1.一种对准系统的监控和数据的筛选方法，其特征在于，包括如下步骤：
对单片晶圆进行标记，并对已标记的位置进行量测，得到第一量测数据；
依据得到的所述第一量测数据进行平均值和标准差值的计算；
利用所述第一量测数据利用得到的平均值和标准差值进行范围界定，并将超出平均值+多倍标准差值的数据进行筛除，利用剩余的数据进行网格拟合；
依照上述单片晶圆的量测步骤及量测结果，量测每个lot层面中的每片晶圆上的标记，得到第二量测数据；
根据获得的每个lot层面中的每片晶圆上的所述第二量测数据，对每一片晶圆的对准量测结果进行对应的操作分析处理，以对后面的相同或者相似产品对准标记量取的位置做出调整，并对套刻误差量测片数序号做出预判调整，使其量测时避开对准结果差的晶圆。
2.如权利要求1所述的对准系统的监控和数据的筛选方法，其特征在于，利用第一量测数据得到的平均值和标准差值进行范围界定，并将超出平均值+多倍标准差值的数据进行筛除，利用剩余的数据进行网格拟合的步骤中：
筛除超出平均值+多倍标准差值的数据包括：对单片晶圆x方向和y方向上的所述第一量测数据过滤处理。
3.如权利要求1所述的对准系统的监控和数据的筛选方法，其特征在于，对每一片晶圆的对准量测结果进行操作分析处理可以选择以下两种分析处理方式中的任意一种，第一种为：对所述lot层面中的每片晶圆上的所述第二量测数据进行识别判断；第二种为：将所述lot层面中的每片晶圆的对准量测结果进行对比。
4.如权利要求3所述的对准系统的监控和数据的筛选方法，其特征在于，对lot层面中的每片晶圆上的数据进行识别判断，包括：
对所述lot层面中的每片晶圆的处于相同标记位置的所有曝光单元取平均结果，并设置为该处曝光单元对应的结果，其中此步骤记录为第一计算步骤；
对每片晶圆上的所有的曝光单元均使用所述第一计算步骤进行计算，得到测量结果，之后再利用相对偏离程度的方法进行衡量。
5.如权利要求4所述的对准系统的监控和数据的筛选方法，其特征在于，所述相对偏离程度的方法进行衡量具体为：
选取一片晶圆标准片，预设晶圆标准片的偏离程度范围值，之后将所述晶圆标准片的测量位置和实际晶圆的对准位置相对应，将所述实际晶圆的测量结果与所述晶圆标准片进行对比，若得到的对比结果超过所述偏离程度范围值，视为不合格，则所述实际晶圆的曝光区域位置在对准和套刻误差量测位置选择时均需要考虑避开。
6.如权利要求3所述的对准系统的监控和数据的筛选方法，其特征在于，将lot层面中的每片晶圆的对准量测结果进行对比包括：
将所述lot层面中的每片晶圆的对准量测结果进行对比，利用大数据的方式对量测晶圆进行统计，得到符合工艺要求对应的规格范围；
若量测结果超过所述规格范围的晶圆，则直接进行返工；
若晶圆的量测结果是在所述限定的规格范围内，除前三片晶圆外，对其它量测结果超过整体晶圆结果平均值+2倍标准差范围的晶圆，则在进行套刻误差量测时，避开选择量测相应的晶圆，其中，所述“整体晶圆结果平均值+2倍标准差的计算”是以一片晶圆上的第一量测数据的平均值结果作为一个整体单位，整体晶圆代表的是整批所述lot层面的25片晶圆。