1.一种向处理装置供给气体的气体供给系统，其特征在于，包括：
构成所述气体供给系统的多个构成部件；和
用于配置所述多个构成部件的基座，
在所述多个构成部件中，一部分构成部件配置于所述基座的一个面，另一部分构成部件配置于作为所述基座的所述一个面的背面的另一个面。
2.如权利要求1所述的气体供给系统，其特征在于：
在所述多个构成部件中，包括：
控制所述气体的流量的流量控制器；
上游阀，其在所述气体流动的方向上，上游侧与所述气体的供给源连接，下游侧与所述流量控制器连接；和
下游阀，其在所述气体流动的方向上，上游侧与所述流量控制器连接，下游侧与所述处理装置连接，
所述流量控制器配置于所述基座的一个面，
所述上游阀和所述下游阀配置于所述基座的另一个面。
3.如权利要求2所述的气体供给系统，其特征在于，包括：
第一配管，其连接所述上游阀和所述流量控制器，供所述气体流通；和
第二配管，其连接所述流量控制器和所述下游阀，供所述气体流通，
所述第一配管和所述第二配管贯通所述基座且在所述基座的内部形成为直线状。
4.如权利要求3所述的气体供给系统，其特征在于：
所述流量控制器是具有控制阀和节流孔的压力控制式流量计，
所述控制阀与所述节流孔之间的所述气体的流路的容积V1和所述节流孔与所述下游阀之间的所述气体的流路的容积V2具有V1/V2≥9的关系。
5.如权利要求4所述的气体供给系统，其特征在于：
所述控制阀与所述节流孔之间的所述气体的流路的容积V1和所述节流孔与所述下游阀之间的所述气体的流路的容积V2具有V1/V2≤200的关系。
6.如权利要求3所述的气体供给系统，其特征在于：
所述上游阀经由排气阀与排气装置连接。
7.一种气体供给控制方法，其在向处理装置供给气体的气体供给系统中，控制向所述处理装置的所述气体的供给，所述气体供给控制方法的特征在于：
所述气体供给系统包括：
控制所述气体的流量的流量控制器；
上游阀，其在所述气体流动的方向上，上游侧与所述气体的供给源连接，下游侧与所述流量控制器连接；
下游阀，其在所述气体流动的方向上，上游侧与所述流量控制器连接，下游侧与所述处理装置连接；
基座，其用于配置所述流量控制器、所述上游阀和所述下游阀；
第一配管，其连接所述上游阀和所述流量控制器，供所述气体流通；和
第二配管，其连接所述流量控制器和所述下游阀，供所述气体流通，
所述流量控制器配置于所述基座的一个面，
所述上游阀和所述下游阀配置于作为所述基座的所述一个面的背面的另一个面，
所述第一配管和所述第二配管贯通所述基座且在所述基座的内部形成为直线状，
所述流量控制器是具有控制阀和节流孔的压力控制式流量控制器，
所述控制阀与所述节流孔之间的所述气体的流路的容积V1和所述节流孔与所述下游阀之间的所述气体的流路的容积V2具有V1/V2≥9的关系，
所述气体供给控制方法包括：
打开所述上游阀的步骤；和
一边将所述控制阀与所述节流孔之间的所述气体的流路的压力P1和所述节流孔与所述下游阀之间的所述气体的流路的压力P2维持在P1＞2×P2，一边通过打开和关闭所述下游阀，对所述气体向所述处理装置的供给进行控制的步骤。
8.一种气体置换方法，其对向处理装置供给气体的气体供给系统内的所述气体进行置换，所述气体置换方法的特征在于：
所述气体供给系统包括：
控制所述气体的流量的流量控制器；
上游阀，其在所述气体流动的方向上，上游侧与所述气体的供给源连接，下游侧与所述流量控制器连接；
下游阀，其在所述气体流动的方向上，上游侧与所述流量控制器连接，下游侧与所述处理装置连接；
基座，其用于配置所述流量控制器、所述上游阀和所述下游阀；
第一配管，其连接所述上游阀和所述流量控制器，供所述气体流通；和
第二配管，其连接所述流量控制器和所述下游阀，供所述气体流通，
所述流量控制器配置于所述基座的一个面，
所述上游阀和所述下游阀配置于作为所述基座的所述一个面的背面的另一个面，
所述第一配管和所述第二配管贯通所述基座且在所述基座的内部形成为直线状，
所述上游阀经由排气阀与排气装置连接，
所述气体置换方法包括：
打开所述上游阀和所述排气阀的步骤；和
通过所述排气装置将所述流量控制器的上游侧的所述气体的流路内的所述气体排出的步骤。