光波导探测器与光模块的制造方法与工艺

本发明实施例涉及半导体领域，并且更具体地，涉及一种光波导探测器与光模块。

背景技术：
现阶段的硅光互连系统主要是将调制器、光波导探测器和一些无源功能性器件集成在单一芯片上，其中调制器用于将电信号转化为光信号，从而使发射端的光信号可以在光纤中传输，光波导探测器用于将光信号转化为电信号，从而可以对接收端的光信号进行后续电路处理。用于将光信号转换为电信号的光波导探测器是硅光互连系统中的核心器件。当前主流光波导探测器为水平PIN(LPIN)光波导探测器，LPIN光波导探测器在硅波导内进行掺杂，从而在硅波导内形成PN结，该PN结在锗波导的下方，可以在锗波导内产生一定的电场。由于锗能够吸收光信号，因而在电场作用下，锗波导内产生光生载流子，从而实现将光信号转换为电信号。但是目前LPIN光波导探测器的锗波导内部的电场分布较弱，导致光生载流子在电场中的传输速率相对较低，LPIN光波导探测器的带宽相对较低。

技术实现要素：
本申请提供一种光波导探测器与光模块，能够有效提高光波导探测器的带宽。第一方面，提供了一种光波导探测器，包括：沿第一方向堆叠的波导层、上包层和电极层，所述上包层位于所述波导层和所述电极层之间；所述波导层包括硅波导层和锗波导层，所述锗波导层位于所述硅波导层和所述上包层之间；所述硅波导层包括沿第二方向排列的P型硅高掺杂区、P型硅轻掺杂区、N型硅轻掺杂区和N型硅高掺杂区，所述P型硅轻掺杂区在所述P型硅高掺杂区与所述N型硅轻掺杂区之间，所述N型硅轻掺杂区在所述P型硅轻掺杂区与所述N型硅高掺杂区之间，所述第二方向垂直于所述第一方向；所述锗波导层包括第一锗高掺杂区和锗未掺杂区，所述锗波导层的第一表面包括所述第一锗高掺杂区的表面，所述第一表面为所述锗波导层在所述第一方向上背向所述硅波导层的表面，所述第一锗高掺杂区的宽度大于零且小于或等于所述第一表面宽度的一半，所述第一锗高掺杂区的厚度大于或等于5nm且小于或等于200nm；所述上包层内设有第一金属过孔，所述第一金属过孔连接所述第一锗高掺杂区与所述电极层。在本申请中，通过在锗波导上设置锗高掺杂区，相当于在锗波导上设置电极，锗波导上的电极可以与硅波导上异性的电极形成PN结，从而能够增强锗波导内的电场强度，提高光生载流子的迁移速率，进而能够有效提高光波导探测器的带宽。结合第一方面，在第一方面的第一种可能的实现方式中，所述第一锗高掺杂区为P型锗高掺杂区，所述第一锗高掺杂区在所述第一表面内的中心点与所述第一表面的第一边缘的距离小于或等于所述中心点与所述第一表面的第二边缘的距离，所述第一边缘为所述第一表面在所述第二方向上靠近所述P型硅高掺杂区的边缘，所述第二边缘为所述第一表面在所述第二方向上靠近所述N型硅高掺杂区的边缘。在本申请中，通过在锗波导上靠近P型硅高掺杂区的位置设置P型锗高掺杂区，不仅能够增强锗波导内的电场强度，也使得锗波导内的电场强度较为均匀，从而能够有效提高光生载流子的迁移速率，提高光波导探测器的带宽。结合第一方面的第一种可能的实现方式，在第一方面的第二种可能的实现方式中，所述第一锗高掺杂区在所述第一表面上的且沿着所述第二方向距离所述P型硅高掺杂区最近的边缘与所述第一边缘重合。结合第一方面的第一种或第二种可能的实现方式，在第一方面的第三种可能的实现方式中，所述上包层中还包括第三金属过孔，所述第三金属过孔连接所述P型硅高掺杂区与所述电极层；连接所述第一金属过孔的电极层与连接所述第三金属过孔的电极层的电极极性相同且电压大小相同。结合第一方面，在第一方面的第四种可能的实现方式中，所述第一锗高掺杂区为N型锗高掺杂区，所述第一锗高掺杂区在所述第一表面内的中心点与所述第一表面的第一边缘的距离大于或等于所述中心点与所述第一表面的第二边缘的距离，所述第一边缘为所述第一表面在所述第二方向上靠近所述P型硅高掺杂区的边缘，所述第二边缘为所述第一表面在所述第二方向上靠近所述N型硅高掺杂区的边缘。在本申请中，通过在锗波导上靠近N型硅高掺杂区的位置设置N型锗高掺杂区，不仅能够增强锗波导内的电场强度，也使得锗波导内的电场强度较为均匀，从而能够有效提高光生载流子的迁移速率，提高光波导探测器的带宽。结合第一方面的第四种可能的实现方式，在第一方面的第五种可能的实现方式中，所述第一锗高掺杂区在所述第一表面上的且沿着所述第二方向距离所述N型硅高掺杂区最近的边缘与所述第二边缘重合。结合第一方面的第四种或第五种可能的实现方式，在第一方面的第六种可能的实现方式中，所述上包层中还包括第四金属过孔，所述第四金属过孔连接所述N型硅高掺杂区与所述电极层；连接所述第一金属过孔的电极层与连接所述第四金属过孔的电极层的电极极性相同且电压大小相同。结合第一方面，在第一方面的第七种可能的实现方式中，所述锗波导层还包括第二锗高掺杂区，所述第一表面还包括所述第二锗高掺杂区的表面，所述第二锗高掺杂区的宽度大于零且小于或等于所述第一表面宽度的一半，所述第二锗高掺杂区的厚度大于或等于5nm且小于或等于200nm；所述第一锗高掺杂区为P型锗高掺杂区，所述第二锗高掺杂区为N型锗高掺杂区；所述上包层内还设有第二金属过孔，所述第二金属过孔连接所述第二锗高掺杂区与所述电极层。在本申请中，通过在锗波导上设置P型锗高掺杂区与N型锗高掺杂区，换句话说，在锗波导上设置P型电极与N型电极，从而能够更加有效地增强锗波导内的电场强度，进一步提高光生载流子的迁移速率，进而能够有效提高光波导探测器的带宽。结合第一方面的第七种可能的实现方式，在第一方面的第八种可能的实现方式中，所述第一锗高掺杂区在所述第一表面内的中心点与所述第一表面的第一边缘的距离小于或等于所述第一锗高掺杂区在所述第一表面内的中心点与所述第一表面的第二边缘的距离；所述第二锗高掺杂区在所述第一表面内的中心点与所述第一表面的第一边缘的距离大于或等于与所述第二锗高掺杂区在所述第一表面内的中心点与所述第一表面的第二边缘的距离；所述第一边缘为所述第一表面在所述第二方向上靠近所述P型硅高掺杂区的边缘，所述第二边缘为所述第一表面在所述第二方向上靠近所述N型硅高掺杂区的边缘。在本申请中，通过在锗波导上靠近P型硅高掺杂区的位置设置P型锗高掺杂区，以及在锗波导上靠近N型硅高掺杂区的位置设置N型锗高掺杂区，在增强锗波导内的电场强度的同时，也使得锗波导内的电场强度较为均匀，从而能够有效提高光生载流子的迁移速率，提高光波导探测器的带宽。结合第一方面的第八种可能的实现方式，在第一方面的第九种可能的实现方式中，所述第一锗高掺杂区在所述第一表面上的且沿着所述第二方向距离所述P型硅高掺杂区最近的边缘与所述第一边缘重合，所述第二锗高掺杂区在所述第一表面上的且沿着所述第二方向距离所述N型硅高掺杂区最近的边缘与所述第二边缘重合。结合第一方面的第七种至第九种可能的实现方式中任一种可能的实现方式，在第一方面的第十种可能的实现方式中，所述第一锗高掺杂区与所述第二锗高掺杂区之间具有间隙。应理解，所述第一锗高掺杂区与所述第二锗高掺杂区彼此之间不接触。结合第一方面的第七种至第十种可能的实现方式中的任一种可能的实现方式，在第一方面的第十一种可能的实现方式中，所述上包层中还包括第三金属过孔与第四金属过孔，所述第三金属过孔连接所述P型硅高掺杂区与所述电极层，所述第四金属过孔连接所述N型硅高掺杂区与所述电极层；连接所述第一金属过孔的电极层与连接所述第三金属过孔的电极层的电极极性相同且电压大小相同，连接所述第二金属过孔的电极层与连接所述第四金属过孔的电极层的电极极性相同且电压大小相同。结合第一方面或第一方面的第一种至第十一种可能的实现方式中的任一种可能的实现方式，在第一方面的第十二种可能的实现方式中，所述锗未掺杂区的宽度大于或等于100nm且小于或等于2μm。应理解，所述锗未掺杂区的宽度指的是所述锗未掺杂区在所述第二方向上的最大长度，换句话说，所述锗未掺杂区的宽度与所述锗波导层的宽度一致。所述锗波导层的宽度小于2μm，能够保证锗波导内传输的是单模波导，从而可以减小由于模式转换引起的损耗。结合第一方面或第一方面的第一种至第十二种可能的实现方式中的任一种可能的实现方式，在第一方面的第十三种可能的实现方式中，所述P型硅轻掺杂区与所述N型硅轻掺杂区相邻。应理解，所述P型硅轻掺杂区与所述N型硅轻掺杂区相邻的边界可以相接触，也可以具有间隙。在所述P型硅轻掺杂区与所述N型硅轻掺杂区相邻的边界之间具有间隙的情况下，所述间隙的宽度小于所述锗波导层的宽度。结合第一方面或第一方面的第一种至第十三种可能的实现方式中的任一种可能的实现方式，在第一方面的第十四种可能的实现方式中，所述P型硅高掺杂区与所述锗波导层之间的最小距离大于或等于100nm且小于或等于3μm；所述N型硅高掺杂区与所述锗波导层之间的最小距离大于或等于100nm且小于或等于3μm。应理解，将所述P型硅高掺杂区与所述N型硅高掺杂区分别与所述锗波导层的距离设置在合理范围内，能够降低硅波导层上的高掺杂区引起的光学损耗。在上述各个实现方式中，宽度指的是在所述第二方向上的长度，厚度指的是在所述第一方向上的长度。例如所述第一锗高掺杂区的宽度指的是所述第一锗高掺杂区在所述第二方向上的长度，所述第一锗高掺杂区的厚度指的是所述第一锗高掺杂区在所述第一方向上的长度。在上述各个实现方式中，所述锗波导层在所述P型硅轻掺杂区与所述N型硅轻掺杂区相邻的位置的上方。在上述各个实现方式中，所述硅波导层与所述锗波导层的厚度均大于100nm且小于3μm，以保证光能够限制在波导层中，同时使得光波导探测器的器件尺寸也不会很大。在上述各个实现方式中，高掺杂区的掺杂浓度大于1×1019cm-3，典型掺杂浓度是1×1020cm-3；轻掺杂区的掺杂浓度小于1×1019cm-3，典型掺杂浓度是1×1018cm-3。在上述各个实现方式中，所述波导层位于下包层与所述上包层之间，所述上包层与所述下包层的材料的折射率小于波导层的折射率，从而使光限制在波导层中传输。具体地，下包层为材料是SiO2的埋氧层。在上述各个实现方式中，可以采用传统工艺实现所述金属过孔与高掺杂区的连接。基于上述技术方案，在本申请中，通过在锗波导上设置锗高掺杂区，相当于在锗波导上设置电极，锗波导上的电极可以与硅波导上异性的电极形成PN结，从而能够增强锗波导内的电场强度，提高光生载流子的迁移速率，进而能够有效提高光波导探测器的带宽。第二方面，本发明实施例提供了一种光模块，该光模块包括处理电路与如第一方面或第一方面的第一种可能实施方式至第一方面的第十四种可能实施方式中任一可能实施方式所述的光波导探测器，所述光波导探测器用于将光信号转换为电信号，所述处理电路用于处理所述光波导探测器所得的所述电信号。在本申请中，通过在锗波导上设置锗高掺杂区，相当于在锗波导上设置电极，锗波导上的电极可以与硅波导上异性的电极形成PN结，能够增强锗波导内的电场强度，提高光生载流子的迁移速率，从而能够有效提高光波导探测器的带宽，即提高光波导探测器将光信号转化为电信号的效率，进而提高所述光模块对光信号的处理效率。附图说明为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1示出了绝缘体上硅SOI的示意图。图2(a)至图2(d)示出了现有技术中光波导探测器的基本结构的示意图。图3示出了图2(d)所示波导结构的光场分布的示意图。图4示出了现有技术中的LPIN光波导探测器的结构示意图。图5示出了图4所示LPIN光波导探测器的电场分布的示意图。图6示出了根据本发明实施例提供的光波导探测器的结构示意图。图7示出了根据本发明实施例提供的光波导探测器的电场分布的示意图。图8示出了根据本发明另一实施例提供的光波导探测器的结构示意图。图9示出了根据本发明再一实施例提供的光波导探测器的结构示意图。图10示出了图9所示光波导探测器的电场分布的示意图。图11示出了根据本发明实施例提供的光模块的示意性框图。具体实施方式下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。硅(Si)材料作为微电子领域的传统材料，在加工工艺和制作成本上有着其他材料无可比拟的优势，硅基光电子集成技术应运而生。现阶段的硅光互连器件均是基于绝缘体上硅(Silicon-on-insulator，SOI)平台，通过离子注入、刻蚀、淀积和材料生长等CMOS工艺实现硅光集成。SOI的结构如图1所示，SOI自下而上由衬底硅、埋氧层(BuriedOxide，Box)(成分为SiO2)和波导层硅(也可称之为Si波导层)构成。由于SiO2的折射率比较小(约1.44)，而Si的折射率很大(约3.47)，因此SOI中的折射率差很大，对光的限制很强，导致其波导尺寸很小，典型的波导尺寸是400nm×220nm。现阶段的硅光互连系统主要是将调制器、探测器和一些无源功能性器件集成在单一芯片上，其中调制器将电信号转化为光信号，从而使发射端的光信号可以在光纤中传输，探测器(PhotoDetector，PD)将光信号转化为电信号，从而可以对接收端的光信号进行后续电路处理，应理解，调制器是发射端设备的一部分，探测器是接收端设备的一部分。用于将光信号转换为电信号的探测器是硅光互连系统中的核心器件，该探测器主要是由锗(Ge)材料实现的，也称之为Ge探测器。Ge探测器的基本结构如图2所示，主要是在SOI上生长Ge材料(例如利用硅基外延生长锗技术制备)，通过改变材料的生长条件控制Ge材料的厚度，利用刻蚀的方法控制Ge材料的宽度，从而在Si波导上生成Ge波导。Ge波导在SOI上的结构有多种，包括如图2(a)所示的常规结构，如图2(b)所示的台阶状结构，如图2(c)所示的刻蚀结构，如图2(d)所示的复合结构，或者其他结构等。在室温(300K)下，Si可探测的长波极限为1.107μm，Ge的可吸收长波极限约为1.87μm，因此，在红外通信波段(主要是1.31μm，1.490μm和1.55μm)下，Si相当于透明材料，Ge可以作为光吸收材料进行光电转化。图3示出了图2(d)所示复合波导结构的光场分布，可以看出光场在Ge波导中心位置最强，同时Ge波导四周边缘位置的光场强度比较弱。然而，由于锗与硅之间存在晶格结构的失配，导致通过硅基外延生长锗技术制备的Ge探测器存在大量的晶格缺陷，再由于Ge波导侧壁的悬挂键，导致在Si/Ge界面处的电场较大，从而产生了较大的暗电流。应理解，光电二极管没有光照时，在半导体内部，由于热电子发射等原因也会产生自由载流子，即自由运动的电子和空穴，它们在电场的作用下也会产生电流，这种无光照时在电路上流动的电流称之为暗电流。探测器的暗电流越大，噪声就越大，从而无法解调出比较弱的光信号；此外，暗电流大说明探测器的发热比较严重，会影响探测器的寿命。针对上述技术问题，当前主流光波导探测器(即Ge探测器)为水平PIN(LPIN)光波导探测器，其结构如图4所示，在光波导探测器的Si波导层进行掺杂，P++、P+、N++、N+分别为P型高掺杂区、P型硅轻掺杂区、N型高掺杂区、N型硅轻掺杂区，高掺杂区与金属过孔连接，以保证良好的欧姆接触，轻掺杂区用来提供载流子，以保证电场的合理分布，从而在Si波导内实现PN结。LPIN光波导探测器的PN结的电场分布如图5所示，从图中可以看出，在Si/Ge界面处的电场分布仅覆盖Si/Ge界面的一半左右，从而在一定程度上降低了Si/Ge界面处的电场强度，因此，可以减小探测器的暗电流。然而，LPIN光波导探测器的Ge波导内部的电场分布较弱，光生载流子在电场中的传输速率相对较低，因此，在相同的偏置电压下，LPIN光波导探测器的带宽相对较低，即现有LPIN光波导探测器限制了波导探测器的带宽。实现具有高带宽、低暗电流的硅基锗光电探测器(即Ge探测器)是当前高速光通信和光互连系统的要求。针对上述技术问题，本发明实施例提供一种波导探测器，能够在降低光波导探测器的暗电流的同时，有效提高光波导探测器的带宽。图6示出了本发明实施例提供的波导探测器100的结构示意图，包括沿第一方向堆叠的下包层1、波导层2、上包层3和电极层5(如图6所示的焊盘PAD)。上包层3中包括金属过孔4，该金属过孔4用于实现电极层5与波导层2的电连接。波导层2包括Si波导层21和Ge波导层22，Ge波导层22位于上包层3与Si波导层21之间。具体地，所述Ge波导层22的宽度大于或等于100nm且小于或等于2μm。所述Si波导层21通常与上包层3与下包层2等宽，例如Si波导层21宽度为400nm。Ge波导层22包括Ge未掺杂区221和Ge高掺杂区222，应理解，Ge未掺杂区221吸收光信号，将光信号转化为电信号。Ge波导层22的第一表面(如图6所示的所述Ge波导层22在第一方向上背向所述Si波导层21的表面U)包括Ge高掺杂区222的表面，且Ge高掺杂区222的宽度大于零且小于Ge波导层22的第一表面的宽度的一半。Ge高掺杂区222通过金属过孔42与焊盘51连接，从而使得Ge高掺杂区222连接电源(图6未画出电源)。Si波导层21包括沿第二方向排列的P型硅高掺杂区211(如图6所示的Si波导上的P++)、P型硅轻掺杂区212(如图6所示的Si波导上的P+)、N型硅轻掺杂区214(如图6所示的Si波导上的N+)和N型硅高掺杂区213(如图6所示的Si波导上的N++)。如图6所示，所述P型硅轻掺杂区与所述N型硅轻掺杂区相邻的边界位于所述锗波导层的下方。所述P型硅轻掺杂区212在所述P型硅高掺杂区211与所述N型硅轻掺杂区214之间，所述N型硅轻掺杂区214在所述P型硅轻掺杂区212与所述N型硅高掺杂区213之间。P型硅高掺杂区211通过金属过孔41与焊盘51连接，N型硅高掺杂区213通过金属过孔43与焊盘52连接，从而使得P型硅高掺杂区211与N型硅高掺杂区213连接电源，应理解，二者连接的是电源的两个极性。可选地，在本发明实施例中，该Ge高掺杂区222可以是P型高掺杂区，也可以是N型高掺杂区。应理解，在Ge高掺杂区222为P型高掺杂区的情况下，相当于在Ge波导层上具有一个P型电极。而Si波导层上的N型硅高掺杂区213相当于一个N型电极，图6所示结构中的电极层5接通电源后，上述P型电极与N型电极之间会形成PN结，则会在Ge波导层22内形成电场，如图7所示。类似地，在Ge高掺杂区222为N型高掺杂区的情况下，相当于在Ge波导层上具有一个N型电极。而Si波导层上的P型硅高掺杂区213相当于一个P型电极，图6所示结构中的电极层5接通电源后，上述P型电极与N型电极之间会形成PN结，同样会在Ge波导层22内形成电场。应理解，相对于现有LPIN波导探测器，本发明实施例能够有效增强Ge波导内的电场强度，从而提高光生载流子的迁移速率，进而能够有效提高光波导探测器的带宽。应理解，提高探测器的带宽，从而能够提高探测器将光信号转化为电信号的效率。此外，由图7可知，在Si/Ge界面处的电场分布仅覆盖Si/Ge界面的一半左右，在一定程度上降低了Si/Ge界面处的电场强度，从而可以减小探测器的暗电流。因此，相对于现有LPIN波导探测器，本发明实施例在保持较小暗电流的同时，能够有效提高光波导探测器的带宽，即能够同时兼顾探测器的暗电流与带宽这两项性能指标，从而满足当前高速光通信系统的基本要求。本发明实施例涉及的所述第二方向与所述第一方向互相垂直，假设第一方向为竖直方向，则第二方向为水平方向。应理解，下包层1例如为图1所示的埋氧层Box。上包层3材料的折射率小于波导层2的折射率，埋氧层1材料的折射率小于波导层2的折射率，从而使光限制在波导层2中传输。还应理解，下包层1位于衬底之上(图6中未示出，对应于图1中所示的衬底Substrate)。在本发明实施例中，Si波导层21和Ge波导层22的厚度大于100nm，小于3um，以保证光能够限制在波导层2中，同时器件尺寸也不会很大。在本发明实施例中，Ge波导层22的宽度小于2um，以保证Ge波导内传输的是单模波导，从而可以减小由于模式转换引起的损耗。在本发明实施例中，P型硅高掺杂区211与Ge波导层22之间的最小距离大于或等于100nm且小于或等于3μm；N型硅高掺杂区213与Ge波导层22之间的最小距离大于或等于100nm且小于或等于3μm，以保证由于高掺区引起的光学损耗较小，同时电场可以有效地加载到PN结，保证器件的大带宽。在本发明实施例中，P型Si轻掺杂区212靠近N型Si轻掺杂区214的边界处，以及N型Si轻掺杂区214靠近P型Si轻掺杂区212的边界处，均位于Ge波导层22的下方。可选地，在本发明实施例中，P型Si轻掺杂区212与N型Si轻掺杂区214相接触。具体地，如图6中所示。可选地，在本发明实施例中，P型Si轻掺杂区212与N型Si轻掺杂区214相邻的边界之间具有间隙(GAP)，且该间隙的宽度小于Ge波导22的宽度。在本发明实施例中，当Ge高掺杂区222与P型高掺杂区211注入的是相同的离子，则Ge高掺杂区222位于Ge未掺杂区221的第一表面U上靠近P型高掺杂区211的边缘位置。当Ge高掺杂区222与N型高掺杂区213注入的是相同的离子，则Ge高掺杂区222位于Ge未掺杂区221的第一表面U上靠近N型高掺杂区213的边缘位置。可选地，在本发明实施例中，Ge波导层22上的Ge高掺杂区222为P型高掺杂区，Ge高掺杂区222在所述第一表面U内的中心点与所述第一表面U的第一边缘的距离小于或等于所述中心点与所述第一表面U的第二边缘的距离，所述第一边缘为所述第一表面U在所述第二方向上靠近所述P型硅高掺杂区211的边缘，所述第二边缘为所述第一表面U在所述第二方向上靠近所述N型硅高掺杂区213的边缘。可选地，在本发明实施例中，所述锗高掺杂区222在所述第一表面U上的且沿着所述第二方向距离所述P型硅高掺杂区211最近的边缘与所述第一边缘重合。具体地，如图6所示，P型Ge高掺杂区222在Ge波导层22的左边缘。对应地，如图7所示，Ge未掺杂区221内部的电场强度的方向在Ge波导221的左上边缘到右下边缘之间的方向上。具体地，图7示出了图6所示结构的电场分布，通过比较图5和图7所示的电场分布可知，本发明实施例的Ge波导内的电场强度较大，从而可以加速光生载流子在电场中的传输速率，进而可以提高探测器的带宽。应理解，载流子迁移率为载流子(电子或空穴)在单位电场作用下的平均迁移速率，是由器件结构和材料所决定的固有属性。在载流子迁移率确定的情况下，如果增加电场强度，可以提高载流子的迁移速率。如果在Ge波导内形成较强的电场强度，则可以有效的提高Ge波导内光生载流子(所谓光生载流子是指由于光强引起的载流子)的迁移速率。提高光生载流子的迁移速率，就能减小光生载流子到两极收集区所用的渡越时间，从而能够提高探测器的带宽。可选地，在本发明实施例中，连接P型Ge高掺杂区222的金属过孔42的电极层与连接P型硅高掺杂区211的金属过孔41的电极层的电极极性相同且电压大小相同。具体地，如图6所示，P型高掺杂区222的金属过孔42可以与P型硅高掺杂区211的金属过孔42共享一个焊盘51。可选地，在本发明实施例中，Ge波导层22上的Ge高掺杂区222为N型高掺杂区，Ge高掺杂区222在所述第一表面U内的中心点与所述第一表面U的第一边缘的距离大于或等于所述中心点与所述第一表面U的第二边缘的距离，所述第一边缘为所述第一表面在所述第二方向上靠近所述P型硅高掺杂区的边缘，所述第二边缘为所述第一表面在所述第二方向上靠近所述N型硅高掺杂区的边缘。可选地，在本发明实施例中，锗高掺杂区222在所述第一表面U上的且沿着所述第二方向距离所述N型硅高掺杂区213最近的边缘与所述第二边缘重合。具体地，如图8所示，N型Ge高掺杂区222在Ge波导层22的右边缘。对应地，Ge未掺杂区221内部的电场强度的方向在Ge波导221的右上边缘到左下边缘之间的方向上。应理解，图8所示波导探测器结构的电场分布(未示出)与图7所示的电场分布类似，相对现有LPIN结构，本发明实施例能够有效增强Ge波导内的电场强度，从而可以加速光生载流子在电场中的传输速率，进而可以提高探测器的带宽。从图7所示的波导探测器结构的电场分布中还可知，在Si/Ge界面处的电场分布仅覆盖Si/Ge界面的一半左右，在一定程度上降低了Si/Ge界面处的电场强度，从而可以减小探测器的暗电流。因此，在本发明实施例中，通过在锗波导上设置锗高掺杂区，相当于在锗波导上设置电极，锗波导上的电极可以与硅波导上异性的电极形成PN结，从而能够增强锗波导内的电场强度，提高光生载流子的迁移速率，进而能够有效提高光波导探测器的带宽。因此，本申请相对于现有LPIN波导探测器，在保持较小暗电流的同时，能够有效提高光波导探测器的带宽，同时兼顾探测器的暗电流与带宽这两项性能指标，能够满足当前高速光通信和光互连系统的基本要求。可选地，在本发明实施例中，连接N型高掺杂区222的金属过孔42的电极层与连接N型硅高掺杂区213的金属过孔42的电极层的电极极性相同且电压大小相同。具体地，如图8所示，N型高掺杂区222的金属过孔42可以与N型硅高掺杂区213的金属过孔42共享一个焊盘52。从图3所示的图2(d)所示复合波导结构的光场分布可知，光场在Ge波导中心位置最强，在Ge波导的四周边缘位置的光场强度比较弱。因此，在本发明实施例中，将Ge高掺杂区222设置在Ge波导层22的边缘位置，能够减少Ge波导内的光场与高掺杂材料之间的相互作用，进而能够降低Ge波导的光吸收损耗。应理解，在本发明实施例中，当Ge波导层22上的Ge高掺杂区222为P型高掺杂区的情形下，Ge高掺杂区222的金属过孔42可以与Si波导层的P型硅高掺杂区211的金属过孔41共享同一个焊盘51，如图6所示。当Ge波导层22上的Ge高掺杂区222为N型高掺杂区的情形下，Ge高掺杂区222的金属过孔42可以与Si波导层的N型硅高掺杂区213的金属过孔41共享同一个焊盘52(如图8所示)。应理解，Ge高掺杂区222的金属过孔42也可以与独立的焊盘连接，本发明实施例对此不作限定。图6所示的波导探测器结构可称之为P型单边双电极探测器结构，图8所示的波导探测器结构可称之为N型单边双电极探测器结构。图9还示出了根据本发明实施例提供的波导探测器的另一结构示意图。与图6和图8所示的波导探测器的结构的区别在于，Ge波导层22包括两个Ge高掺杂区，即Ge高掺杂区222与Ge高掺杂区223。Ge波导层22的第一表面U包括Ge高掺杂区222的表面与Ge高掺杂区223的表面，且Ge高掺杂区222与Ge高掺杂区223各自的宽度大于零且小于或等于该第一表面U的宽度的一半。Ge高掺杂区222与Ge高掺杂区223各自的厚度大于或等于5nm且小于或等于200nm。Ge高掺杂区222通过金属过孔42与焊盘51连通，N型高掺杂区223通过金属过孔44与焊盘52连通。在本发明实施例中，高掺杂区222的注入离子与P型硅高掺杂区211相同(即为P型高掺杂区222)，且高掺杂区222位于Ge波导层22靠近P型硅高掺杂区211的边缘。高掺杂区223的注入离子与N型硅高掺杂区213相同(即为N型高掺杂区223)，高掺杂区223位于Ge波导层22靠近N型硅高掺杂区213的边缘。可选地，在本发明实施例中，P型Ge高掺杂区222在所述第一表面U内的中心点与所述第一表面U的第一边缘的距离小于或等于P型Ge高掺杂区222在所述第一表面U内的中心点与所述第一表面U的第二边缘的距离；N型高掺杂区223在所述第一表面U内的中心点与所述第一表面U的第一边缘的距离大于或等于与N型高掺杂区223在所述第一表面U内的中心点与所述第一表面的第二边缘的距离；所述第一边缘为所述第一表面U在所述第二方向上靠近所述P型硅高掺杂区211的边缘，所述第二边缘为所述第一表面U在所述第二方向上靠近所述N型硅高掺杂区213的边缘。可选地，在本发明实施例中，P型Ge高掺杂区222在所述第一表面U上的且沿着所述第二方向距离所述P型硅高掺杂区最近的边缘与所述第一边缘重合，N型高掺杂区223在所述第一表面U上的且沿着所述第二方向距离所述N型硅高掺杂区最近的边缘与所述第二边缘重合。具体地，如图9所示，P型Ge高掺杂区222位于Ge波导层22的左上边缘，N型高掺杂区223位于Ge波导层22的右上边缘。图9所示的波导探测器结构可称之为双边双电极波导探测器结构。图10示出了图9所示的双边双电极波导探测器结构的电场分布的示意图。通过对比图7和图10可知，图9所示的双边双电极波导探测器结构的Ge波导内的电场强度更大，且分布较为均匀，从而能够更有效地提高光生载流子的迁移速率，进而提高波导探测器的带宽。此外，由图10可知，在Si/Ge界面处的电场分布仅覆盖Si/Ge界面的一半左右，在一定程度上降低了Si/Ge界面处的电场强度，从而可以减小探测器的暗电流。因此，在本发明实施例中，通过在锗波导上设置P型锗高掺杂区与N型锗高掺杂区，相当于在锗波导上设置P型电极与N型电极，从而能够更加有效地增强锗波导内的电场强度，同时，也使得Ge波导内的电场分布较为均匀，能够进一步提高光生载流子的迁移速率，进而能够有效提高光波导探测器的带宽。可选地，在本发明实施例中，连接P型Ge高掺杂区222的金属过孔42的电极层与连接P型硅高掺杂区211的金属过孔41的电极层的电极极性相同且电压大小相同；连接N型高掺杂区223的金属过孔44的电极层与连接N型硅高掺杂区213的金属过孔42的电极层的电极极性相同且电压大小相同。具体地，如图9所示，P型Ge高掺杂区222的金属过孔42可以与P型硅高掺杂区211的金属过孔41共享一个焊盘51，N型高掺杂区223的金属过孔44可以与N型硅高掺杂区213的金属过孔42共享一个焊盘52。应理解，图9中的每个金属过孔可以分别对应独立的焊盘，本发明实施例对此不作限定。因此，在本发明实施例中，通过在锗波导上设置锗高掺杂区，相当于在锗波导上设置电极，锗波导上的电极可以与硅波导上异性的电极形成PN结，从而能够增强锗波导内的电场强度，提高光生载流子的迁移速率，进而能够有效提高光波导探测器的带宽。此外，在本发明实施例中，波导探测器的Si/Ge异质界面处的电场强度较弱，则波导探测器的暗电流较小。因此，本申请相对于现有LPIN波导探测器，在保持较小暗电流的同时，能够有效提高光波导探测器的带宽，同时兼顾探测器的暗电流与带宽这两项性能指标，能够满足当前高速光通信和光互连系统的基本要求。可选地，在本发明实施例中，P型锗高掺杂区222与N型锗高掺杂区223之间具有间隙。具体地，如图9所示，P型锗高掺杂区222与N型锗高掺杂区223之间不接触。对应地，金属过孔42和44之间也存在间隙，该间隙不大于Ge波导层22的宽度。应理解，在本发明实施例中，P型锗高掺杂区222与N型锗高掺杂区223之间也可以彼此相接处，即二者之间没有如图9所示的间隙，本发明实施例对此不作限定。还应理解，高掺杂区211和213用于减少金属过孔41与43与Si波导层21之间的接触电阻，Ge高掺杂区222用于减少金属过孔42与Ge波导层22之间的接触电阻，轻掺杂区212和214用来提供载流子的传输通道，以保证电场的合理分布。可选地，在本发明实施例中，Si波导层21从左至右依次包括P型硅高掺杂区211(P++)、P型硅轻掺杂区212(P+)、N型硅轻掺杂区214(N+)和N型硅高掺杂区213(N++)。如图6所示。可选地，在本发明实施例中，Si波导层21从左至右依次包括N型硅高掺杂区213(N++)、N型硅轻掺杂区214(N+)、P型硅轻掺杂区212(P+)和P型硅高掺杂区211(P++)。应理解，在本发明实施例中，埋氧层1的材料是SiO2，上包层3的材料的折射率小于硅的折射率，例如上包层3的材料为氮化硅等，本发明实施例对此不作限定。在本发明实施例中，高掺杂区211、213和222的掺杂浓度大于1×1019cm-3，典型掺杂浓度是1×1020cm-3；轻掺杂区212和214的掺杂浓度小于1×1019cm-3，典型掺杂浓度是1×1018cm-3。还应理解，如图6所示焊盘(PAD)是指给金属过孔加电的部分，由于金属过孔很小，因此可以通过增加焊盘的面积，提高给金属过孔充电的效率。还应理解，在本发明实施例中，图6与图8所示的单边双电极探测器结构，以及图9所示的双边双电极波导探测器结构，相比于现有的LPIN结构的波导探测器，要在Ge波导进行离子注入(图6和图8对应一次离子注入，图9对应两次离子注入)，虽然需要额外的工艺，但是离子注入的工艺相对比较成熟，难度比较低，因此，易于实现，重要的是，本发明实施例提出的波导探测器相比于现有的波导探测器，性能有相对较大的提升，即可以在保证低暗电流的前提下提高其带宽，能够很好地满足当前高速光通信和光互连系统的要求。此外，将电极(即高掺杂区)放置在Ge波导的边缘，可以减小由于高掺区引起光的吸收损耗。还应理解，图6、8、9示出的是本发明实施例提供的光波导探测器的横截面示意图。图6、图8与图9所示例子是为了更好地帮助本领域技术人员更好地理解本发明实施例，而非将本发明限于这些具体的形式。本领域技术人员根据所给出的图6、8、9的例子，显然可以进行各种等价的修改或变化，这样的修改或变化也落入本发明实施例的范围内。本发明实施例涉及的光波导探测器指的是硅光互连系统中可以单片集成的Ge探测器。本发明实施例提供的波导探测器，可以应用于硅光集成的光电器件或者分立的光器件领域中。图11示出了根据本发明实施例提供的光模块600，所述光模块600包括光波导探测器610与处理电路620，该光波导探测器610如本发明上述各个实施例所描述的光波导探测器，该光波导探测器610用于将光信号转换为电信号；该处理电路620用于处理该光波导探测器610由光信号转换得到的电信号。在本发明实施例中，通过在锗波导上设置锗高掺杂区，相当于在锗波导上设置电极，锗波导上的电极可以与硅波导上异性的电极形成PN结，能够增强锗波导内的电场强度，提高光生载流子的迁移速率，从而能够有效提高光波导探测器的带宽，即提高光波导探测器将光信号转化为电信号的效率，进而提高所述光模块对光信号的处理效率。以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。