一种P5+、Al3+、Be2+、Zn2+离子协同掺杂的K6Si2O7钾快离子导体及其制备方法与流程

文档序号:18891411发布日期:2019-10-15 21:55阅读:来源:国知局

技术特征:

技术总结
一种P5+、Al3+、Be2+、Zn2+离子协同掺杂的K6Si2O7钾快离子导体及其制备方法,其特征为:化学计量式为K6+2x+y‑z‑2mBexAlyPz ZnmSi2‑x‑y‑zO7,其中:x=0.1‑0.2;y=0.1‑0.2;z=0.02‑0.05;m=0.02‑0.05;常温钾离子电导率超过5·10‑4S/cm。采用Al3+、Be2+部分取代Si4+离子,在晶体中产生间隙钾离子而降低钾离子迁移活化能;通过P5+掺杂进一步降低快离子导体的电子导电性:通过小离子半径的Be2+掺杂调节钾离子的迁移通道的大小以适应钾离子的快速迁移;通过Zn2+部分取代钾离子造成阳离子空位增加钾离子迁移通道;并在制备过程中在K6Si2O7颗粒的表面进行修饰,形成易烧结特性。这些协同作用使得该钾快离子导体的常温钾离子电导率超过5·10‑4S/cm,更加接近液态电解质的钾离子电导率。

技术研发人员:水淼;舒杰;任元龙
受保护的技术使用者:宁波大学
技术研发日:2019.06.27
技术公布日:2019.10.15
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