双通路高浪涌大通流TSS器件的制作方法

文档序号:20303021发布日期:2020-04-07 21:22阅读:来源:国知局

技术特征:

1.双通路高浪涌大通流tss器件,其特征在于,包括:

tss芯片1,放置在第一框架的焊接区域上,第一框架和tss芯片1通过焊料粘结;tss芯片1朝下与第二框架的正面焊接区域粘结凝固;

tss芯片2,放置在第三框架的焊接区域上,第三框架和tss芯片2通过焊料粘结,tss芯片2未粘结的另一面焊接区第二框架的另一面对齐叠片通过焊料进行粘结。

2.根据权利要求1所述的双通路高浪涌大通流tss器件,其特征在于,第一框架、第二框架和第三框架均为铜框架。

3.根据权利要求1所述的双通路高浪涌大通流tss器件,其特征在于,tss芯片1和tss芯片2版面均为5.0mm。

4.根据权利要求1所述的双通路高浪涌大通流tss器件,其特征在于,第一框架和第三框架的至少一端贴合固定设置。

5.根据权利要求1所述的双通路高浪涌大通流tss器件,其特征在于,第一框架的焊接区突出于第一框架表面,第三框架的焊接区突出于第三框架表面。


技术总结
本实用新型提出了一种双通路高浪涌大通流TSS器件,包括:TSS芯片1,放置在第一框架的焊接区域上,第一框架和TSS芯片1通过焊料粘结;TSS芯片1朝下与第二框架的正面焊接区域粘结凝固;TSS芯片2,放置在第三框架的焊接区域上,第三框架和TSS芯片2通过焊料粘结,TSS芯片2未粘结的另一面焊接区第二框架的另一面对齐叠片通过焊料进行粘结;本实用新型能够大大缩小TSS器件占板面积,同时具有抗高浪涌和大通流的防护特点。

技术研发人员:张英鹏;苏海伟;魏峰;单少杰;王帅;蒋立柱
受保护的技术使用者:上海长园维安微电子有限公司
技术研发日:2019.10.12
技术公布日:2020.04.07
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