技术特征：
1.一种用于超快恢复二极管的烧制装置，包括烧制箱(1)，其特征在于：所述烧制箱(1)的内部设置有烧制组件(2)，所述烧制箱(1)的一侧活动安装有箱门(3)，所述箱门(3)的一侧表面设置有观察窗口(4)，所述箱门(3)的一侧表面且位于观察窗口(4)的一侧固定安装有箱门把手(5)，所述烧制箱(1)的内部且位于烧制组件(2)的下方活动安装有阻热板(6)，所述烧制箱(1)的下表面四角都固定安装有支撑底座(9)。2.根据权利要求1所述的一种用于超快恢复二极管的烧制装置，其特征在于：所述阻热板(6)的两侧表面都固定安装有第二限位块(8)，所述烧制箱(1)两侧内壁都设置有第二限位槽(7)，每个所述第二限位块(8)都滑动设置在第二限位槽(7)内。3.根据权利要求1所述的一种用于超快恢复二极管的烧制装置，其特征在于：所述烧制组件(2)包括有放置板(201)、放置槽(202)、安装槽(203)和原料放置槽(204)，所述放置板(201)活动安装在烧制箱(1)的内部且位于阻热板(6)的上方，所述放置板(201)上均匀分布设置有若干个放置槽(202)。4.根据权利要求3所述的一种用于超快恢复二极管的烧制装置，其特征在于：所述放置板(201)上且位于相邻两个放置槽(202)之间都设置有安装槽(203)，每个所述安装槽(203)内都活动安装有原料放置槽(204)，所述放置板(201)的一端表面固定安装有把手(205)。5.根据权利要求3所述的一种用于超快恢复二极管的烧制装置，其特征在于：所述放置板(201)的两侧端面都固定安装有第一限位块(206)，所述烧制箱(1)的两侧内壁且位于第二限位槽(7)的上方都设置有第一限位槽(207)，每个所述第一限位块(206)都滑动设置在第一限位槽(207)内。6.根据权利要求1所述的一种用于超快恢复二极管的烧制装置，其特征在于：所述烧制箱(1)的两侧内壁都固定安装有若干个安装块(208)，每两个所述安装块(208)之间都设置有加热丝(209)。7.根据权利要求6所述的一种用于超快恢复二极管的烧制装置，其特征在于：所述烧制箱(1)的两侧内壁且位于安装块(208)的上下两侧都安装有第一辅热板(210)，所述烧制箱(1)远离箱门(3)的一端内壁安装有第二辅热板(211)。
技术总结
本实用新型涉及二极管技术领域，具体的说是一种用于超快恢复二极管的烧制装置，包括烧制箱，所述烧制箱的内部设置有烧制组件，所述烧制箱的一侧活动安装有箱门，所述箱门的一侧表面设置有观察窗口，所述箱门的一侧表面且位于观察窗口的一侧固定安装有箱门把手，所述烧制箱的内部且位于烧制组件的下方活动安装有阻热板，所述烧制箱的下表面四角都固定安装有支撑底座。本实用新型所述的一种用于超快恢复二极管的烧制装置，通过设置放置槽和原料放置槽方便对工件和原料进行放置，通过设置多个放置槽和安装槽可同时对多组工件进行加工，可使工作效率得到有效提升，通过设置加热丝可对烧制箱内部进行加热烧制，对温度控制也更加灵敏。敏。敏。
技术研发人员：初亚东
受保护的技术使用者：天津天物金佰微电子有限公司
技术研发日：2021.08.08
技术公布日：2022/3/29