1.一种激光退火装置，其特征在于，具有：
载物台，其具有容纳基板的容纳面；以及
激光照射装置，其向所述容纳面射出多个激光束，并在所述容纳面形成照射区域，
所述激光照射装置具有：
激光装置，其射出激光束；以及
聚光单元，其具有微透镜阵列和掩膜，接受从所述激光装置中射出的所述激光束，并在所述照射区域内形成所述多个激光束各自的聚光点，所述微透镜阵列具有排列成m行n列的多个微透镜，所述掩膜具有多个开口部，其中每个开口部是针对所述多个微透镜中每一个配置的，
所述多个激光束是由排列成所述m行n列的所述多个微透镜中的p行q列的微透镜来形成的p行q列的激光束，其中，p＜m或q＜n，
所述激光照射装置还具有摆动机构，所述摆动机构改变所述聚光单元和所述照射区域之间的配置关系，使得从排列成所述m行n列的所述多个微透镜中能够选择至少2个不同的p行q列的微透镜组。
2.根据权利要求1所述的激光退火装置，其特征在于，所述激光束大到能够照射比排列成所述m行n列的所述多个微透镜中的p行q列的微透镜更多的微透镜，
所述激光照射装置还具有遮光板，所述遮光板具有划定所述照射区域的透光部，
所述透光部具有与排列成所述m行n列的所述多个微透镜中的p行q列的微透镜对应的面积，其中p＜m或q＜n。
3.根据权利要求2所述的激光退火装置，其特征在于，所述遮光板配置在所述激光装置与所述聚光单元之间。
4.根据权利要求2所述的激光退火装置，其特征在于，所述遮光板配置在所述聚光单元与所述基板之间。
5.根据权利要求1-4中的任一项所述的激光退火装置，其特征在于，所述摆动机构使所述聚光单元相对于所述照射区域的位置在与所述激光照射装置的扫描方向正交的摆动方向上移动。
6.根据权利要求1-4中的任一项所述的激光退火装置，其特征在于，所述摆动机构使所述聚光单元相对于所述照射区域的位置在所述激光照射装置的扫描方向上移动。
7.一种激光退火方法，其是通过使多个激光束依次聚集在非晶硅膜的多个区域内，从而形成排列成m行n列的多个晶硅岛的方法，其特征在于，包括：
工序a：准备载物台和激光照射装置，所述载物台具有容纳基板的容纳面，所述激光照射装置向所述容纳面射出多个激光束，并在所述容纳面上形成照射区域，具有激光装置和聚光单元，所述激光装置射出激光束，所述聚光单元具有微透镜阵列和掩膜，所述微透镜阵列具有排列成m行n列的多个微透镜，所述掩膜具有多个开口部，其中每个开口部是针对多个微透镜中的每一个而配置的；
工序b1：在所述容纳面上配置表面具有非晶硅膜的基板；以及
工序c1：使用所述激光照射装置，通过排列成所述m行n列的所述多个微透镜中的p行q列或t行q列的微透镜形成p行q列或t行q列的激光束作为所述多个激光束，同时在所述非晶硅膜的所述多个区域内形成所述多个激光束各自的聚光点，其中，p≤m且q≤n，t＜p；以及
工序c2：在所述工序c1之后，使所述基板相对于所述照射区域沿列方向相对地移动一个间距，
所述方法包括工序d：包括在所述工序c1之后进行所述工序c2，然后再进行所述工序c1的时序，在成为排列成所述m行n列的所述多个晶硅岛的多个区域中的每一个中形成p次与每个区域对应的聚光点，
在m行q列的所有区域内形成所述多个激光束的聚光点之前，进行至少1次工序c3，所述工序c3：在所述工序c1之后，使用于对属于所述多个区域中的某一列的m个区域中的一个区域形成p次聚光点的p个微透镜组与用于对所述m个区域中的另一个区域形成p次聚光点的p个微透镜组至少有1个微透镜不同。
8.根据权利要求7所述的激光退火方法，其特征在于，在所述工序c1中，通过排列成所述m行n列的所述多个微透镜中的p行q列的微透镜来形成p行q列的激光束作为所述多个激光束，同时在所述非晶硅膜的所述多个区域内形成所述p行q列的激光束各自的聚光点，其中，p≤m且q＜n，
所述工序c3包括在所述工序c1之后使所述聚光单元相对于所述照射区域沿行方向相对地移动至少一个间距的工序。
9.根据权利要求7所述的激光退火方法，其特征在于，在所述工序c1中，通过排列成所述m行n列的所述多个微透镜中的p行q列的微透镜来形成p行q列的激光束作为所述多个激光束，同时在所述非晶硅膜的所述多个区域内形成所述p行q列的激光束各自的聚光点，其中，p＜m且q≤n，
所述工序c3包括在所述工序c1之后使所述聚光单元相对于所述照射区域沿列方向相对地移动至少一个间距的工序。
10.根据权利要求7所述的激光退火方法，其特征在于，在所述工序c1之前还包括工序b2，
所述工序b2：选择排列成所述m行n列的所述多个微透镜中的t行q列的微透镜作为选择透镜组，并且以与所述照射区域对应的方式配置所述选择透镜组，
在所述工序c1中，通过所述选择透镜组形成所述多个激光束，同时在所述非晶硅膜的所述多个区域内形成所述多个激光束各自的聚光点，
在所述工序c3中，在所述工序c1之后，保持所述基板与所述照射区域之间的相对位置关系，
所述工序d包括在进行所述工序c2或所述工序c3后再进行所述工序c1的时序。
11.根据权利要求10所述的激光退火方法，其特征在于，
还包括工序c4，
所述工序c4：在所述工序c1之后，将所述选择透镜组切换为排列成所述m行n列的所述多个微透镜中的p行q列的微透镜，与之相伴地，以与所述切换后的选择透镜组对应的方式改变所述照射区域的面积，并且以与所述改变后的照射区域对应的方式配置所述切换后的选择透镜组，其中，t<p≤m且q≤n，
在m行q列的所有区域内形成所述多个激光束的聚光点之前，进行至少1次以上所述工序c4。
12.根据权利要求7-11中的任一项所述的激光退火方法，其特征在于，在进行5×p次所述工序c1的期间内进行至少1次所述工序c3。
13.根据权利要求7-11中的任一项所述的激光退火方法，其特征在于，在进行p次所述工序c1的期间内进行至少1次所述工序c3。
14.根据权利要求7-13中的任一项所述的激光退火方法，其特征在于，所述至少1次随机选择。
15.一种有源矩阵基板的制造方法，其特征在于，包括：
通过权利要求7-14中的任一项所述的激光退火方法，形成多个晶硅岛的工序，以及
使用所述多个晶硅岛，形成多个tft的工序。