紫外线照射装置及紫外线照射方法与流程

本发明涉及紫外线照射装置及紫外线照射方法。

背景技术：

在构成液晶显示器等的显示面板的玻璃基板上，形成有布线图案及电极图案等微细的图案。例如，这样的图案可利用光刻法等方法形成。光刻法包括以下工序：将抗蚀剂膜涂布于玻璃基板的工序，将抗蚀剂膜曝光的工序，将曝光后的抗蚀剂膜显影的工序及向显影后的抗蚀剂膜照射紫外线等光的工序(固化(cure)工序)。

上述的固化工序可利用向基板照射紫外线的紫外线照射装置进行。例如，专利文献1中公开了具有沿水平方向搬运基板的带式搬运机构、和向基板照射紫外线的紫外线照射机构的构成。

专利文献2中公开了具有保持基板的基板保持器、向基板照射紫外线的紫外线发生源、和改变从紫外线发生源发出的紫外线的照射方向的反射板的构成。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开平4-97515号公报

专利文献2：日本特开2006-114848号公报

技术实现要素：

发明所要解决的课题

然而，专利文献1中，为在带式搬运机构的上方设置设有紫外线照射机构等的上盖、在被上盖覆盖的空间内一边沿水平方向搬运基板一边照射紫外线的构成，因此，在搬运基板时，有可能在空间内产生微细的尘埃等(以下称为“粒子(particle)”。)。

专利文献2中，为在处理室内设置基板保持台及电动机、用电动机使基板保持台上下移动或旋转的构成，因此，在使基板移动时，有可能在处理室内产生粒子。

上述专利文献1及2中，由于在使基板移动时有可能产生粒子，因此，产生的粒子有时附着在基板上，在保持基板清洁方面存在问题。

鉴于上述这样的情况，本发明的目的在于提供一种紫外线照射装置及紫外线照射方法，所述紫外线照射装置及紫外线照射方法可抑制在收容部内产生粒子，可保持基板清洁。

用于解决课题的手段

本发明的一个方式涉及的紫外线照射装置包括：收容部，所述收容部可在密闭空间内收容基板；照射部，所述照射部被设置于上述收容部的外部，可向上述基板照射紫外线；和移动部，所述移动部被设置于上述收容部的外部，使上述照射部在上述收容部的外部移动，以使得从上述收容部的外部向被收容在上述收容部的内部的上述基板照射上述紫外线。

通过上述构成，可在使基板在具有密闭空间的收容部的内部静止的状态下，一边在收容部的外部移动照射部一边向收容部的内部的基板照射紫外线，因此，不需要考虑伴随着基板的移动而产生粒子。另外，由于在收容部的外部进行照射部的移动，因此，即使假设伴随着照射部的移动而产生粒子，通过使收容部为密闭空间，也能避免粒子侵入到收容部内。因此，可抑制在收容部内产生粒子，可保持基板清洁。

另外，通过在使基板静止的状态下移动照射部，从而即使使用平面视图尺寸比照射部大的基板，与在使照射部静止的状态下移动基板的情况相比，也可节约向基板照射紫外线时所需要的空间(space)，可减小占用面积(footprint)。

另外，通过形成为使基板在收容部内静止的状态，从而收容部内只要确保基板的收容空间即可，因此，与使基板在收容部内移动的情况相比，可减小收容部的容积，将会容易进行收容部内的氧浓度·露点的管理。另外，可减少在调节收容部内的氧浓度时使用的氮的消耗量。

上述的紫外线照射装置中，可在上述收容部中设置有透射部，所述透射部可透射上述紫外线。

通过上述构成，可利用使用了透射部的简单的构成，经由透射部向基板照射紫外线。

上述的紫外线照射装置中，上述收容部可包括顶板，所述顶板覆盖上述基板的上方，上述透射部可被设置于上述顶板。

通过上述构成，可利用在收容部的顶板上设置有透射部的简单的构成，经由透射部向基板照射紫外线。另外，通过在收容部的一部分中设置透射部，从而与在收容部整体中设置透射部的情况相比，可提高透射部的维护性。

上述的紫外线照射装置中，上述移动部可包括：引导部，所述引导部以夹隔上述收容部的方式沿上述照射部的移动方向延伸；和门型框，所述门型框以跨越上述收容部的方式形成为门型，并且被设定为可沿上述引导部移动；在上述门型框上可设置保持部，所述保持部保持上述照射部。

通过上述构成，与一般的沿导轨(rail)移动照射部的情况相比，可利用具有高刚性的门型框使照射部沿引导部移动，因此，可稳定地进行照射部的移动。

上述的紫外线照射装置中，上述收容部可包括第一收容部及第二收容部，所述第一收容部及第二收容部可在密闭空间内收容上述基板，并且沿上述照射部的移动方向并列；上述引导部可包括第一导轨和第二导轨，所述第一导轨以夹隔上述第一收容部的方式延伸，所述第二导轨沿上述照射部的移动方向与上述第一导轨并列，并且以夹隔上述第二收容部的方式延伸。

通过上述构成，可沿第一导轨及第二导轨移动照射部，因此，可连续地进行对第一收容部内的基板的紫外线照射、和对第二收容部内的基板的紫外线照射。

另外，由于包括第一收容部及第二收容部，所以可同时处理两片基板。

另外，由于可在使基板在具有密闭空间的第一收容部内及第二收容部内静止的状态下，一边在第一收容部外及第二收容部外移动照射部，一边向第一收容部内及第二收容部内的基板照射紫外线，因此，可抑制在第一收容部内及第二收容部内产生粒子，可保持基板清洁。

另外，具有第一收容部及第二收容部的构成中，不仅可实现占用面积缩小，各收容部内的氧浓度·露点的管理变得容易，而且可削减在调节各收容部内的氧浓度时使用的氮的消耗量。

上述的紫外线照射装置中，可在上述照射部的移动方向上的上述第一导轨与上述第二导轨之间，可装卸地设置引导辅助部，所述引导辅助部辅助上述门型框的移动。

通过上述构成，通过装卸引导辅助部，可切换仅沿第一导轨或第二导轨中的一方移动门型框的模式、和连续地沿第一导轨及第二导轨移动门型框的模式。例如，通过拆卸引导辅助部，可切换成仅沿第一导轨或第二导轨中的一方移动门型框的模式。另一方面，通过连接引导辅助部，可切换成连续地沿第一导轨及第二导轨移动门型框的模式。

上述的紫外线照射装置中，可在上述收容部的外部设置冷却部，所述冷却部可将上述照射部冷却。

通过上述构成，可将照射部冷却，因此，即使在向基板连续照射紫外线时等连续驱动照射部的情况下，也可抑制照射部过热。

上述的紫外线照射装置中，上述移动部可使上述冷却部与上述照射部一同地在上述收容部的外部移动。

通过上述构成，可一并使照射部及冷却部一体地移动，因此，与分别独立地移动照射部及冷却部的情况相比，可实现装置构成的简单化。

上述的紫外线照射装置中，可在上述收容部中设置氧浓度调节部，所述氧浓度调节部可调节上述收容部的内部气氛的氧浓度。

通过上述构成，可将收容部的内部气氛的氧浓度调节成规定的浓度，因此，可在规定的氧浓度的条件下向基板照射紫外线。

上述的紫外线照射装置中，可在上述收容部中设置露点调节部，所述露点调节部可调节上述收容部的内部气氛的露点。

通过上述构成，可将收容部的内部气氛的露点调节成规定的露点，因此，可在规定的露点的条件下向基板照射紫外线。

本发明的一个方式涉及的紫外线照射方法是使用了下述紫外线照射装置的紫外线照射方法，所述紫外线照射装置包括：收容部，所述收容部可在密闭空间内收容基板；和照射部，所述照射部被设置于上述收容部的外部，可向上述基板照射紫外线；

所述紫外线照射方法包括以下步骤：收容步骤，将上述基板收容在上述收容部中的密闭空间内；照射步骤，向上述基板照射紫外线；和移动步骤，使上述照射部在上述收容部的外部移动，以使得从上述收容部的外部向被收容在上述收容部内部的密闭空间内的上述基板照射上述紫外线。

通过该方法，可在使基板在具有密闭空间的收容部的内部静止的状态下，一边在收容部的外部移动照射部一边向收容部的内部的基板照射紫外线，因此，不需要考虑伴随着基板的移动而产生粒子。另外，由于在收容部的外部进行照射部的移动，因此，即使假设伴随着照射部的移动而产生粒子，通过使收容部为密闭空间，也能避免粒子侵入到收容部内。因此，可抑制在收容部内产生粒子，可保持基板清洁。

另外，通过在使基板静止的状态下移动照射部，从而即使使用平面视图尺寸比照射部大的基板，与在使照射部静止的状态下移动基板的情况相比，也可节约向基板照射紫外线时所需要的空间，可减小占用面积。

另外，通过形成为使基板在收容部内静止的状态，从而收容部内只要确保基板的收容空间即可，因此，与使基板在收容部内移动的情况相比，可减小收容部的容积，将会容易进行收容部内的氧浓度·露点的管理。另外，可减少在调节收容部内的氧浓度时使用的氮的消耗量。

上述的紫外线照射方法中，可在上述收容部中设置有透射部，所述透射部可透射上述紫外线，上述移动步骤可使上述照射部在上述收容部的外部移动，以使得经由上述透射部向上述收容部的内部的上述基板照射上述紫外线。

通过该方法，可利用使用了透射部的简单的构成，经由透射部向基板照射紫外线。

上述的紫外线照射方法中，上述移动步骤可使上述照射部在引导部的一端与另一端之间往复移动，所述引导部以夹隔上述收容部的方式沿上述照射部的移动方向延伸。

通过该方法，与使照射部在引导部的一端与另一端之间仅沿一个方向移动的情况相比，即使在向基板反复照射紫外线时，也可顺利且高效地照射。另外，由于设置一个照射部即足矣，因此，可实现装置构成的简单化。

上述的紫外线照射方法中，可在上述收容部的外部设置冷却部，所述冷却部可将上述照射部冷却，上述移动步骤可使上述冷却部与上述照射部一同地在上述收容部的外部移动。

通过该方法，可一并使照射部及冷却部一体地移动，因此，与分别独立地移动照射部及冷却部的情况相比，可实现装置构成的简单化。

上述的紫外线照射方法中，可包括氧浓度调节步骤，所述氧浓度调节步骤为，调节上述收容部的内部气氛的氧浓度。

通过该方法，可将收容部的内部气氛的氧浓度调节成规定的浓度，因此，可在规定的氧浓度的条件下向基板照射紫外线。

上述的紫外线照射方法中，可包括露点调节步骤，所述露点调节步骤为，调节上述收容部的内部气氛的露点。

通过该方法，可将收容部的内部气氛的露点调节成规定的露点，因此，可在规定的露点的条件下向基板照射紫外线。

发明的效果

通过本发明，可提供下述紫外线照射装置及紫外线照射方法，所述紫外线照射装置及紫外线照射方法可抑制在收容部内产生粒子，可保持基板清洁。

附图说明

[图1]为第一实施方式涉及的紫外线照射装置的立体图。

[图2]为第一实施方式涉及的紫外线照射装置的俯视图。

[图3]为包含图2的III-III剖视图的第一实施方式涉及的紫外线照射装置的侧视图。

[图4]为第二实施方式涉及的紫外线照射装置的立体图。

[图5]为第二实施方式涉及的紫外线照射装置的俯视图。

[图6]为第二实施方式涉及的紫外线照射装置的侧视图。

附图标记说明

1，201…紫外线照射装置

10…基板

10A…第一基板(基板)

10B…第二基板(基板)

2，202…室(收容部)

5，205…搬运机构(移动部)

6…冷却部

7…气体供给部(氧浓度调节部、露点调节部)

20…顶板

23…透射部

40…照射部

50，250…引导部

54…门型框

54c…保持部

202A…第一室(第一收容部)

202B…第二室(第二收容部)

209…带式输送机(辅助引导部)

251A…第一导轨

251B…第二导轨

具体实施方式

以下，参照附图来说明本发明的实施方式。在以下的说明中，设定XYZ直角坐标系，参照该XYZ直角坐标系对各构件的位置关系进行说明。将水平面内的规定方向作为X方向，将在水平面内与X方向垂直的方向作为Y方向，将与X方向及Y方向分别垂直的方向(即竖直方向)作为Z方向。

(第一实施方式)

图1为第一实施方式涉及的紫外线照射装置1的立体图。图2为第一实施方式涉及的紫外线照射装置1的俯视图。图3为包含图2的III-III剖视图的第一实施方式涉及的紫外线照射装置1的侧视图。

＜紫外线照射装置＞

如图1～图3所示，紫外线照射装置1为针对基板10进行紫外线照射的装置。紫外线照射装置1具有室(chamber)2(收容部)、台(stage)3、照射单元4、搬运机构5(移动部)、冷却部6、气体供给部7及控制部8。控制部8总括控制紫外线照射装置1的构成要素。

＜室＞

室2收容进行紫外线的照射处理的基板10。室2形成为箱状，俯视时成为矩形。具体而言，室2由下述要素形成：顶板20，所述顶板20覆盖基板10的上方，为矩形板状；周壁21，所述周壁21以包围方式覆盖基板10的侧面，为矩形框状；和底板22，所述底板22覆盖基板10的下方。在周壁21的-Y方向侧，设置有基板搬入搬出口21a，所述基板搬入搬出口21a用于将基板10搬入室2及从室2搬出。

例如，顶板20、周壁21及底板22由遮挡紫外线的遮光构件形成。由此，可避免在向室2的内部的基板10照射紫外线时，紫外线透出至室2的外部。

室2构成为可在密闭空间内收容基板10。例如，通过利用焊接等将顶板20、周壁21及底板22的各连接部无缝连接，可提高室2内的气密性。例如，可在室2中设置泵机构等减压机构(未图示)。由此，可在使室2内减压的状态下收容基板10。

如图3所示，可在室2内设置加热基板10的加热机构11。加热机构11具有与基板10大致相同的平面视图尺寸的矩形板状，以从下方支持基板10的方式被配置。加热机构11被安装于台3。加热机构11包括加热器等(未图示)。

＜透射部＞

如图2所示，在室2的顶板20上设置有可透射紫外线的透射部23。透射部23构成顶板20的一部分。透射部23形成为在俯视时比顶板20小的矩形板状。透射部23被安装于矩形的开口部20h，所述开口部20h使顶板20沿厚度方向开口。例如，透射部23使用石英、耐热玻璃、树脂片材、树脂膜等。

透射部23的尺寸被设定为大于基板10的尺寸。由此，在向基板10照射紫外线时，可避免紫外线被顶板20的遮光部(透射部23以外的部分)遮挡，因此，可向基板10的上面整体均匀地照射紫外线。

需要说明的是，开口部20h的尺寸可被设定为能放入取出基板10的尺寸。另外，透射部23也可装卸自如地被嵌入到开口部20h中。由此，在将透射部23嵌入开口部20h时，可使得室2内成为密闭空间，在从开口部20h拆卸下透射部23时，可将基板10放入到室2内或从室2内取出。

＜台＞

台3以上表面支持室2及搬运机构5。台3成为在Z方向上具有厚度的板状。

台3被框体下部31从下方支持。

框体下部31是将多根钢材等的棱柱组合成格子状而形成的。

需要说明的是，在框体下部31的下端部，旋转自如地安装有多个车轮31a。由此，可使框体下部31在XY平面内自如地移动。

在台3上设置有框体32。框体32具有柱部33及壁部34。

柱部33是将多根钢材等的棱柱组合成格子状而形成的，将室2、照射单元4及搬运机构5包围。

壁部34被设置于柱部33的间隙(各棱柱之间)，覆盖室2、照射单元4及搬运机构5的周围及上方。

例如，壁部34可由透明的板材形成。由此，可从框体32的外部目视识别框体32内的构成要素。

＜升降机构＞

如图3所示，在室2的下方，设置有升降机构25，所述升降机构25可使基板10沿Z方向移动。在升降机构25上设置有多个升降销(lift pin)25a。多个升降销25a的顶端(+Z侧端)被配置在与XY平面平行的同一面内。

使多个升降销25a的顶端可插通台3、底板22及加热机构11。

具体而言，在台3上形成有多个插通孔3a，所述多个插通孔3a使台3沿厚度方向开口。在底板22上形成有多个插通孔22a，所述多个插通孔22a在平面视图中位于与各插通孔3a重合的位置，使底板22沿厚度方向开口。在加热机构11中形成有多个插通孔11a，所述多个插通孔11a在平面视图中位于与各插通孔22a重合的位置，使加热机构11沿厚度方向开口。多个升降销25a的顶端被设置为，可通过各插通孔3a、22a、11a而与基板10的下表面抵接、远离。因此，通过多个升降销25a的顶端，从而按照与XY平面平行的方式支持基板10。

升降机构25支持被收容在室2内的基板10并使其沿室2内的Z方向移动。图3中，多个升降销25a的顶端通过各插通孔3a、22a、11a与基板10的下表面抵接，并使所述基板10上升，由此，显示使基板10从加热机构11离开的状态。

需要说明的是，升降机构25中，在室2的外部配置驱动源25b，所述驱动源25b使多个升降销25a升降。因此，即使假设伴随着驱动源25b的驱动而产生粒子，通过使室2为密闭空间，也能避免粒子侵入到室2内。

＜照射单元＞

照射单元4被设置在室2的外部。照射单元4具有照射部40及聚光构件41。

照射部40构成为，可向基板10照射i线等紫外线。

此处，“紫外线”是指，波长范围的下限为1nm左右、上限为可见光线的短波长端的光。

例如，照射部40使用金属卤化物灯。

需要说明的是，照射部40不限于此，也可使用高压汞灯、LED灯。另外，对于照射部40而言，也可组合多种上述灯。

例如，可在照射部40的下表面设置滤光器，所述滤光器阻隔波长低于300nm的成分。由此，通过滤光器而射出的紫外线的波长成为300nm以上，因此，可抑制因紫外线的照射而导致基板10温度过度升高。

聚光构件41将从照射部40射出的紫外线聚光至基板10上。通过使紫外线在基板10上聚光，可抑制从照射部40射出的紫外线扩散至基板10的外部，因此，可提高照度。

＜搬运机构＞

如图1及图2所示，搬运机构5被设置在室2的外部。搬运机构5使照射单元4在室2的外部移动，以使得从室2的外部向被收容在室2内部的基板10照射紫外线。搬运机构5具有引导部50、基座53及门型框54。

引导部50具有一对导轨51、和滑块(slider)52。例如，引导部50使用直线电动机驱动器。

一对导轨51以从-Y方向侧及+Y方向侧夹隔室2的方式沿作为照射单元4的移动方向(照射部40的移动方向)的X方向延伸。

滑块52构成为可沿一对导轨51滑动。

基座53被设置在台3的四角，且设置多个(例如本实施方式中在四角各一个共计四个)。各基座53支持一对导轨51的X方向两端部。

门型框54以在Y方向上跨越室2的方式形成为门型，并且，使其可沿一对导轨51移动。门型框54具有沿Z方向延伸的一对门柱部54a、和以连接一对门柱部54a之间的方式沿Y方向延伸的连结部54b。在门型框54的各门柱部54a的下端部，安装滑块52。

如图3所示，在门型框54的连结部54b的内部，设置有保持照射单元4的保持部54c。保持部54c形成从门型框54的Y方向中间部的下表面向上方凹陷的凹部。照射单元4中除照射面4a(下表面)之外的部分被保持部54c的凹部包围，被门型框54的壁部被覆。例如，门型框54由遮挡紫外线的遮光构件形成。由此，可避免在从照射单元4照射紫外线时，紫外线向门型框54的侧面扩散，可朝向下方(室2内的基板10)照射紫外线。

如图2所示，在X方向上，各导轨51的长度L1比室2的长度L2长(L1＞L2)。本实施方式中，在X方向上，使各导轨51的长度L1比室2的长度L2、与门型框54的2倍长度(2×L3)加和的长度(L2+2×L3)更长。由此，俯视图中，可使照射单元4从超出室2的-X方向端的区域移动至超出室2的+X方向端的区域。

＜冷却部＞

如图1及图2所示，在室2的外部设置有可将照射单元4冷却的冷却部6。冷却部6被安装于门型框54的+Y方向侧的侧壁部(门柱部54a)。例如，冷却部6使用吹风机。由此，可将由照射单元4产生的热气向外部排放。

搬运机构5使冷却部6与照射单元4一同在室2的外部移动。

＜气体供给部＞

在室2中设置有气体供给部7，所述气体供给部7可调节室2的内部气氛的状态。气体供给部7供给作为干燥气体的氮(N₂)、氦(He)、氩(Ar)等非活性气体。

此处，气体供给部相当于上文中记载的“氧浓度调节部”及“露点调节部”。

通过气体供给部7，可调节室2的内部气氛的露点，可调节室2内的水分浓度。

例如，气体供给部7调节干燥气体的供给，以将室2的内部气氛的露点调节为-80℃(水分浓度为0.54ppm，以质量为基准)以上且为-5℃(水分浓度为4000ppm，以质量为基准)以下。

例如，在将抗蚀剂膜的曝光后的预图案(prepattern)固化时的气氛中，通过如上所述使露点为优选的上限以下，可使得图案的固化容易进行。另一方面，通过为优选的下限以上，可提高运用装置方面的作业性等。

另外，通过气体供给部7，也可调节室2的内部气氛的氧浓度。室2的内部气氛的氧浓度(以质量为基准)越低越好。具体而言，优选使室2的内部气氛的氧浓度为1000ppm以下，更优选使室2的内部气氛的氧浓度为500ppm以下。

例如，在将抗蚀剂膜的曝光后的预图案固化时的气氛中，通过如上所述使氧浓度为优选的上限以下，可使得图案的固化容易进行。

＜紫外线照射方法＞

接下来，说明本实施方式涉及的紫外线照射方法。本实施方式中，使用上述的紫外线照射装置1向基板10照射紫外线。在紫外线照射装置1的各部进行的动作可通过控制部8进行控制。

本实施方式涉及的紫外线照射方法包括收容步骤、照射步骤及移动步骤。

收容步骤中，室2在密闭空间内收容基板10。例如，经由基板搬入搬出口21a，将基板10搬运到室2内，然后闭塞基板搬入搬出口21a而使室2密闭。

照射步骤中，照射单元4向基板10照射紫外线。

移动步骤中，搬运机构5使照射单元4在室2的外部移动，以使得从室2的外部向被收容在室2内部的基板10照射紫外线。

移动步骤中，使照射单元4在室2的外部移动，以使得经由透射部23向室2内部的基板10照射紫外线。如上所述，由于在门型框54的+Y方向侧的侧壁部安装有冷却部6，因此，在移动步骤中，使冷却部6与照射单元4一同在室2的外部移动。

移动步骤中，使照射单元4在一对导轨51的-X方向端(一端)与+X方向端(另一端)之间往复移动。例如，图3的俯视图中，使照射单元4从超出室2的-X方向端的区域至超出室2的+X方向端的区域往复移动。

需要说明的是，本实施方式涉及的紫外线照射方法包括气体供给步骤。

此处，气体供给步骤相当于上文中记载的“氧浓度调节步骤”及“露点调节步骤”。

气体供给步骤中，气体供给部7调节室2的内部气氛的露点。另外，气体供给步骤中，气体供给部7调节室2的内部气氛的氧浓度。

如上所述，通过本实施方式，可在使基板10在具有密闭空间的室2的内部静止的状态下，在使照射单元4在室2的外部移动的同时，向室2的内部的基板10照射紫外线，因此，不需要考虑伴随基板10的移动而产生粒子。另外，由于在室2的外部进行照射单元4的移动，因此，即使假设伴随着照射单元4的移动而产生粒子，通过使室2为密闭空间，也能避免粒子侵入到室2内。因此，可抑制在室2内产生粒子，可保持基板10清洁。

另外，通过在使基板10静止的状态下移动照射单元4，从而即使使用平面视图尺寸比照射单元4大的基板10，与在使照射单元4静止的状态下移动基板10的情况相比，也可节约向基板10照射紫外线时所需要的空间，可减小占用面积。

另外，通过形成为使基板10在室2内静止的状态，从而室2内只要确保基板10的收容空间即可，因此，与使基板10在室2内移动的情况相比，可减小室2的容积，将会容易进行室2内的氧浓度·露点的管理。另外，可减少在调节室2内的氧浓度时使用的氮的消耗量。

另外，通过在室2中设置可透射紫外线的透射部23，从而可利用使用了透射部23的简单的构成，经由透射部23向基板10照射紫外线。

另外，通过使室2包括覆盖基板10上方的顶板20，并在顶板20上设置透射部23，从而可利用在室2的顶板20上设置有透射部23的简单的构成，经由透射部23向基板10照射紫外线。另外，通过在室2的一部分中设置透射部23，从而与在室2整体中设置透射部的情况相比，可提高透射部23的维护性。

另外，搬运机构5包括：一对导轨51(引导部50)，所述一对导轨51(引导部50)以夹隔室2的方式沿照射单元4的移动方向延伸；和门型框54，所述门型框54以跨越室2的方式形成为门型，并且被设定为可沿一对导轨51移动，而且在门型框54上设置有保持照射单元4的保持部54c，由此，与一般的沿导轨移动照射单元4的情况相比，可利用具有高刚性的门型框54使照射单元4沿一对导轨51移动，因此，可稳定地进行照射单元4的移动。

另外，通过在室2的外部设置可将照射单元4冷却的冷却部6，可将照射单元4冷却，因此，即使在向基板10连续照射紫外线时等连续驱动照射单元4的情况下，也可抑制照射单元4过热。

另外，搬运机构5使冷却部6与照射单元4一同地在室2的外部移动，由此，可一并使照射单元4及冷却部6一体地移动，因此，与分别独立地移动照射单元4及冷却部6的情况相比，可实现装置构成的简单化。

另外，通过在室2中设置可调节室2的内部气氛的氧浓度及露点的气体供给部7，可将室2的内部气氛的氧浓度调节成规定的浓度，因此，可在规定的氧浓度的条件下向基板10照射紫外线。另外，可将室2的内部气氛的露点调节成规定的露点，因此，可在规定的露点的条件下向基板10照射紫外线。

另外，移动步骤中，通过使照射单元4在一对导轨51的-X方向端(一端)与+X方向端(另一端)之间往复移动，从而与使照射单元4在一对导轨51的一端与另一端之间仅沿一个方向移动的情况相比，即使在向基板10反复照射紫外线时，也可顺利且高效地照射。另外，由于设置一个照射单元4即足矣，因此，可实现装置构成的简单化。

(第二实施方式)

接下来，使用图4～图6对本发明的第二实施方式进行说明。

图4为第二实施方式涉及的紫外线照射装置201的立体图。图5为第二实施方式涉及的紫外线照射装置201的俯视图。图6为第二实施方式涉及的紫外线照射装置201的侧视图。

第二实施方式中，相对于第一实施方式，在以下方面尤其不同：室202具有第一室202A(第一收容部)及第二室202B(第二收容部)的方面；引导部250具有第一导轨251A及第二导轨251B的方面。图4～图6中，对与第一实施方式同样的构成标注同一符号，并省略其详细说明。

＜紫外线照射装置＞

如图4～图6所示，紫外线照射装置201具有室202、台203、照射单元4、搬运机构205、冷却部6、气体供给部7及控制部8。控制部8总括控制紫外线照射装置201的构成要素。

室202具有第一室202A及第二室202B。

第一室202A及第二室202B沿照射单元4的移动方向即X方向并列。

第一室202A收容第一基板10A，第二室202B收容第二基板10B。需要说明的是，第一基板10A及第二基板10B可使用彼此相同的基板，也可使用彼此不同的基板。

台203以上表面支持第一室202A、第二室202B及搬运机构205。台203成为俯视可见沿X方向延伸的长方形状的板状。

台203被框体下部231从下方支持。

框体下部231是将多根钢材等的棱柱组合成格子状而形成的。

在台203上设置有框体232。框体232具有柱部233及壁部234。

柱部233是将多根钢材等的棱柱组合成格子状而形成的，将第一室202A、第二室202B、照射单元4及搬运机构205包围。

壁部234被设置于柱部233的间隙(各棱柱之间)，覆盖第一室202A、第二室202B、照射单元4及搬运机构205的周围及上方。

例如，壁部234可由透明的板材形成。由此，可从框体232的外部目视识别框体232内的构成要素。

搬运机构205被设置在第一室202A及第二室202B的外部。搬运机构205使照射单元4在各室202A、202B的外部移动，以使得从各室202A、202B的外部向被收容在各室202A、202B内部的各基板10A、10B照射紫外线。搬运机构205具有引导部250、基座53及门型框54。

引导部250具有一对第一导轨251A及一对第二导轨251B、和滑块52。

一对第一导轨251A以从-Y方向侧及+Y方向侧夹隔第一室202A的方式沿X方向延伸。

一对第二导轨251B以从-Y方向侧及+Y方向侧夹隔第二室202B的方式沿X方向延伸。

滑块52构成为可沿各对导轨251A、导轨251B滑动。

基座53被设置在台203上，且设置多个(例如本实施方式中为八个)。各基座53支持各对导轨251A、251B的X方向两端部。

门型框54被设置为可沿各对导轨251A、251B移动。门型框54的各门柱部54a的下端部被载置于滑块52上表面。

如图5所示，在X方向上，各导轨251A、251B的长度L11、L12比各室202A、202B的长度L21、L22长(L11＞L21，L12＞L22)。本实施方式中，在X方向上，使各导轨251A、251B的长度L11、L12比各室202A、202B的长度L21、L22、与门型框54的2倍长度(2×L3)加和的长度(L21+2×L3，L22+2×L3)更长。由此，俯视图中，可使照射单元4从超出各室202A、202B的-X方向端的区域移动至超出各室202A、202B的+X方向端的区域。

＜带式输送机(belt conveyor)＞

本实施方式中，在照射单元4的移动方向即X方向上的第一导轨251A与第二导轨251B之间，可装卸地设置有辅助门型框54移动的带式输送机209(引导辅助部)。带式输送机209以将第一导轨251A与第二导轨251B之间桥接的方式沿X方向延伸。带式输送机209被设置为可切换旋转方向。由此，辅助门型框54从第一导轨251A向第二导轨251B的移动、和从第二导轨251B向第一导轨251A的移动。

＜紫外线照射方法＞

接下来，说明本实施方式涉及的紫外线照射方法。本实施方式中，使用上述的紫外线照射装置201，向各基板10A、10B照射紫外线。在紫外线照射装置201的各部进行的动作可通过控制部8进行控制。需要说明的是，本实施方式涉及的紫外线照射方法中，对于与第一实施方式同样的方法，省略其详细说明。

移动步骤中，使照射单元4在一对第一导轨251A的-X方向端与一对第二导轨251B的+X方向端之间往复移动。例如，图5的俯视图中，使照射单元4从超出第一室202A的-X方向端的区域至超出第二室202B的+X方向端的区域往复移动。如上所述，在照射单元4的移动方向即X方向上的第一导轨251A与第二导轨251B之间设置有带式输送机209，因此，可顺利地进行照射单元4的往复移动。

如上所述，通过本实施方式，室202包括第一室202A及第二室202B，所述第一室202A及第二室202B可在密闭空间内收容各基板10A、10B，并且沿照射单元4的移动方向(X方向)并列，引导部250包括第一导轨251A和第二导轨251B，所述第一导轨251A以夹隔第一室202A的方式延伸，所述第二导轨251B沿照射单元4的移动方向(X方向)与第一导轨251A并列，并且以夹隔第二室202B的方式延伸，由此，可使照射单元4沿第一导轨251A及第二导轨251B移动，因此，可连续地进行对第一室202A内的基板10A的紫外线照射、和对第二室202B内的基板10B的紫外线照射。

另外，由于包括第一室202A及第二室202B，所以可同时处理两片基板10A、10B。

另外，由于可在使各基板10A、10B在具有密闭空间的各室202A、202B内静止的状态下，一边在各室202A、202B外移动照射单元4一边向各室202A、202B内的各基板10A、10B照射紫外线，因此，可抑制在各室202A、202B内产生粒子，可保持各基板10A、10B清洁。

另外，在具有第一室202A及第二室202B的构成中，不仅可实现占用面积缩小，各室202A、202B内的氧浓度·露点的管理变得容易，而且可削减在调节各室202A、202B内的氧浓度时使用的氮的消耗量。

另外，通过在照射单元4的移动方向(X方向)上的第一导轨251A与第二导轨251B之间，可装卸地设置辅助门型框54移动的带式输送机209，从而可通过装卸带式输送机209，来切换仅沿第一导轨251A或第二导轨251B中的一方移动门型框54的模式、和连续地沿第一导轨251A及第二导轨251B移动门型框54的模式。例如，通过拆卸带式输送机209，可切换成仅沿第一导轨251A或第二导轨251B中的一方移动门型框54的模式。另一方面，通过连接带式输送机209，可切换成连续地沿第一导轨251A及第二导轨251B移动门型框54的模式。

需要说明的是，上述示例中示出的各构成构件的各种形状、组合等是例子，可基于设计要求等进行各种变更。

例如，上述实施方式中，设置了一个室或两个室，但不限于此，也可设置三个以上的多个室。

另外，上述第二实施方式中，使用了带式输送机作为辅助引导部，但不限于此，也可使用直线电动机驱动器。例如，也可在X方向上增设带式输送机及直线电动机驱动器。由此，可调节门型框54在X方向上的移动距离。

另外，上述第二实施方式中，设置了第一导轨及第二导轨，但也可仅设置一条导轨。这种情况下，在X方向上，使导轨的长度比各室202A、202B的长度L21、L22加和的长度更长。

需要说明的是，对于在上文中作为实施方式或其变形例而记载的各构成要素，可在不超出本发明的主旨的范围内适当组合，另外，也可适当地不使用所组合的多种构成要素中的一部分构成要素。