用于从衬底去除静电的设备和方法

文档序号:8262213阅读:291来源:国知局
用于从衬底去除静电的设备和方法
【专利说明】用于从衬底去除静电的设备和方法
[0001]本申请要求于2013年10月10日向韩国知识产权局提交的第10-2013-0120653号韩国专利申请的优先权,其全部公开通过引用并入本文。
技术领域
[0002]本发明涉及用于从衬底去除静电的设备和方法。
【背景技术】
[0003]用于显示器(例如有机发光显示器、液晶显示器和等离子体显示器)的衬底在成为成品之前需要经过多个制造处理。例如,用于显示器的衬底经过处于大气状态的处理室、处于真空状态的处理室和处于真空状态的负载锁止室。在处于大气状态的处理室中存在许多气体分子,这些气体分子受外力作用而流动。另一方面,在处于真空状态的处理室和处于真空状态的负载锁止室中存在很少量的气体分子。由于这些室中的极小量的气体分子(如果存在的话),所以实际上没有气体分子流动。
[0004]当经过处于大气状态的处理室、处于真空状态的处理室和处于真空状态的负载锁止室时,用于显示器的衬底会受到由周围使用在处理中的元件产生的静电的影响。
[0005]因为气体分子在处于大气状态的处理室中流动,所以可通过使用离子发生器向流动的气体分子提供离子而从供给至处于大气状态的处理室中的衬底去除静电。也就是说,由离子发生器提供的离子可使流动的气体分子离子化,当离子化的气体分子到达衬底的带有静电的一部分时可中和衬底的该部分。
[0006]然而,用于从供给至处于大气状态的处理室中的衬底去除静电的离子发生器仅在存在气体分子流动时才能去除衬底的静电。因此,很难使用离子发生器从处于真空状态的处理室和处于真空状态的负载锁止室中的衬底去除静电,其中该处理室和该负载锁止室中没有气体分子流动。除非静电被有效地去除,否则衬底的质量会受静电影响而下降。

【发明内容】

[0007]本发明的方面提供了用于从衬底去除静电的设备,该设备能够通过中和及因此去除衬底的静电来防止真空中的衬底被静电损坏。
[0008]本发明的方面还提供了用于从衬底去除静电的方法,该方法能够通过中和及因此去除衬底的静电来防止真空中的衬底被静电损坏。
[0009]然而,本发明的方面并不限制于本文所阐述的方面。通过参考下面给出的本发明的详细描述,本发明的上述及其他方面对于本发明所属领域的技术人员而言将变得显而易见。
[0010]根据本发明的一方面,提供了用于从衬底去除静电的设备。该设备包括:真空室,衬底台,以及第一电极和第二电极,其中衬底台安装在真空室之内,第一电极和第二电极安装在真空室之内并与衬底台物理地分离,其中通过施加至第一电极和第二电极的不同的电压而在第一电极和第二电极之间形成电场,并且衬底台的至少一部分放置在电场之内。[0011 ] 正电压可施加至第一电极,负电压可施加至第二电极,其中,正电压的绝对值可等于负电压的绝对值。
[0012]多个第一电极和多个第二电极可沿衬底台的第一方向交替布置,以形成包括两个或更多电极的一列。
[0013]衬底台可被配置为沿与第一方向垂直的第二方向移动。
[0014]在第一方向上,最靠外的第一电极与最靠外的第二电极之间的距离可小于或大于放置在衬底台上的衬底的宽度。
[0015]在与第一方向垂直的第二方向上,第一电极和第二电极中每个的宽度可小于放置在衬底台上的衬底的宽度的一半。
[0016]该设备还可包括杆形固定单元,多个联接器,供能单元,以及控制单元,其中杆形固定单元安装在真空室之内并且上述一列固定至杆形固定单元;多个联接器安装在真空室之内并分别联接至第一电极和第二电极,且通过螺栓联接至固定单元,以使得其能够沿固定单元移动;供能单元安装在真空室之外,并电连接至第一电极和第二电极中每个,以将不同的电压施加至第一电极和第二电极;以及控制单元控制供能单元的电压施加。
[0017]可在与第一方向垂直的第二方向上设置多个上述一列。
[0018]在第二方向上,最靠外的第一电极与最靠外的第二电极之间的距离可等于或大于放置在衬底台上的衬底的宽度。
[0019]多个第一电极和多个第二电极可沿衬底台的第一方向交替布置,以形成包括两个或更多电极的一列,并沿与第一方向垂直的第二方向延伸。
[0020]在第二方向上,第一电极和第二电极中每个的长度可等于或大于放置在衬底台上的衬底的宽度。
[0021]该设备还包括板形固定单元,供能单元,以及控制单元,其中板形固定单元安装在真空室之内且第一电极和第二电极固定在其上;供能单元安装在真空室之外,并电连接至第一电极和第二电极中的每一个,以及将不同的电压施加至第一电极和第二电极;以及控制单元控制供能单元的电压施加。
[0022]真空室可为处理室,在处理室中进行制造放置在衬底台上的衬底的处理,其中衬底台可为静电夹具。
[0023]真空室可为负载锁止室,其提供在进行制造放置在衬底台上的衬底的处理之前或之后衬底处于其中待用的空间,其中衬底台可为辊。
[0024]根据本发明的另一方面,提供了用于从衬底去除静电的方法。该方法可包括:在第一电极和第二电极下放置安装在衬底台上的衬底的至少一部分,衬底台安装在真空室之内,第一电极和第二电极安装在真空室之内并与衬底台物理地分离;以及通过向第一电极和第二电极施加不同的电压在第一电极和第二电极之间形成电场。
[0025]形成电场可包括通过沿第二方向水平移动衬底台来水平移动衬底,第二方向垂直于第一电极并且第一电极和第二电极布置在第一方向上。
[0026]形成电场可在衬底离开真空室之前进行。
[0027]在衬底离开真空室之前可以是立即在衬底与衬底台分离之前。
【附图说明】
[0028]通过参照附图对示例性实施方式进行详细描述,本发明的上述及其他方面和特征将变得显而易见,在附图中:
[0029]图1为根据本发明实施方式的用于从衬底去除静电的设备的剖视图;
[0030]图2为示出了一些元件以解释使用图1所示的第一电极与第二电极之间的电场从衬底去除静电的原理的剖视图;
[0031]图3为图1所示的第一电极、第二电极和衬底的立体图;
[0032]图4为图3所示的第一电极、第二电极和固定单元的仰视图;
[0033]图5为示出第一电极、第二电极和衬底之间的位置关系的剖视图;
[0034]图6为示出图3所示的第一电极、第二电极和衬底之间的另一位置关系的剖视图;
[0035]图7为示出第一电极和第二电极的与图4的布置不同的另一布置的仰视图;
[0036]图8为图3所示的第一电极、第二电极和衬底的另一示例的立体图;
[0037]图9为图8所示的第一电极、第二电极和固定单元的仰视图;
[0038]图10为图3所示的第一电极、第二电极和衬底的另一示例的立体图;
[0039]图11为图10所示的第一电极、第二电极和固定单元的仰视图;以及
[0040]图12为根据本发明另一实施方式的用于从衬底去除静电的设备的剖视图。
【具体实施方式】
[0041]通过参照附图以及下文中示例性实施方式的详细描述,可以更容易地理解本发明的优点和特征以及实现这些的方法。然而,本发明能够以多种不同形式实现并且不应解释为限于本文中公开的实施方式。提供这些实施方式旨在使本公开透彻且完整并能够向本领域技术人员全面表达本发明的构思,本发明将仅由所附的权利要求限定。
[0042]应理解,当元件或层被称为位于另一元件或层“上”时,元件或层可直接位于另一元件或层上或存在插入的元件或层之间。在全文中相同的参考标记指示相同的元件。
[0043]应理解,虽然本文可使用用语第一、第二、第三等以描述各个元件,但这些元件不应由这些用语限制。这些用语仅用于将一个元件与另一元件区分开。因此,下面讨论的第一元件也可被称为第二元件而不背离本发明的教导。
[0044]在下文中,将参照附图对本发明的实施方式进行描述。
[0045]图1为根据本发明实施方式的用于从衬底去除静电的设备100的剖视图。图2为示出了一些元件以解释使用图1所示的第一电极116与第二电极117之间的电场从衬底S去除静电的原理的剖视图。
[0046]参照图1,根据本实施方式的静电去除设备100包括真空室111、衬底台114、第一电极116、第二电极117、固定单元118、联接器119、供能单元123和控制单元124。
[0047]真空室111形成内部空间,在该内部空间中可产生恒定真空。真空室111可以是处理室,该处理室提供了在其中进行具体处理以制造显示装置的空间。取决于在其中进行的处理,真空室111维持真空状态。当真空室111处于真空状态时,真空室111中仅存在极少量的气体分子。因此,实际上没有气体分子的流动。
[0048]真空室111包括入口 112和出口 113。进行处理所需的衬底S通过入口 112供给至真空室111中并通过出口 113从真空室111排出。衬底S的供给和排出可通过传送装置例如机器人(未示出)来进行。虽然在附图中未示出,但可在真空室111的一侧安
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