技术总结
一种配置中的除污及剥除处理腔室。配置中的除污及剥除处理腔室。本发明的实施例提供了包括两个或更多隔离腔室容积的一种负载锁定腔室，其中一腔室容积被配置来用于处理基板，且另一腔室容积被配置来提供冷却给基板。本发明的一实施例提供了一种负载锁定腔室，该负载锁定腔室具有形成在腔室主体组件中的至少两个隔离腔室容积。该至少两个隔离腔室容积可垂直堆迭。第一腔室容积可用于使用反应物种来处理设置于第一腔室容积中的基板。第二腔室容积可包括冷却基板支撑。
技术研发人员：M·J·萨里纳斯;P·B·路透;A·恩盖耶;J·A·里
受保护的技术使用者：应用材料公司
文档号码：201710107319
技术研发日：2013.01.18
技术公布日：2017.06.13