圆盘状玻璃基板、磁盘用玻璃基板、磁盘用玻璃基板的制造方法及磁盘的制作方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及用于得到磁盘用玻璃基板的圆盘状玻璃基板、以及磁盘用玻璃基板、 磁盘用玻璃基板的制造方法和磁盘。
【背景技术】
[0002] 如今，在个人计算机或DVD(Digital Versatile Disc)记录装置等中内置有用于 记录数据的硬盘装置（HDD :Hard Disk Drive)。特别是在笔记本型个人计算机等以移动性 为前提的设备中使用的硬盘装置中，使用在玻璃基板上设置有磁性层的磁盘，利用在磁盘 的面上方略微悬浮的磁头对磁性层记录磁记录信息或从磁性层读取磁记录信息。作为该磁 盘的基板，由于玻璃基板具有比金属基板（铝基板）等更难以发生塑性形变的性质，因而优 选使用玻璃基板。
[0003] 另外，应增大硬盘装置的存储容量的要求，寻求磁记录的高密度化。例如使用垂直 磁记录方式进行磁记录信息区域（记录位（bit))的微细化，在该垂直磁记录方式中，使磁 性层的磁化方向为与基板面垂直的方向。由此，能够增大1张磁盘基板的存储容量。并且， 为了进一步增大存储容量，还通过使磁头的记录再现元件部进一步突出，从而极大地缩短 其与磁记录层之间的距离，进一步提高信息的记录再现精度（提高S/N比）。另外，这种磁 头的记录再现元件部的控制被称作DFH(Dynamic Flying Height:动态飞行高度）控制机 构，配备了该控制机构的磁头被称作DHl头。对于与这种DHl头组合用于HDD的磁盘用玻 璃基板的主表面，为了避免与磁头或从磁头进一步突出的记录再现元件部之间的碰撞或接 触，将该主表面制作成极为平滑的表面。
[0004] 磁盘中记录有用于使磁头在数据轨道（data track)上定位的伺服信息。以往，已 知当降低磁盘外周侧的端面（以下，也称为"外周端面"。）的圆度时，磁头的悬浮稳定，良 好地进行伺服信息的读取，磁头进行的读写稳定。例如，在以下的专利文献1所记载的技术 中，记载了在形成玻璃基板的外周侧的端部的成型工序中，根据分别形成两个不同波长的 起伏的两个条件进行加工。由此，能够消除玻璃基板的外周端面的起伏，得到较高的圆度。
[0005] 在先技术文献
[0006] 专利文献
[0007] 专利文献1 :日本特开2009 - 157968号公报
【发明内容】
[0008] 发明所要解决的课题
[0009] 然而，已知当在磁盘用玻璃基板上成膜磁记录层来制作磁盘时，存在附着了被认 为是源自磁盘用玻璃基板的极其微小的玻璃成分的异物的情况。当在这样的异物附着于磁 盘用玻璃基板的状态下制造磁盘时，由于该异物而容易产生磁头划碰故障和热粗糙故障等 缺陷。
[0010]因而，本发明的目的在于，提供一种在制造磁盘用玻璃基板的过程中抑制了玻璃 成分异物的产生的圆盘状玻璃基板、以及磁盘用玻璃基板、磁盘用玻璃基板的制造方法和 磁盘。
[0011] 用于解决课题的手段
[0012] 本申请的发明人为了探明在制造磁盘用玻璃基板的过程中产生极其微小的玻璃 成分的异物的原因，进行了深入研究。其结果是，有时在玻璃基板的外周端面的全周产生点 状或者线状的破损（damage)，上述异物被推断为是在产生上述破损时产生的。另外，玻璃基 板的外周端面的破损有时将激光显微镜的倍率设定得相当大也难以发现，是比以往所推测 的破损微小的破损。
[0013] 更具体而言，推断出的产生原因如下。在制造磁盘用玻璃基板时，对作为用于制 造磁盘用玻璃基板的基础的圆盘状玻璃基板（用于得到磁盘用玻璃基板的圆盘状玻璃基 板），在将其保持在载具上的状态下，进行将玻璃基板的一对主表面按压在研磨垫上进行研 磨的主表面研磨处理。在该主表面研磨处理中，为了使玻璃基板易于收纳于载具，将载具的 内孔直径设定得稍大于玻璃基板的外径，因此在研磨中玻璃基板处于在载具内能够相对于 载具进行相对移动的状态。因此，玻璃基板的外周端面在研磨中抵上载具的内孔的端面。此 时，在玻璃基板的外周端面存在较深的凹凸的情况下，其凸部抵上载具的内孔的端面而被 削去，在玻璃基板的外周端面产生破损并且产生微小的玻璃成分的异物。其发生原因也可 以得到以下事项的支持：对于点状破损发生于外周端面的玻璃基板，观测到的点的周期与 研磨前取得的玻璃基板的外周端面的轮廓线上的凸部的周期大致一致。
[0014] 此外，外周端面的破损不仅是在上述的主表面研磨处理时产生，还可以考虑在对 磁盘用玻璃基板进行成膜时、夹持磁盘用玻璃基板的外周端面时产生的情况。即，还可以考 虑在磁盘用玻璃基板的外周端面中残留了较深的凹凸的情况下，为了成膜利用夹具握持玻 璃基板的外周端面时，由于夹具的按压，外周端面的凸部被削去，产生微小的玻璃成分的异 物。
[0015] 因为存在玻璃基板的外周端面的圆度越小则外周端面的凹凸的高度越小的倾向， 因而认为上述破损的产生变少，但发明人在推进深入研究时，发现对于在进行主表面研磨 处理前的时刻具有相同圆度的多个玻璃基板，存在主表面研磨处理后的玻璃基板的外周端 面的破损的产生程度不同的情况。具体而言，对于在主表面研磨处理前（a)遍及外周端部 的全周产生了较深的凹凸的玻璃基板、（b)仅在外周端部的一部分产生了较深的凹凸的玻 璃基板、以及（c)在外周端部没有较深的凹凸，但整体上呈椭圆状的玻璃基板，在主表面研 磨处理后观测玻璃基板的外周端面时，确认到只有（a)的玻璃基板存在较深的点状破损。 并且，圆度的测定是对上述轮廓线施加非常强的低通滤波（例如，以每一周的凸起峰的数 量为50个的周期作为截止（cut off)值的低通滤波）来进行的，圆度自身并不是将玻璃基 板的原始的轮廓线上的凹凸的数量和/或深度恰当地反映于测定结果的指标。因此，认为 在外周端面产生的破损的程度不仅取决于圆度的绝对值，还取决于外周端面的轮廓线的特 性。
[0016] 鉴于上述事项，本申请的发明人对使得用于得到磁盘用玻璃基板的圆盘状玻璃基 板在主表面研磨处理中抑制破损产生的、进行主表面研磨处理前的外周端面的圆度以及外 周端面的轮廓线的特性进行了考察，而完成了本发明。
[0017] 本发明的第一方面是一种圆盘状玻璃基板，其具备一对主表面，通过被保持于研 磨载具且主表面被研磨而成为磁盘用玻璃基板。其特征在于：该圆盘状玻璃基板的外周的 圆度为1. 3 μπι以下。并且，在求出根据第1轮廓线使用最小平方法得到的基准圆，将所述 第1轮廓线的比该基准圆向半径方向的外侧突出的凸起峰的数量设为第1峰计数值，并求 出根据第2轮廓线使用最小平方法得到的基准圆，将所述第2轮廓线的比该基准圆向半径 方向的外侧突出的凸起峰的数量设为第2峰计数值时，第2峰计数值与第1峰计数值之比 在0. 2以下，其中，所述第1轮廓线是该圆盘状玻璃基板的外周的一周的形状，所述第2轮 廓线是对第1轮廓线施加以每一周的凸起峰数量为150个的周期为截止值的低通滤波而得 到的。
[0018] 优选上述圆盘状玻璃基板的外周端面的表面粗糙度为算术平均粗糙度Ra在 0· 02 μm 以下。
[0019] 上述圆盘状玻璃基板的外径可以大于2. 5英寸尺寸的磁盘用玻璃基板。
[0020] 本发明的第二方面是一种磁盘用玻璃基板，其特征在于，通过对上述的圆盘状玻 璃基板的主表面进行研磨，形成为主表面的算术平均粗糙度Ra为0. 15nm以下。
[0021] 本发明的第三方面是一种具有一对主表面的磁盘用玻璃基板，其特征在于，该玻 璃基板的外周的圆度为1.3 μπι以下。并且，在求出根据第1轮廓线使用最小平方法得到 的基准圆，将所述第1轮廓线的比该基准圆向半径方向的外侧突出的凸起峰的数量设为第 1峰计数值，并求出根据第2轮廓线使用最小平方法得到的基准圆，将所述第2轮廓线的比 该基准圆向半径方向的外侧突出的凸起峰的数量设为第2峰计数值时，所述第2峰计数值 与所述第1峰计数值之比在〇. 2以下，其中，所述第1轮廓线是该圆盘状玻璃基板的外周的 一周的形状，所述第2轮廓线是对该第1轮廓线施加以每一周的凸起峰数量为150个的周 期为截止值的低通滤波而得到的。并且，磁盘用玻璃基板的主表面的算术平均粗糙度Ra为 0· 15nm 以下。
[0022] 本发明的第四方面是一种磁盘，其特征在于，在上述的磁盘用玻璃基板的主表面 上形成有磁性层。
[0023] 本发明的第五方面是一种磁盘用玻璃基板的制造方法，具有：使用研磨刷对圆盘 状玻璃基板的外周端面进行研磨的端面研磨处理；以及在利用载具对外周端面经研磨后的 所述玻璃基板进行保持的同时，对玻璃基板的主表面进行研磨的主表面研磨处理。
[0024] 其特征在于，在端面研磨处理中，所述圆盘状玻璃基板的外周的圆度为1. 3 μπι以 下；对外周端面进行研磨，以使得在求出根据第1轮廓线使用最小平方法得到的基准圆，将 所述第1轮廓线的比该基准圆向半径方向的外侧突出的凸起峰的数量设为第1峰计数值， 并求出根据第2轮廓线使用最小平方法得到的基准圆，将所述第2轮廓线的比该基准圆向 半径方向的外侧突出的凸起峰的数量设为第2峰计数值时，所述第2峰计数值与所述第1 峰计数值之比在〇. 2以下，其中，所述第1轮廓线是所述圆盘状玻璃基板的外周的一周的形 状，所述第2轮廓线是对所述第1轮廓线施加以每一周的凸起峰数量为150个的周期为截 止值的低通滤波而得到的。
[0025] 发明效果
[0026] 根据上述的圆盘状玻璃基板、磁盘用玻璃基板以及磁盘用玻璃基板的