技术特征：
技术总结
本发明提供一种包括能够旋转的静电夹盘的等离子基板处理装置及利用其的基板处理方法。本发明的包括能够旋转的静电夹盘的等离子基板处理装置包括：腔室，其供用于进行等离子处理的基板搬入；旋转轴，其贯通所述腔室的一侧而设置；静电夹盘，其以能够与所述旋转轴的旋转联动而旋转的方式结合于所述旋转轴的一端而位于所述腔室的内部空间，且被施加偏置电源以使所述基板能够贴附；气体供应部，其以位于所述静电夹盘的下部的方式设置而向腔室内部供应工程气体；以及天线线圈，其以位于所述静电夹盘的下部的方式设置而向所述工程气体供应高频电源来产生等离子。
技术研发人员：郑相坤;金亨源;权赫俊
受保护的技术使用者：吉佳蓝科技股份有限公司
技术研发日：2018.09.14
技术公布日：2019.03.22