1.一种带电粒子束装置，其特征在于，
包含：
拍摄器，其对包含试样的对象物进行拍摄；
多个发光器，其朝向上述对象物照射多个光束；以及
光分布调整构件，其具备配置在上述对象物与上述多个发光器之间的多个光限制要素，
各上述光束包含中央部分和在上述中央部分的外侧延展的周边部分，
各上述光限制要素限制各上述光束的上述中央部分的强度。
2.根据权利要求1所述的带电粒子束装置，其特征在于，
上述多个光限制要素配置在与上述多个发光器不接触且靠近上述多个发光器的位置。
3.根据权利要求1所述的带电粒子束装置，其特征在于，
上述光分布调整构件包含将上述多个光限制要素一体化的框架。
4.根据权利要求3所述的带电粒子束装置，其特征在于，
上述框架包含外侧圈和设置在上述外侧圈的内侧的内侧圈，
上述光分布调整构件还包含将上述外侧圈与上述内侧圈之间连接的多个桥，
各上述桥作为各上述光限制要素的整体或一部分发挥功能。
5.根据权利要求3所述的带电粒子束装置，其特征在于，
包含搭载有上述多个发光器的基板，
在上述框架设置有多个臂，
上述多个臂被固定到上述基板。
6.根据权利要求1所述的带电粒子束装置，其特征在于，
在与上述拍摄器的观察中心轴正交的假想照射面上，由上述多个光限制要素产生多个阴影，上述多个光束的多个周边部分覆盖上述多个阴影。
7.根据权利要求1所述的带电粒子束装置，其特征在于，
拍摄位置被设定为与容纳上述对象物的试样室相邻，
在上述拍摄位置的上方设置有上述拍摄器、上述多个发光器以及上述光分布调整构件。