显示面板的制作方法及显示面板与流程

文档序号:27140951发布日期:2021-10-30 00:35阅读:来源:国知局

技术特征:
1.一种显示面板的制作方法,其特征在于,包括如下步骤:提供一阵列基板,所述阵列基板包括像素电极层,所述像素电极层包括沿所述阵列基板的侧面分布的多个像素电极,所述像素电极包括阴极和阳极;将含有多个发光二极管的光刻胶涂布在所述像素电极层上,使至少部分所述发光二极管沉积在所述像素电极上,所述发光二极管包括正极和负极;将所述像素电极上的发光二极管进行固定,并使所述像素电极的阳极与其上的发光二极管的正极电连接,所述像素电极的阴极与其上的发光二极管的负极电连接;去除所述光刻胶。2.根据权利要求1所述的显示面板的制作方法,其特征在于,所述将所述像素电极上的发光二极管进行固定,并使所述像素电极的阳极与其上的发光二极管的正极电连接,所述像素电极的阴极与其上的发光二极管的负极电连接的步骤中,包括:对所述光刻胶对应所述像素电极的位置进行曝光显影以形成暴露区域,所述暴露区域暴露至少部分所述像素电极及所述像素电极上的发光二极管的至少一部分;对所述暴露区域作镀膜处理,以在所述像素电极和所述发光二极管上形成镀膜层,将所述像素电极上的发光二极管进行固定,以使所述像素电极的阳极与其上的发光二极管的正极电连接,所述像素电极的阴极与其上的发光二极管的负极电连接。3.根据权利要求2所述的显示面板的制作方法,其特征在于,所述对所述光刻胶对应所述像素电极的位置进行曝光显影以形成暴露区域,所述暴露区域暴露至少部分所述像素电极及所述像素电极上的发光二极管的至少一部分的步骤包括:对所述光刻胶对应所述像素电极的阳极和阴极的位置进行曝光显影以形成暴露区域,所述暴露区域暴露所述像素电极的阳极与其上的发光二极管的正极,以及所述像素电极的阴极与其上的发光二极管的负极。4.根据权利要求3所述的显示面板的制作方法,其特征在于,所述发光二极管的表面涂布有绝缘层;所述镀膜层的材料为导电材料。5.根据权利要求1所述的显示面板的制作方法,其特征在于,所述将含有多个发光二极管的光刻胶涂布在所述像素电极层上,使至少部分所述发光二极管沉积在所述像素电极上,所述发光二极管包括正极和负极的步骤中,包括:将含有多个发光二极管的光刻胶涂布在所述像素电极层上;对位于所述光刻胶内的发光二极管作配向处理,使至少部分发光二极管沉积在所述像素电极上,且所述像素电极的阳极与其上的发光二极管的正极位置对应,所述像素电极的阴极与其上的发光二极管的负极位置对应。6.根据权利要求5所述的显示面板的制作方法,其特征在于,所述对位于所述光刻胶内的发光二极管作配向处理,使至少部分发光二极管沉积在所述像素电极上,且所述像素电极的阳极与其上的发光二极管的正极位置对应,所述像素电极的阴极与其上的发光二极管的负极位置对应的步骤中,包括:对所述光刻胶施加配向电场,通过所述配向电场对所述发光二极管施加电场力以调整所述发光二极管的正极与负极的朝向,使至少部分发光二极管沉积在所述像素电极上,且所述像素电极的阳极与其上的发光二极管的正极位置对应,所述像素电极的阴极与其上的发光二极管的负极位置对应。
7.根据权利要求5所述的显示面板的制作方法,其特征在于,所述对位于所述光刻胶内的发光二极管作配向处理,使至少部分发光二极管沉积在所述像素电极上,且所述像素电极的阳极与其上的发光二极管的正极位置对应,所述像素电极的阴极与其上的发光二极管的负极位置对应的步骤中,包括:对所述光刻胶施加配向磁场,通过所述配向磁场对所述发光二极管施加磁场力以调整所述发光二极管的正极与负极的朝向,使至少部分发光二极管沉积在所述像素电极上,且所述像素电极的阳极与其上的发光二极管的正极位置对应,所述像素电极的阴极与其上的发光二极管的负极位置对应。8.根据权利要求5所述的显示面板的制作方法,其特征在于,所述对位于所述光刻胶内的发光二极管作配向处理,使至少部分发光二极管沉积在所述像素电极上,且所述像素电极的阳极与其上的发光二极管的正极位置对应,所述像素电极的阴极与其上的发光二极管的负极位置对应的步骤中,包括:对所述光刻胶照射偏振光,所述偏振光形成电场,通过所述电场对所述发光二极管施加电场力以调整所述发光二极管的正极与负极的朝向,使至少部分发光二极管沉积在所述像素电极上,且所述像素电极的阳极与其上的发光二极管的正极位置对应,所述像素电极的阴极与其上的发光二极管的负极位置对应。9.根据权利要求1至8中任意一项所述的显示面板的制作方法,其特征在于,所述显示面板包括薄膜晶体管层和隔堤层,所述隔堤层设置在所述薄膜晶体管层和所述像素电极层上,所述隔堤层对应所述像素电极的位置设有开口;所述将所述光刻胶涂布在所述像素电极层上,使至少部分发光二极管沉积在像素电极上,包括:将所述光刻胶涂布在所述像素电极层和所述隔堤层上,使与所述开口处的发光二极管沉积在所述开口对应的像素电极上。10.根据权利要求9所述的显示面板的制作方法,其特征在于,在所述去除所述光刻胶的步骤之后,包括:在所述像素电极层和所述隔堤层上制作平坦化层;在所述平坦化层上制作色彩转换层;在所述色彩转换层上制作封装层。11.一种显示面板,其特征在于,所述显示面板通过权利要求1至10中任意一项所述的方法制成。

技术总结
本申请提供一种显示面板的制作方法及显示面板。显示面板的制作方法包括如下步骤,首先提供一阵列基板,阵列基板包括沿阵列基板的侧面分布的多个像素电极,像素电极包括阴极和阳极;然后将含有多个发光二极管的光刻胶涂布在像素电极层上,使至少部分发光二极管沉积在像素电极上,发光二极管包括正极和负极;接着将像素电极上的发光二极管进行固定,并使像素电极的阳极与其上的发光二极管的正极电连接,像素电极的阴极与其上的发光二极管的负极电连接;最后将光刻胶去除。通过将多个小尺寸的发光二极管散布在光刻胶中,然后将光刻胶涂布在阵列基板上,以实现将多个发光二极管转移至阵列基板。由此简化了显示面板的制作工艺,降低了其制作成本。低了其制作成本。低了其制作成本。


技术研发人员:卢马才
受保护的技术使用者:深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
技术研发日:2021.07.05
技术公布日:2021/10/29
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