合金。并且，也可以形成L 10 有序结构的CoPt系合金和/或FePt系合金，形成热辅助磁记录用磁性层。在上述成膜后， 例如通过CVD法使用C2H 4成膜出保护层，接着进行对表面导入氮的氮化处理，由此能够形成 磁记录介质。之后，例如通过浸渍涂布法在保护层上涂布PFPE (全氟聚醚），由此能够形成 润滑层。
[0087] 此外，在附着层与磁记录层之间，可以利用溅射法（包括DC磁控管溅射法、RF磁 控管溅射法等）、真空蒸镀法等公知的成膜方法形成SUL(软磁性层）、种子层、中间层等。
[0088] 制作出的磁盘优选与搭载了 DFH(Dynamic Flying Height)控制机构的磁头一起 组装进作为磁记录再现装置的HDD (Hard Disk Drive，硬盘驱动器）。
[0089] [实施例、比较例]
[0090] 为了确认本实施方式的磁盘用玻璃基板的效果，由制造出的玻璃基板制作2. 5英 寸的磁盘、进行LUL耐久试验，调查是否产生磁头划碰故障、热粗糙故障等缺陷。玻璃的组 分使用上述的非晶态的铝硅酸盐玻璃。
[0091] [实施例、比较例的圆盘状玻璃基板的制作]
[0092] 对于实施例、比较例的圆盘状玻璃基板，通过依序进行上述制造方法的各处理来 进行了制作。其中，
[0093] (1)的玻璃坯板的成型使用了冲压成型方法。在粗磨削中使用了氧化铝系游离磨 粒。
[0094] (2)的形状加工中，使用金刚石磨石，在玻璃基板的外周端部以及内周端部形成了 倒角面。
[0095] (3)的端面研磨中，将图3所示的研磨刷抵上圆盘状玻璃基板的外周端面的同时， 使研磨刷（通道辊式刷）与玻璃基板相对移动而进行研磨。对研磨刷与玻璃基板的端面之 间提供包含游离磨粒的研磨液来进行端面研磨。此时，如上所述，研磨刷的刷毛的直径和长 度可以通过适当调节轴芯的周围的通道刷的导前角θ (参照图3)、研磨刷对玻璃基板的外 周端面的按压压力等，而分别制作出表1所示的实施例、比较例的圆盘状玻璃基板。在表1 中，峰计数比是在将不实施低通滤波时的轮廓线的峰计数值设为PC1、将实施了 150凸起峰 /转的低通滤波时的轮廓线的峰计数值设为PC2时的PC2/PC1的值。并且，在表1中，圆度 是端面研磨后的值，是基于实施了 50凸起峰/转的低通滤波时的轮廓线计算出的值。
[0096] 接着，对实施例、比较例的圆盘状玻璃基板实施以下的（4)~（7)的处理来制作出 磁盘用玻璃基板。
[0097] (4)的精磨削中，使用将金刚石固定磨粒粘贴于定盘的磨削装置进行了磨削。
[0098] (5)的第1研磨中，使用具备行星齿轮机构的研磨装置进行60分钟研磨。使用了 平均粒径为I ym的氧化铈磨粒，并且作为研磨垫使用了硬质氨基甲酸乙酯垫。
[0099] (6)的化学强化中，作为化学强化液使用硝酸钾和硝酸钠的溶融盐进行了化学强 化处理。
[0100] (7)的第2研磨与第1研磨同样，是使用具备行星齿轮机构的研磨装置进行的。使 用了抛光件为聚氨酯泡沫制的软质抛光件的软毛皮型研磨垫。作为游离磨粒使用了平均粒 径为20nm的胶态二氧化硅。
[0101] 在表1中，关于实施例、比较例的圆盘状玻璃基板的评价是通过利用光学显微镜 及激光显微镜对以圆盘状玻璃基板为基础制作出的100张磁盘用玻璃基板的外周端面进 行观测并对产生了较深的破损（伤痕）的张数进行计数而进行的。作为计数对象的破损的 深度为0. 25 μ m以上深度的破损。
[0102] 表 1
[0104] 如表1的各实施例所示，确认到在端面研磨后的外周端面的圆度为I. 3 μ m以下且 峰计数比为0. 2以下的情况下，经过之后的主表面研磨处理得到的磁盘用玻璃基板的外周 端面不产生破损。即，在端面研磨后的外周端面的圆度为1. 3 μπι以下且峰计数比为0. 2以 下的情况下，不产生微小的玻璃成分的异物，因此，认为不产生因玻璃成分的异物引起的磁 头划碰故障和热粗糙故障等缺陷。
[0105] 利用激光显微镜对以实施例1~5的圆盘状玻璃基板为基础制作出的磁盘用玻璃 基板的外周端面进行了详细的观察，没有发现破损和异物。并且，对于任意的磁盘用玻璃基 板，主表面的算术平均粗糙度Ra均为0. 15nm以下。
[0106] 接着，在以实施例1~5的圆盘状玻璃基板为基础制作出的磁盘用玻璃基板的主 表面上依次层积付着层、衬底层、磁性层（磁记录层）、保护层、润滑层，制作磁盘。对于磁盘 的外周端面利用激光显微镜详细地进行观察时，未发现破损、异物。进而将制作出的磁盘搭 载于HDD进行了 LUL耐久性试验（60万次）。LUL耐久性试验是指将搭载了磁盘的硬盘驱 动器（HDD)放入温度70°C、湿度80%的恒温恒湿层的状态下，使头在灯与ID阻挡件之间不 停止运动地进行往复运动（查找动作），调查试验后的头的污渍、磨损等异常产生的试验。 LUL耐久性试验的结果，未产生磁头划碰、热粗糙等缺陷，得到了良好的结果。
[0107] 以上，详细地对本发明的圆盘状玻璃基板、磁盘用玻璃基板、磁盘用玻璃基板的制 造方法以及磁盘进行了说明，本发明不限于上述实施方式，当然能够在不脱离本发明的主 旨的范围内进行各种改良、变更。
【主权项】
1. 一种圆盘状玻璃基板，其具备一对主表面，通过被保持于研磨载具且主表面被研磨 而成为磁盘用玻璃基板，其特征在于， 所述圆盘状玻璃基板的外周的圆度为I. 3Iim以下， 在求出根据第1轮廓线使用最小平方法得到的基准圆，将所述第1轮廓线的比该基准 圆向半径方向的外侧突出的凸起峰的数量设为第1峰计数值，并求出根据第2轮廓线使用 最小平方法得到的基准圆，将所述第2轮廓线的比该基准圆向半径方向的外侧突出的凸起 峰的数量设为第2峰计数值时，所述第2峰计数值与所述第1峰计数值之比在0. 2以下，其 中，所述第1轮廓线是所述圆盘状玻璃基板的外周的一周的形状，所述第2轮廓线是对所述 第1轮廓线施加以每一周的凸起峰数量为150个的周期为截止值的低通滤波而得到的。2. 根据权利要求1所述的圆盘状玻璃基板，其特征在于， 外周端面的表面粗糙度为算术平均粗糙度Ra在0. 02ym以下。3. 根据权利要求1或2所述的圆盘状玻璃基板，其特征在于， 该圆盘状玻璃基板的外径大于2. 5英寸尺寸的磁盘用玻璃基板。4. 一种磁盘用玻璃基板，其特征在于， 通过对权利要求1~3中的任意一项所述的圆盘状玻璃基板的主表面进行研磨，形成 为主表面的算术平均粗糙度Ra为0. 15nm以下。5. -种磁盘用玻璃基板，其具有一对主表面，其特征在于， 所述玻璃基板的外周的圆度为I. 3 ym以下， 在求出根据第1轮廓线使用最小平方法得到的基准圆，将所述第1轮廓线的比该基准 圆向半径方向的外侧突出的凸起峰的数量设为第1峰计数值，并求出根据第2轮廓线使用 最小平方法得到的基准圆，将所述第2轮廓线的比该基准圆向半径方向的外侧突出的凸起 峰的数量设为第2峰计数值时，所述第2峰计数值与所述第1峰计数值之比在0. 2以下，其 中，所述第1轮廓线是所述玻璃基板的外周的一周的形状，所述第2轮廓线是对所述第1轮 廓线施加以每一周的凸起峰数量为150个的周期为截止值的低通滤波而得到的， 所述主表面的算术平均粗糙度Ra为0. 15nm以下。6. -种磁盘，其特征在于，在权利要求4或5所述的磁盘用玻璃基板的主表面上形成有 磁性层。7. -种磁盘用玻璃基板的制造方法，具有： 使用研磨刷对圆盘状玻璃基板的外周端面进行研磨的端面研磨处理；以及 在利用载具对外周端面经研磨后的所述玻璃基板进行保持的同时，对所述玻璃基板的 主表面进行研磨的主表面研磨处理，其特征在于， 在所述端面研磨处理中， 所述圆盘状玻璃基板的外周的圆度为I. 3 ym以下， 对外周端面进行研磨，以使得在求出根据第1轮廓线使用最小平方法得到的基准圆， 将所述第1轮廓线的比该基准圆向半径方向的外侧突出的凸起峰的数量设为第1峰计数 值，并求出根据第2轮廓线使用最小平方法得到的基准圆，将所述第2轮廓线的比该基准圆 向半径方向的外侧突出的凸起峰的数量设为第2峰计数值时，所述第2峰计数值与所述第 1峰计数值之比在〇. 2以下，其中，所述第1轮廓线是所述圆盘状玻璃基板的外周的一周的 形状，所述第2轮廓线是对所述第1轮廓线施加以每一周的凸起峰数量为150个的周期为 截止值的低通滤波而得到的。
【专利摘要】具备一对主表面的圆盘状玻璃基板，其通过被保持于研磨载具且主表面被研磨而成为磁盘用玻璃基板，外周的圆度为1.3μm以下。在求出根据所述圆盘状玻璃基板的外周的一周的形状即第1轮廓线使用最小平方法得到的基准圆，将第1轮廓线的比该基准圆向半径方向的外侧突出的凸起峰的数量设为第1峰计数值；求出根据对第1轮廓线施加以每一周的凸起峰数量为150个的周期为截止值的低通滤波得到的第2轮廓线使用最小平方法得到的基准圆，将第2轮廓线的比该基准圆向半径方向的外侧突出的凸起峰的数量设为第2峰计数值时，第2峰计数值与第1峰计数值之比在0.2以下。
【IPC分类】G11B5/84, G11B5/73, G11B5/82, C03C19/00
【公开号】CN105164751
【申请号】CN201480023887
【发明人】鹿岛隆一
【申请人】Hoya株式会社
【公开日】2015年12月16日
【申请日】2014年6月27日
【公告号】WO2014208717A1