酯薄膜作为上述保护层160的材质。
上述紫外线树脂是由旋转涂膜在光盘表面薄膜涂抹后,通过紫外线硬化的制作工艺形成,上述聚碳酸酯薄膜是由粘着剂在光盘表面粘贴方式的制作工艺形成的。
此时,在利用上述紫外线硬化树脂制作表面保护层的情况下,很难维持厚度的均匀度,在涂抹只有数十μm的保护层时很有难度;因而,在近来为进行高密度刻录而制作只有数十μm厚度的簿保护层上,具有不适合的特性。另外,利用上述聚碳酸酯薄膜制作保护层,虽然可以制作既维持厚度的均匀度又使厚度只有数十μm的薄膜的保护层,但是其强度较低,具有增大表面产生划痕的可能性的缺点。
因此,对于应用近来所开发的具有0.85的大数值孔径(NA)的光学系统的蓝光光盘,光盘与光拾取器之间的距离非常小,同时使用聚碳酸酯薄膜的保护层,因此在刻录时,因光盘的表面上产生的污染或者划痕,使得光盘转动的变化余地较大。
据此,在现在正上市的索尼公司和TDK公司的蓝光光盘中,为了制作0.1mm厚度保护层的覆盖层(coverlayer)正利用0.08mm厚度的聚碳酸酯覆盖薄膜。为此,为防止因上述聚碳酸酯覆盖薄膜引起的蓝光媒质的表面污染或者表面划痕,正在同时采用另外的光盘盒300。
采用了光盘盒的现在正上市的索尼公司的蓝光光盘如图3所示。
但是,在如上所述同时采用光盘盒300的情况下,则很难保证有助于磁头在光盘上顺利移动的润滑层的形成空间,这不仅妨害了润滑的特性,而且通过光盘盒使得光盘的体积变大,在当前开发超小型化光盘的事实下,带来了应用方面的局限性。
如上所述,目前为止所开发的保护层,如果达到一定程度的冲击强度以上,基盘表面就会出现划痕般的缺陷,结果给光盘的刻录/播放带来了影响。此外,当有大量的材料的情况下,也存在着在表面产生灰尘等污染很严重的可能性。

发明内容因而,本发明是为解决上述问题面设计的,其目的在于提供如下光盘能够在根据为进行高密度刻录而增加的数值孔径使光拾取器和光盘之间的距离变小的表面刻录方式的光盘中,同时解决污染及机械冲击问题。
本发明的另一个目的在于提供即便是不使用光盘盒也能够防止因表面污染或机械性冲击而产生的划痕的小型化的光盘。
为了实现上述目的,依据本发明的光盘的特征是,为了保护记录层上刻录的信息,在具备在光盘表面上设置保护层的高密度光盘中,上述保护层是由作为具有高弹性性质的硅高分子中的一种-PDMS(polydimethylsiloxane)物质构成的。
此时,上述PDMS保护层是由spin coating构成的,由1~200μm的厚度构成是较为理想的。
而且,在上述PDMS保护层上,再包含提高磁头润滑特性的润滑层是较为理想的。
并且,在上述PDMS保护层中,再包括由提高基盘硬度的DLC(Diamond-Like Carbon)构成的强度补充层是较为理想的。
依据如上所述的本发明设计的光盘具有如下效果。
第一,在制作适合高密度刻录的大数值孔径的表面刻录型光盘时,可通过表面保护层减少所产生的污染或划痕,从而能够制作除却光盘盒的形式的光盘。
第二,由于以除却光盘盒形式进行制作,所以也可以涂布润滑层确保润滑特性。
第三,根据PDMS的变形特性,可以缓和光拾取器或高速磁头上所产生的机械冲击的一大部分,确保光盘系统的稳定性。
第四,在具备用于进行高密度刻录的大数值孔径的光学系统所适用的驱动器用光盘以及可作为移动存储媒质使用的小型光盘中,遏制了表面染污或划痕产生的可能性,从而可以制作除即光盘盒形态的光盘。

图1是展示在依据现有技术设计的光盘进行刻录时,光盘和激光的施加位置的示意图。
图2是展示当前正在开发的蓝光光盘的普通构造的截面的示意图。
图3是展示采用了光盘盒的现在正上市的索尼公司的蓝光光盘的示意图。
图4a,4b,4c是展示依据本发明设计的光盘的截面构造的实施例的示意图。
具体实施方式本说明的另一个目的、特性及优点,可通过参照附图对实施例所做的详细说明得到了解。
对于利用依据本发明设计的PDMS的光盘及其的涂层方法的理想实例图,参照附图做如下说明。
图4a,4b,4c是展示依据本发明设计的光盘的截面构造的实施例的示意图。
如图4a所示,构成由以下所构成的光盘在由聚碳酸酯(polycarbonate)构成的透明基盘210上设有反射层220,在上述反射层上设有由ZnS-SiO2(硫化锌-二氧化硅)构成的第1带电层230,由PtOx物质构成的记录层240,由ZnS-SiO2(硫化锌-二氧化硅)构成的第2带电层250。
而且,在上述第2带电层250上设有用于保护记录层240中刻录信息的PDMS(polydimethylsiloxane)保护层。
此时,上述PDMS(polydimethylsiloxane)保护层260因为具有抗机械冲击的极好的弹性,所以与现有使用的聚碳酸酯或者紫外线硬化树脂相比,具有很强的抗表面污染或划痕产生的特征。
并且,上述PDMS(polydimethylsiloxane)保护层260通过spin coating方法的制作,因此可以根据PDMS的光学特性自由调节PDMS的厚度,从而形成1~200μm的厚度。
同时,如图4c所示,在上述PDMS(polydimethylsiloxane)保护层260中,涂布润滑层280以提高磁头的润滑特性,通过顺利的移动以使磁头与媒质表面的冲突最小化。
在上述PDMS(polydimethylsiloxane)保护层260上涂布润滑层280时,射出成形的高分子基盘的硬度低、光盘很容易弯曲,无法彻底解决光盘表面受损伤的问题。
因此,如图4b所示,为了解决射出成形的高分子基盘的硬度低、光盘很容易弯曲,从而使光盘表面受损伤的问题,在上述PDMS(polydimethylsiloxane)保护层260和涂布润滑层280之间再增设由DLC(Diamond-Like Carbon)构成的强度补充层,以提高光盘的硬度,使刻录媒质播放时光盘的弯曲现象减少。
通过以上所述的内容,该领域的人员可以明白可在不脱离本发明的技术思想的范围内,进行多样的变化和修改。
因此,本发明的技术范围并不限定于实施例中所记载的内容,而应由专利申请范围来决定。
权利要求
1.光盘,包括所述光盘具有为保护记录层上刻录的信息,所述光盘表面上设置保护层,上述保护层由具有高弹性的硅高分子物质构成。
2.如权利要求1所述的光盘,其特征在于,上述硅高分子是PDMS(polydimethylsiloxame)物质。
3.如权利要求1所述的光盘,其特征在于,上述PDMS保护层通过旋涂法(spin coating)构成。
4.如权利要求3所述的光盘,其特征在于,上述PDMS保护层由1~200μm的厚度构成。
5.如权利要求1所述的光盘,其特征在于,在上述PDMS保护层上再包含提高磁头的润滑特性的润滑层构成。
6.如权利要求1所述的光盘,其特征在于,在上述PDMS保护层上再包含由提高基盘硬度的由象钻石的碳(Diamond-Like Carbon)构成的强度补充层。
全文摘要
本发明是用于提供以下光盘的设置不受流污染并对机械冲击也有很强保护能力的保护层,能够在根据为进行高密度刻录而增加的数值孔径使光拾取器和光盘之间的距离变小的表面刻录方式的光盘中,同时解决污染及机械冲击问题。就具有为保护记录层上所刻录的数据而在光盘的表面设置保护层的高密度光盘而言,上述保护层由具有高弹性的硅高分子中的一种-PDMS(polydimethylsiloxame)物质构成。
文档编号G11B7/24GK1750148SQ200410066470
公开日2006年3月22日 申请日期2004年9月17日 优先权日2004年9月17日
发明者徐勋, 金钟焕 申请人:上海乐金广电电子有限公司
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