技术总结
一种激光退火装置及激光退火方法，其在短时间内有效地进行是否适当地进行了激光退火处理的确认工序。激光退火装置(1)具备：激光源(2)；激光照射光学系统(3)，将从激光源(2)射出的激光照射至处理对象基板(W)的处理区域(Sn)；照明光源(4)，射出可见光区的照明光；照明光学系统(5)，将从照明光源(4)射出的光照射至处理区域(Sn)；及光谱检测部(6)，检测出在用激光进行了退火处理的处理区域(Sn)反射的可见光区的光，并输出其光谱特征。
技术研发人员：城户淳二
受保护的技术使用者：城户淳二
文档号码：201580044475
技术研发日：2015.08.19
技术公布日：2017.05.10