技术特征：
技术总结
本发明公开了一种传感器微透镜的制造方法，包括：在硅衬底上定义出微透镜形成区域，通过对微透镜形成区域进行离子注入，在微透镜形成区域形成由其中心向边缘以等径方式逐渐扩展的不同掺杂浓度梯度，对微透镜形成区域进行刻蚀，利用高掺杂浓度区域硅衬底的刻蚀速率大于低掺杂浓度区域硅衬底刻蚀速率的特性，在硅衬底上形成具有一定曲率的微透镜结构；本发明利用硅衬底上不同掺杂浓度区域存在不同刻蚀速率的特性，通过离子注入工艺的辅助刻蚀形成微透镜结构，可实现工艺的简化和效率的提高，从而降低了成本。
技术研发人员：康晓旭
受保护的技术使用者：上海集成电路研发中心有限公司
技术研发日：2017.06.27
技术公布日：2017.10.20