技术总结
本申请公开了一种透射结构，包括多个第一透射单元；以及多个第二透射单元，第二透射单元的电磁波的透射相位和第一透射单元的电磁波的透射相位相同或者相近，第二透射单元的电磁波的反射相位和第一透射单元的电磁波的反射相位不同；多个第一透射单元和多个第二透射单元在一面内无序排布。上述透射结构，可以使电磁波入射时反射的电磁波相互干涉，进而使得反射的电磁波能量杂乱分布在反射侧空间的各个方向，而透射的电磁波的能量集中且波前不发生改变，从而实现仅在透射侧空间成像的单侧成像效果。
技术研发人员：赖耘;褚宏晨
受保护的技术使用者：南京星隐科技发展有限公司
技术研发日：2019.10.21
技术公布日：2020.02.28