专利名称：光盘制造用片与光盘的制作方法
技术领域：
本发明涉及光盘制造用片与光盘。特别是涉及难带压痕的光盘制造用片与光盘。
背景技术：
光盘，为了保护记录层，采用旋转涂布法等在记录层表面上涂布紫外线固化性树脂使之固化，形成光透过性的保护层。然而，这样的方法难形成均匀厚度的保护层，结果，制得的光盘，特别是大容量的光盘在信息再生或记录时容易产生错误。
因此，提出了采用旋转涂布法等在记录层表面上涂布紫外线固化性的液态粘合剂、在所形成的粘合剂层上贴附光透过性的被覆薄膜后、使紫外线固化性粘合剂固化的方法。但，即使是采用这样的方法，也产生涂布方法引起的粘合剂层的厚度不均匀，不一定能满足制品上所要求的层厚的均匀性。
因此，提出了使用预先控制粘合剂层厚度的粘合片，在记录层表面上贴附被覆薄膜的方法(特许第3338660号公报、特开2000-67468号公报)。如果采用这样的粘合片，在粘合片制造阶段形成均匀层厚的粘合层，则可以担保制品上所要求层厚的技术要求。
然而，以往使用的粘合剂由于在常温范围的弹性模量降低，故部分地对覆盖薄膜施加压力时，有覆盖薄膜与粘合剂层一起变形的问题。例如用夹子夹光盘，或在覆盖薄膜有突起物的状态下，在光盘上摆放相当于书的重量的一些物品的场合等，粘合剂层与覆盖薄膜发生变形，在覆盖薄膜上留下压痕。
这样附在覆盖薄膜上的压痕，特别是为了增加记录密度使用高数值孔径(0.85)的透镜与短波长(405nm)的激光的蓝光盘中，成为对信息的记录、再生造成影响的重要缺陷。此外，现在的蓝光盘是装在盒中，但将来蓝光盘发展裸盘的可能性高，此时上述之类的问题将更突出。
发明内容
本发明是鉴于如上述实际状况而完成的，其目的在于提供粘合剂层有均匀的层厚、同时保护层难带压痕的光盘制造用片与光盘。
为了达到上述目的，第1，本发明提供光盘制造用片，其特征在于是在光盘的记录层上粘合保护层用的光盘制造用片，其具有固化前的储能弹性模量为103-106pa、固化后的储能弹性模量为107-1011Pa的固化性的粘合剂层(发明1)。
粘合剂层固化前的储能弹性模量在如上述的范围时，只施加压力便可以粘合保护层，同时可预先按均匀的层厚形成粘合剂层，并且保持该均匀的层厚。而粘合剂层固化后的储能弹性模量在如上述的范围时，制得的光盘不产生翘曲等的问题，可赋予耐压痕性。
上述发明(发明1)中，前述粘合剂层优选以能量射线固化性的高分子材料为主要成分(发明2)。该能量射线固化性的高分子材料优选是在侧链有能量射线固化性基的丙烯酸酯共聚物(发明3)，能量射线固化性基的平均侧链导入率优选是0.1-30摩尔％(发明4)。该场合，前述能量射线固化性基优选是不饱和基，并且前述丙烯酸酯共聚物的重均分子量优选是100,000以上(发明5)。
上述发明(发明2)中，前述能量射线固化性的高分子材料，可以是侧链有能量射线固化性基的丙烯酸酯共聚物与能量射线固化性的多官能单体和/或低聚物的混合物(发明6)，也可以是没有能量射线固化性基的丙烯酸酯共聚物与能量射线固化性的多官能单体和/或低聚物的混合物(发明7)。
上述发明(发明1-7)所述的光盘制造用片，也可以有前述粘合剂层和保护层(发明8)。
第2，本发明提供光盘，其特征在于是使用前述光盘制造用片(发明1-8)制造的光盘，其利用固化的前述粘合剂层粘合前述保护层(发明9)。
图1是本发明第1实施方案的光盘制造用片的截面图。
图2是表示使用第1实施方案的光盘制造用片的光盘制造方法一个例子的截面图。
图3是表示使用第1实施方案的光盘制造用片的光盘制造方法的另一个例子的截面图。
图4是本发明第2实施方案的光盘制造用片的截面图。
图5是表示使用第2实施方案的光盘制造用片的光盘制造方法的一个例子的截面图。
实施发明的最佳方案以下，对本发明的实施方案进行说明。
第1实施方案图1是本发明第1实施方案的光盘制造用片的截面图，图2(a)-(d)是表示使用第1实施方案的光盘制造用片的光盘制造方法一个例子的截面图，图3(a)-(f)是表示使用第1实施方案的光盘制造用片的光盘制造方法另一个例子的截面图。
如图1所示，本实施方案所述的光盘制造用片1，由粘合剂层11和层合在粘合剂层11的一面(图1中上面)上的保护片12及层合在粘合剂层11的另一边的面(图1中下面)上的剥离片13构成。此外，保护片12是在光盘中成为保护层的部分，剥离片13是使用光盘制造用片1时被剥离的部分。
粘合剂层11是为了粘合光盘中的信息记录层和保护片12用的部分(参照图2与图3)。该粘合剂层11的固化前的储能弹性模量是103-106Pa、优选是104-105Pa。而粘合剂层11的固化后的储能弹性模量是107-1011Pa，优选是108-1010Pa。
此外，固化前的储能弹性模量的测定温度，设成与在粘合对象物上压粘光盘制造用片1的作业环境相同的温度。由于一般光盘制造用片1在室温下压粘在粘合对象物上，故储能弹性模量为在室温下测定的值。而固化后的储能弹性模量的测定温度是与所得光盘的保管环境相同的温度，即为室温。
粘合剂层11的固化前的储能弹性模量在如上述的范围时，只施加压力便可以将保护片12与信息记录层粘合，同时可以预先以均匀的层厚形成粘合剂层，并且可保持其均匀的层厚。粘合剂层11的固化前的储能弹性模量低于103Pa时，粘合剂层11容易变形、或难保持均匀的层厚。而粘合剂层11的固化前的储能弹性模量超过105Pa时，保护片12与信息记录层粘合时，粘合剂层11难跟踪信息记录层的凹凸图形(凹坑或沟槽/凸台)，在粘合剂层11与信息记录层之间有时发生成为错误原因的气泡。
而粘合剂层11的固化后的储能弹性模量在如上述的范围时，可以在制得的光盘上不产生问题地赋予耐压痕性。粘合剂层11的固化后的储能弹性模量低于107Pa时，由于部分压力的施加，粘合剂层11容易变形，保护片12上容易有压痕。而粘合剂层11固化后的储能弹性模量超过1011Pa时，由于体积收缩随粘合剂层11的固化而增大，故产生光盘翘曲变大或产生粘合性降低等的问题。
粘合剂层11优选以有能量射线固化性的聚合物成分为主要成分的层，除此之外，也可以以没有能量射线固化性的聚合物成分与能量射线固化性的多官能单体和/或低聚物的混合物为主要成分。任何一种场合均优选粘合剂层11固化前显示压敏粘合性(粘着性)、固化后有牢固的粘合性与适度的硬度。
以下对粘合剂层11以有能量射线固化性的聚合物成分为主要成分的场合进行说明。
构成粘合剂层11的有能量射线固化性的聚合物成分，优选是侧链有能量射线固化性基的丙烯酸酯共聚物。另外，该丙烯酸酯共聚物优选是使有含官能团单体单元的丙烯酸系共聚物(a1)、与有结合在该官能团上的取代基的含不饱和基化合物(a2)反应制得的、侧链有能量射线固化性基的分子量100,000以上的能量射线固化型共聚物(A)。
这里，能量射线固化性基的平均侧链导入率优选是0.1-30摩尔％、特别优选是5-15摩尔％。能量射线固化性基的平均侧链导入率低于0.1摩尔％时，不能得到所期望的能量射线固化性，能量射线固化性基的平均侧链导入率超过30摩尔％时，由于随着粘合剂层11的固化产生体积收缩，故有时光盘发生翘曲。
此外，能量射线固化性基的平均侧链导入率由下式算出。
能量射线固化性基的平均侧链导入率＝(能量射线固化性基的摩尔数/构成丙烯酸系共聚物的单体的总摩尔数)×100丙烯酸系共聚物(a1)由含官能团单体形成的结构单元和由(甲基)丙烯酸酯单体或其衍生物形成的结构单元构成。这里，本说明书中的所谓(甲基)丙烯酸酯单体意味着丙烯酸酯单体和/或甲基丙烯酸酯单体。
丙烯酸系共聚物(a1)具有的含官能团单体，是分子内有聚合性的双键、和羟基、羧基、氨基、取代氨基、环氧基等的官能团的单体，优选使用含羟基不饱和化合物、含羧基不饱和化合物。
作为这样的含官能团单体的更具体的例子，可举出丙烯酸2-羟基乙酯、甲基丙烯酸2-羟基乙酯、丙烯酸2-羟基丙酯、甲基丙烯酸2-羟基丙酯等的含羟基丙烯酸酯、丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸等的含羧基化合物，这些可以单独使用，也可以2种以上组合使用。
作为这种含官能团单体，最好选择使能量射线固化型共聚物中存在羧基的单体。能量射线固化型共聚物中存在羧基时，粘合剂层11与信息记录层的粘合力高，制得的光盘的强度、耐久性提高。
能量射线固化型共聚物中存在的羧基的量，按单体换算优选是0.01-30摩尔％、再优选是0.5-20摩尔％。此外羧基与后述的含不饱和基化合物(a2)进行反应的场合(含官能团单体是含羧基单体的场合)，按照(含羧基单体的摩尔数)-(含不饱和基化合物的摩尔数)算出的值为羧基的含量。
作为构成丙烯酸系共聚物(a1)的(甲基)丙烯酸酯单体，可以使用(甲基)丙烯酸环烷酯、(甲基)丙烯酸苯甲酯、烷基的碳原子数1-18的(甲基)丙烯酸烷基酯。其中，特别优选烷基的碳原子数1-18的(甲基)丙烯酸烷基酯，例如可以使用(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯等。
丙烯酸系共聚物(a1)，通常以0.5-100摩尔％、优选1-40摩尔％、特别优选3-30摩尔％的比例含有由上述含官能团单体形成的结构单元，通常以0-99.5摩尔％、优选60-99摩尔％、特别优选70-97摩尔％的比例含有由(甲基)丙烯酸酯单体或其衍生物形成的结构单元。
丙烯酸系共聚物(a1)采用通常方法将如上述含有官能团的单体与(甲基)丙烯酸酯单体或其衍生物共聚制得，但除这些单体以外，也可以按少量(例如10摩尔％以下、优选5摩尔％以下)的比例共聚二甲基丙烯酰胺、甲酸乙烯酯、醋酸乙烯酯、苯乙烯等。
通过使上述有含官能团单体单元的丙烯酸系共聚物(a1)与有结合在该官能团上的取代基的含不饱和基的化合物(a2)反应，可以制得能量射线固化型共聚物(A)。
含不饱和基化合物(a2)具有的取代基，可根据丙烯酸系共聚物(a1)具有的含官能团单体单元的官能团的种类适当地进行选择。例如，官能团为羟基、氨基或取代氨基的场合，作为取代基优选异氰酸酯基或环氧基，官能团为羧基的场合，作为取代基优选氮丙啶基、异氰酸酯基、环氧基或噁唑啉基，官能团为环氧基的场合，作为取代基优选氨基、羧基或氮丙啶基。这样的取代基，每1个分子含不饱和基化合物(a2)中含一个取代基。
另外，含不饱和基化合物(a2)，每1个分子含1-5个，优选含1-2个能量射线聚合性的碳-碳双键。作为这样的含不饱和基化合物(a2)的具体例，例如，可举出甲基丙烯酰氧基乙基异氰酸酯、间异丙烯基-α，α-二甲基苄基异氰酸酯、甲基丙烯酰基异氰酸酯、烯丙基异氰酸酯；二异氰酸酯化合物或多异氰酸酯化合物与(甲基)丙烯酸羟基乙酯反应得到的丙烯酰基单异氰酸酯化合物；二异氰酸酯化合物或多异氰酸酯化合物与多元醇化合物和(甲基)丙烯酸羟基乙酯反应得到的丙烯酰基单异氰酸酯化合物；(甲基)丙烯酸缩水甘油酯；(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸2-(1-氮丙啶)乙酯、2-乙烯基-2-噁唑啉、2-异丙烯基-2-噁唑啉等。
上述丙烯酸系共聚物(a1)的每100当量含官能团单体，通常以5-100当量、优选10-90当量、特别优选20-80当量的比例使用含不饱和基化合物(a2)。
在丙烯酸系共聚物(a1)与含不饱和基化合物(a2)的反应中，可根据官能团与取代基的组合适当选择反应温度、压力、溶剂、时间、催化剂的有无、催化剂的种类。因此，存在于丙烯酸系共聚物(a1)中的侧链上的官能团与含不饱和基化合物(a2)中的取代基反应，在丙烯酸系共聚物(a1)中的侧链上导入不饱和基，可以制得能量射线固化型共聚物(A)。该反应中的官能团与取代基的反应率通常是70％以上、优选是80％以上，未反应的官能团也可以残留在能量射线固化型共聚物(A)中。
这样制得的能量射线固化型共聚物(A)的重均分子量优选是100,000以上、特别优选是150,000-1,500,000、再优选是200,000-1,000,000。
这里，作为能量射线使用紫外线的场合，可通过在上述能量射线固化型共聚物(A)中添加光聚合引发剂(B)减少聚合固化时间与光线照射量。
作为这样的光聚合引发剂(B)，具体地，可举出二苯甲酮、苯乙酮、苯偶因、苯偶因甲醚、苯偶因乙醚、苯偶因丙醚、苯偶因异丁醚、苯偶因苯甲酸、苯偶因苯甲酸甲酯、苯偶因二甲基缩酮、2，2-二甲氧基-1，2-二苯基乙烷-1-酮，2，4-二乙基硫呫吨酮、1-羟基环己基苯酮、苄基二苯基硫醚、一硫化四甲基秋兰姆、偶氮二异丁腈、苯偶酰、联苯偶酰、联乙酰、β-氯蒽醌、(2，4，6-三甲基苄基二苯基)氧化磷、2-苯并噻唑-N，N-二乙基二硫代氨基甲酸酯、低聚{2-羟基-2-甲基-1-[4-(1-丙烯基)苯基]丙酮}等。这些可以单独使用，也可以2种以上并用。
光聚合引发剂(B)，相对于能量射线固化型共聚物(A)100重量份(配合后述的能量射线固化性的多官能单体或低聚物成分(D)的场合，能量射线固化型共聚物(A)与能量射线固化性的多官能单体或低聚物成分(D)的合计量100重量份)优选按0.1-10重量份、特别优选按0.5-5重量份范围的量使用。
上述粘合剂层11，除了能量射线固化型共聚物(A)与光聚合引发剂(B)，还可以配合适宜的其他成分。作为其他的成分，例如可举出没有能量射线固化性的聚合物成分或低聚物成分(C)、能量射线固化性的多官能单体或低聚物成分(D)、交联剂(E)、其他的添加剂(F)。
作为没有能量射线固化性的聚合物成分或低聚物成分(C)，例如，可举出聚丙烯酸酯、聚酯、聚氨酯、聚碳酸酯、聚烯烃等，优选重均分子量3,000-250万的聚合物或低聚物。
作为能量射线固化性的多官能单体或低聚物成分(D)，例如，可举出三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、1，4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚酯低聚(甲基)丙烯酸酯、聚氨酯低聚(甲基)丙烯酸酯等。
作为交联剂(E)，可以使用与能量射线固化型共聚物(A)等具有的官能团有反应性的多官能性化合物。作为这样的多官能性化合物的例子，可举出异氰酸酯化合物、环氧化合物、胺化合物、三聚氰胺化合物、氮丙啶化合物、肼化合物、醛化合物、噁唑啉化合物、金属醇盐化合物、金属螯合化合物、金属盐、铵盐、反应性酚树脂等。
作为其他的添加剂(F)，例如，可举出紫外线吸收剂、抗氧剂、增粘剂、染料、偶联剂等。
通过在粘合剂层11中配合这些其他的成分(C)-(F)，可以改善固化前的粘合性与剥离性、固化后的强度，与其他层的粘合性、保存稳定性等。这些其他成分的配合量没有特殊限定，相对于能量射线固化型共聚物(A)100重量份，在0-150重量份的范围内适当地决定。
以下，对粘合剂层11以没有能量射线固化性的聚合物成分和能量射线固化性的多官能单体或低聚物的混合物为主要成分的场合进行说明。
作为这样的粘合剂层11使用的聚合物成分，例如，可以使用与前述的丙烯酸系共聚物(a1)相同的成分。这种丙烯酸系共聚物(a1)中，选择有作为官能团的羧基的丙烯酸系共聚物时，粘合剂层11与信息记录层的粘合力增高而优选。
另外，作为能量射线固化性的多官能单体或低聚物，选择与前述的成分(D)相同的化合物，聚合物成分与能量射线固化性的多官能单体或低聚物的配合比，相对于聚合物成分100重量份，优选多官能单体或低聚物是10-150重量份、特别优选是25-100重量份。
本粘合剂层11中也可以配合前述的其他的添加剂(F)。作为上述其他的添加剂(F)的配合量，例如，相对于能量射线固化型共聚物100重量份，按其他的添加剂(F)的合计优选是0-50重量份、特别优选是0-20重量份。
这里，粘合剂层11的厚度，根据信息记录层的凹凸图形(凹坑或沟槽)的深度决定，但通常是3-30μm左右、优选是15-25μm左右。
本实施方案中的保护片12是为了保护光盘上信息记录层用的膜片，构成光盘的受光面。
作为保护片12的材料，基本上可以是对信息再生或记录用的光波长范围有充分的光透过性的材料，但为了容易地制造光盘，优选刚性或柔软性适度的材料，另外，为了保管光盘，优选是对温度稳定的材料。作为这样的材料，例如，可以使用聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯乙烯等的树脂。
保护片12的线膨胀系数，为了在高温下不引起光盘翘曲，优选与光盘基板的线膨胀系数大致相同。例如，光盘基板由聚碳酸酯树脂构成的场合，优选保护片12也由相同聚碳酸酯树脂构成。
保护片12的厚度根据光盘的种类或其他层的厚度等决定，但通常是25-300μm左右，优选是50-200μm左右。
作为剥离片13，可以使用以往公知的片材，例如，可以使用利用聚硅氧烷系剥离剂等将聚对苯二甲酸乙二醇酯或聚丙烯等的树脂薄膜进行了剥离处理的膜片。
剥离片13，为了对粘合剂层11赋予平滑性，优选剥离处理侧(与粘合剂层11接触的侧)的表面粗糙度(Ra)是0.1μm以下。另外，剥离片13的厚度通常是10-200μm左右、优选是20-100μm左右。
本实施方案所述的光盘制造用片1采用以下的方法制得，即调制构成粘合剂层11的粘合剂，和根据要求再含有溶剂的涂布剂，使用吻式接触辊涂布机、反向辊涂布机、刮刀式涂布机、辊刀式涂布机、口模式涂布机等的涂布机涂布在保护片12上，干燥，形成粘合剂层11后，在该粘合剂层11的表面上重叠剥离片13的剥离处理面，通过将两者层合，或者在剥离片13的剥离处理面上涂布上述涂布剂使之干燥，形成粘合剂层11后，在该粘合剂层11的表面层合保护片12。
以下，对使用上述光盘制造用片1的光盘D1(一面一层式)的制造方法的一例进行说明。
首先，如图2(a)所示，制造有凹坑或沟槽/凸台形成的凹凸图形的光盘基板2。该光盘基板2，通常由聚碳酸酯构成，可采用注射成型等的成型法进行成型加工。
如图2(b)所示，采用溅射等的方法在上述光盘基板2的凹凸图形上形成反射膜3。反射膜3可以是单层膜，也可以是例如由反射膜、介电体膜、相变化膜与介电膜等形成的多层膜。
然后，如图2(c)所示，剥离除去光盘制造用片1的剥离片13，使粘合剂层11露出，如图2(d)所示，在光盘基板2上的反射膜3表面上压合粘合剂层11。
在这种状态下，使用能量射线照射装置，从保护片12侧或光盘基板2侧对粘合剂层11照射能量射线，通过使粘合剂层11固化，制得光盘D1。
作为能量射线，通常使用紫外线，电子射线等。能量射线的照射量依能量射线的种类而不同，例如紫外线的场合，光量优选100-500mJ/cm2左右。电子射线的场合，优选10-1000千拉德左右。
以下，对使用上述光盘制造用片1的光盘D2(一面两层式)的制造方法的另一例进行说明。
首先，与上述光盘D1的制造方法同样地，如图3(a)-(b)所示，制造有凹坑或沟槽/凸台形成的凹凸图形的光盘基板2，在该光盘基板2的凹凸图形上形成反射膜3。反射膜3可以制成与上述光盘D1的制造方法中的反射膜3相同的单层膜或多层膜。
然后，如图3(c)所示，在光盘基板2上的反射膜3上形成由能量射线固化性的材料形成的压模受容层4。该压模受容层4也可以采用旋转涂布法等涂布能量射线固化性材料的涂布剂形成，但优选预先在剥离片上形成压模受容层4，将压模受容层4与反射膜3贴合后，剥离除去剥离片形成。
接着，如图3(d)所示，在压模受容层4的表面上压合压膜S，把压模S的凹凸图形转印在压模受容层4上。在该状态下使用能量射线照射装置，从压模S侧或光盘基板2侧对压模受容层4照射能量射线，使压模受容层4固化。
压模S由镍合金等的金属材料或降冰片烯树脂等的透明树脂材料构成。此外，虽然图3(d)表示的压模S的形状是板状，但不受此限定，也可以是辊状。
压模受容层4固化后，将模S与压模受容层4分离。这样模S的凹凸图形便转印、固定在压模受容层4上，形成凹坑或沟槽/凸台后，接着如图3(e)所示，采用溅射法等的方法在压模受容层4的凹凸图形上形成半透明反射膜3′。该半透明反射膜3′可以是单层膜、也可以是例如半透明反射膜、介电体膜、相变化膜与介电体膜等构成的多层膜。
然后，剥离除去光盘制造用片1的剥离片13，使粘合剂层11露出，如图3(f)所示，将该粘合剂层11压合在半透明反射膜3′上。
在该状态下使用能量射线照射装置，从保护片12侧或光盘基板2侧对粘合剂层11照射能量射线，通过使粘合剂层11固化制得光盘D2。
这样地制得的光盘D1，D2，其固化前的储能弹性模量是103-106Pa，由于利用预先控制厚度的粘合剂层11粘合保护片12，故粘合剂层11没有厚度不均，可确保制品上要求的层厚的均匀性。
另外，光盘D1、D2中固化的粘合剂层11，其储能弹性模量是107Pa以上，由于即使施加部分的压力也难变形，故光盘D1、D2成为耐压痕性好的光盘。另外，通过固化的粘合剂层11的储能弹性模量是1011Pa以下，也几乎没有随粘合剂层11固化的体积收缩导致的光盘D1、D2的翘曲。
上述的光盘的制造方法仅仅是一例，使用本实施方案所述的光盘制造用片的光盘的制造方法不限于这些制造方法。
第2实施方案图4是本发明的第2实施方案所述的光盘制造用片的截面图，图5(a)-(e)是表示使用第2实施方案所述光盘制造用片的光盘制造方法一个例子的截面图。
如图4所示，本实施方案所述的光盘制造用片1′由粘合剂层11与层合在粘合剂层11的两面的剥离片13，13′构成。再者，剥离片13，13′是使用光盘制造用片1时被剥离的部分。
粘合剂层11由与上述第1实施方案所述的光盘制造用片1的粘合剂层11相同的材料构成，有同样的厚度。另外，剥离片13，13′可以使用与上述第1实施方案所述光盘制造用片1的剥离片13相同的材料。但最好剥离片13，13′的任何一方为轻剥离型片，另一方为重剥离型片。本实施方案中，剥离片13′为轻剥离型、剥离片13为重剥离型。
本实施方案所述的光盘制造用片1′采用以下的方法制得，即，调制构成粘合剂层11的粘合剂，根据需要再含有溶剂的涂布剂，使用吻式接触涂布机、反向辊涂布机、刮刀式涂布机、辊刀式涂布机、口模式涂布机等的涂布机，涂布在剥离片13(或剥离片13′)的剥离处理面上，干燥形成粘合剂层11后，在该粘合剂层11的表面上重合剥离片13′(或剥离片13)的剥离处理面，将两者层合。
以下，对使用上述光盘制造用片1′的光盘D1′(一面一层式)的制造方法的一个例子进行说明。
首先，与使用上述第1实施方案所述的光盘制造用片1的光盘D1的制造方法同样地，如图5(a)-(b)所示，制造有凹坑或沟槽/凸台形成的凹凸图形的光盘基板2，在该光盘基板2的凹凸图形上形成反射膜3。反射膜3可以制成与上述第1实施方案中的反射膜3同样的单层膜或多层膜。
然后，剥离除去光盘制造用片1′的剥离片13′，使粘合剂层11露出，如图5(c)所示，在光盘基板2上的反射膜3表面上压合粘合剂层11，再如图5(d)所示，从粘合剂层11上剥离除去剥离片13，使粘合剂层11露出后，如图5(e)所示，在露出的粘合剂层11上压合保护片12。作为保护片12，可以使用与上述第1实施方案所述的光盘制造用片1的保护片12同样的片材。
在该状态下使用能量射线照射装置，从保护片12侧或光盘基板2侧对粘合剂层11照射能量射线，通过使粘合剂层11固化制得光盘D1′。
此外，也可以采用与上述同样的方法制造一面2层式的光盘。
以上说明的实施方案是为了容易理解本发明所述的方法，不是为限定本发明所述的方法，因此，上述实施方案中所公开的各要素，也包含属于本发明技术范围的全部的设计变动或均等物。
例如，光盘制造用片1，1′中的剥离片13或剥离片13′可以省略。
实施例以下，利用实施例更具体地说明本发明，但本发明的范围不限于这些实施例。
实施例1在醋酸乙酯中按摩尔比69.22∶30.78使丙烯酸正丁酯与丙烯酸聚合，制得丙烯酸系共聚物(a1)溶液(固体成分浓度30重量％)。
在上述丙烯酸系共聚物溶液中加入作为含不饱和基化合物(a2)的甲基丙烯酰氧基乙基异氰酸酯，使甲基丙烯酰氧基乙基异氰酸酯的异氰酸酯基与丙烯酸系共聚物的羧基反应，制得作为能量射线固化性基的甲基丙烯酰基的平均侧链导入率为9.24摩尔％、重均分子量(Mw)为680,000的能量射线固化性丙烯酸酯共聚物(A)。
相对于制得的有能量射线固化性基的丙烯酸酯共聚物(A)溶液的固体成分100重量份，加入作为光聚合引发剂的2，2-二甲氧基-1，2-二苯基乙烷-1-酮5重量份和作为交联剂的异氰酸酯系交联剂(日本聚氨酯公司制Coronate L)1.7重量份，将固体浓度调到25重量％，制成粘合剂层用的涂布剂。
使用刮刀涂布机把上述粘合剂层涂布剂涂布在聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜的一面用聚硅氧烷树脂进行剥离处理过的剥离片(Lintec公司制，SP-PET 3811，厚度38μm，表面粗糙度(Ra)0.016μm)的剥离处理面上，使干燥膜厚为22μm，在90℃干燥1分钟，形成粘合剂层。
将该粘合剂层与作为保护片的聚碳酸酯薄膜(帝人公司制，Pure-Ace C110-78，厚度78μm)贴合后，老化一个星期，将此作为光盘制造用片A。
实施例2在与实施例1同样地制得的丙烯酸系共聚物(a1)溶液中，加入作为含不饱和基化合物(a2)的甲基丙烯酰氧基乙基异氰酸酯，使甲基丙烯酰氧基乙基异氰酸酯的异氰酸酯基与丙烯酸系共聚物的羧基反应，制得作为能量射线固化性基的甲基丙烯酰基的平均侧链导入率为18.48摩尔％、重均分子量(Mw)为760,000的能量射线固化性丙烯酸酯共聚物(A)。
使用制得的有能量射线固化性基的丙烯酸酯共聚物(A)，与实施例1同样地调制粘合剂层用的涂布剂，制造光盘制造用片B。
实施例3相对于与实施例1同样地制得的有能量射线固化性基的丙烯酸酯共聚物(A)的固体成分100重量份，加入由能量射线固化性的多官能单体与能量射线固化性的多官能低聚物组成的组合物(大日精化公司制，Seika Beam 14-29B(NPI))100重量份作为固体成分，再加入作为光聚合引发剂的2，2-二甲氧基-1，2-二苯基乙烷-1-酮10.0重量份，和作为交联剂的异氰酸酯系交联剂(日本聚氨酯公司制Coronat L)3.3重量份，将固体成分浓度调节到40重量％，制成粘合剂层用的涂布剂。
使用制得的粘合剂层用涂布剂，与实施例1同样地制造光盘制造用片C。
实施例4在醋酸乙酯中按摩尔比20.91∶64.08∶1.47∶13.54使丙烯酸正丁酯与甲基丙烯酸丁酯、丙烯酸羟基乙酯及二甲基丙烯酰胺聚合，制得丙烯酸系共聚物(a1)溶液(固体成分浓度35重量％)。
相对于制得的丙烯酸系共聚物(a1)溶液的固体成分100重量份，加入由能量射线固化性的多官能单体与能量射线固化性的多官能低聚物组成的组合物(大日精化公司制，Seika-Beam 14-29B(NPI))70重量份作为固体成分，再加入作为光聚合引发剂的2，2-二甲氧基-1，2-二苯基乙烷-1-酮8.5重量份和作为交联剂的异氰酸酯系交联剂(日本聚氨酯公司制，Coronat L)2.8重量份，把固体成分浓度调到40重量％，制成粘合剂层用的涂布剂。
使用制得的粘合剂层用涂布剂，与实施例1同样地制造光盘制造用片D。
实施例5使用刮刀涂布机把实施例1制得的粘合剂层用涂布剂涂布在聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜的一面用重剥离型的聚硅氧烷树脂进行了剥离处理的重剥离型剥离片(Lintec公司制，SP-PET3811，厚度38μm，表面粗糙度(Ra)0.016μm)的剥离处理面上，使干燥膜厚为22μm，在90℃干燥1分钟，形成粘合剂层。
接着，在该粘合剂层的表面上重合聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜的一面用轻剥离型的聚硅氧烷树脂进行了剥离处理的轻剥离型剥离片(Lintec公司制，SP-PET 38GS、厚度38μm，表面粗糙度(Ra)0.016μm)的剥离处理面，制成光盘制造用片E。
比较例1相对于与实施例1同样地制得的丙烯酸系共聚物(a1)溶液的固体成分100重量份，加入异氰酸酯系交联剂(日本聚氨酯公司制，Coronat L)1重量份，把固体成分浓度调到25重量％，制成没有能量射线固化性的粘合剂层用的涂布剂。
使用制得的粘合剂层用涂布剂，与实施例1同样地制造光盘制造片F。
相对于与实施例1同样地制得的有能量射线固化性基的丙烯酸酯共聚物(A)的固体成分100重量份，加入由能量射线固化性的多官能单体与能量射线固化性的多官能低聚物组成的组合物(大日本精化公司制，Seika-Beam 14-29B(NPI))400重量份作为固体成分，再加入作为光聚合引发剂的2，2-二甲氧基-1，2-二苯基乙烷-1-酮25重量份、作为交联剂的异氰酸酯系交联剂(日本聚氨酯公司制，Coronat L)4.1重量份，把固体成分浓度调到50重量％，制成粘合剂层用的涂布剂。
使用制得的粘合剂层用涂布剂，与实施例1同样地制造光盘制造用片G。
在醋酸乙酯中按摩尔比49.51∶21.14∶29.35使丙烯酸正丁酯与甲基丙烯酸甲酯和丙烯酸聚合，制得丙烯酸系共聚物(a1)溶液(固体成分浓度33重量％)。
在上述丙烯酸系共聚物(a1)溶液中加入甲基丙烯酰氧基乙基异氰酸酯，使甲基丙烯酰氧基乙基异氰酸酯的异氰酸酯基与丙烯酸系共聚物的羧基反应，制得作为能量射线固化性基的甲基丙烯酰基的平均侧链导入率为0.01摩尔％、重均分子量(Mw)为650,000的能量射线固化性丙烯酸酯共聚物(A)。
相对于制得的有能量射线固化性基的丙烯酸酯共聚物(A)溶液的固体成分100重量份，加入作为光聚合引发剂的2，2-二甲氧基-1，2-二苯基乙烷-1-酮5重量份和作为交联剂的金属螯合物系交联剂(川崎精细化学品公司制，Alumi chelate D)0.7重量份(固体成分)，把固体成分浓度调到20重量％，制成粘合剂层用的涂布剂。
使用制得的粘合剂层用涂布剂，与实施例1同样地制造光盘制造用片H。
相对于与实施例4同样地制得的丙烯酸系共聚物(a1)溶液的固体成分100重量份，加入由能量射线固化性的多官能单体与能量射线固化性的多官能低聚物组成的组合物(大日精化公司制，Seika-Beam14-29B(NPI))5重量份作为固体成分，再加入作为光聚合引发剂的2，2-二甲氧基-1，2-二苯基乙烷-1-酮5.3重量份和作为交联剂的异氰酸酯系交联剂(日本聚氨酯公司制，Coronat L)1.7重量份，把固体成分浓度调到30重量％，制成粘合剂层用的涂布剂。
使用制得的粘合剂层用涂布剂，与实施例1同样地制造光盘制造用片I。
使用粘弹性测定装置(Rheometrics公司制，装置名DYNAMICANALYZER RDAII)在1Hz下测定实施例1～5与比较例1～4制造的光盘制造用片A～I的粘合剂层固化前的储能弹性模量在25℃的值。把结果示于表1。
采用注射成型加工制造厚度1.1mm、外径120mm、内径15mm、一面有凹凸图形的聚碳酸酯制的光盘基板。采用溅射在该光盘基板的凹凸图形上形成铝合金构成的厚度约150nm的反射膜。
对实施例1～4与比较例1～4制造的光盘制造用片A～D与F～I，采用冲裁加工预先切成与上述光盘基板同样的形状后，剥掉剥离片，使露出的粘合剂层层合在上述光盘基板上的反射膜上，用29N的压力压合。
另外，对实施例5制造的光盘制造用片E，采用冲裁加工预先切成与上述光盘基板同样的形状后，剥掉轻剥离型剥离片，使露出的粘合剂层层合在上述光盘基板上的反射膜上，用29N的压力压合。接着，剥掉重剥离型剥离片，在露出的粘合剂层上层合与实施例1使用的保护片同样的保护片(但，预先切成与光盘基板同样的形状)，用29N的压力压合。
然后，除了光盘制造用片F以外，均从保护片侧照射紫外线(使用Lintec株式会社制，装置名Adwill RAD-2000m/8。照射条件照度130mW/cm2、光量400mJ/cm2)，使粘合剂层固化，制得光盘A～I。
(1)固化后的储能弹性模量使用粘弹性测定装置(Orientec株式会社制，装置名RheoribronDDV-II-EP)在3.5Hz下测定制造例制得的光盘A～I(除光盘F外)的粘合剂层(固化后)的储能弹性模量在25℃的值。把结果示于表1。
(2)粘合剂层层厚的均匀性采用冲裁加工把实施例1～5与比较例1～4制造的光盘制造用片A～I切成与光盘基板同样的形状。在该状态下采用汞灯投影法观察光盘制造用片的粘合剂层的厚度不均。
汞灯投影法，即在汞灯(Ushio电机公司制，光源SX-01250H Q、汞灯电源BA-H 250)与白色的投影用屏之间配置光盘制造用片，目视观察投影用屏上的光盘制造用片的投影。汞灯与光盘制造用片的距离为170cm，光盘制造用片与投影用屏的距离为30cm。
上述汞灯投影法中，如果粘合剂层上有局部的厚度不均，则由于在投影用屏上出现影，故可以采用目视确认厚度不均。把结果示于表1。表1中，○表示没有厚度不均的情况，×表示有厚度不均的情况。
(3)耐压痕性准备按10mm间隔将直径φ0.67mm，长度20mm的2根铁丝平行排列的夹具。在23℃，相对湿度65％的环境下，使上述光盘A～I保护片朝上地放置在平作业台上，在光盘A～I的保护片上载置上述夹具，同时在夹具上施加重量使总重量为500g。在该状态下放置24小时后，按照JIS B 0601测定光盘A～I的保护片侧的变形部分的弯曲曲线，由下式算出变形量。
变形量(μm)＝Wt-WtiWt荷重放置24小时后的弯曲曲线的最大截面高度Wti预先测定的荷重前的弯曲曲线的最大截面高度(1枚光盘测定6点的平均值)此外，弯曲曲线的测定，使用表面粗糙度计(Mitsutoyo公司制，SV 3000 S4、限阈值为λf＝2.5mm，λc＝0.08mm。把结果示于表1。
(4)粘合力按照JIS Z0237标准采用180度撕剥法测定实施例1～5与比较例1～4制造的光盘制造用片A～I的粘合力。粘合力的测定，将剥离除去剥离片的各光盘制造用片粘贴在试验板(SUS 304钢板)上后，照射紫外线(使用Lintec株式会社制装置名Adwill RAD-2000m/8。照射条件照度130mW/cm2，光量400mJ/cm2)，使粘合剂层固化后进行测定。
此外，关于实施例5制造的光盘制造用片E，对从光盘制造用片E上剥离轻剥离型剥离片、在露出的粘合剂层上用29N压合聚碳酸酯薄膜(帝人公司制，Pure-Ace C110-78，厚度78μm)的片，采用上述测定方法测定粘合力。
把结果示于表1。再者，光盘制造用片的粘合性，如果上述测定方法测的粘合力是150mN/25mm以上，则可以说粘合性良好。
表1
由表1可以看出，实施例1～5制得的光盘A～E，是粘合剂层的层厚均匀性、耐压痕性与粘合性好的光盘。
产业上利用的可能性根据本发明，可以制得粘合剂层有均匀的层厚、同时耐压痕性好的光盘。所述的本发明适合于蓝光盘、特别是裸盘化的蓝光盘使用。
权利要求
1.光盘制造用片材，其特征在于，是在光盘的记录层上粘合保护层用的光盘制造用片材，其具有固化前的储能弹性模量为103～106Pa、固化后的储能弹性模量为107～1011Pa的固化性的粘合剂层。
2.权利要求1所述的光盘制造用片材，其特征在于前述粘合剂层以能量射线固化性的高分子材料为主要成分。
3.权利要求2所述的光盘制造用片材，其特征在于前述能量射线固化性的高分子材料是侧链有能量射线固化性基的丙烯酸酯共聚物。
4.权利要求3所述的光盘制造用片材，其特征在于前述能量射线固化性基的平均侧链导入率是0.1～30摩尔％。
5.权利要求3或4所述的光盘制造用片材，其特征在于前述能量射线固化性基是不饱和基，并且，前述丙烯酸酯共聚物的重均分子量是100000以上。
6.权利要求2所述的光盘制造用片材，其特征在于前述能量射线固化性的高分子材料是侧链有能量射线固化性基的丙烯酸酯共聚物与能量射线固化性的多官能单体和/或低聚物的混合物。
7.权利要求2所述的光盘制造用片材，其特征在于前述能量射线固化性的高分子材料是没有能量射线固化性基的丙烯酸酯共聚物与能量射线固化性的多官能单体和/或低聚物的混合物。
8.权利要求1～7的任何一项所述的光盘制造用片材，其特征在于具有前述粘合剂层和保护层。
9.光盘，其特征在于是使用权利要求1～8的任何一项所述的光盘制造用片材制造的光盘，其利用固化的前述粘合剂层粘合前述保护层。
全文摘要
在光盘基板2上形成的反射膜3上层合具有固化前的储能弹性模量为10
文档编号G11B7/256GK1774753SQ20048001040
公开日2006年5月17日 申请日期2004年4月16日 优先权日2003年4月18日
发明者加藤一也, 久保田新, 宫田壮 申请人:琳得科株式会社