一种复合增益被动调制微片激光器的制造方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及一种激光器件领域，尤其是涉及一种复合增益被动调制微片激光器。
【背景技术】
[0002] 被动调Q是由腔内激光辐射自动启动的，当入射光强度增大到一定程度，半饱和 吸收晶体透过率不再增大，达到"饱和"状态，也称为被"漂白"。漂白的过程时间里在跃迀 吸收基础上，在泵浦的作用下，增益逐渐增大，超过了腔体损耗，腔内荧光急剧增强，当饱和 吸收晶体吸收荧光迅速达到饱和状态，损耗突然降低，便得到一个巨脉冲输出。
[0003] 但在被动调Q微片工作过程中，极易出现微脉冲现象，且这种现象在泵浦功率较 高的时候更容易出现。但是这是由于一般情况下慢饱和吸收体的固有属性决定的，所以被 动微片并没有办法来克服这个问题，只有在低泵浦条件下使用。
【发明内容】
[0004] 本发明克服了现有技术的不足，提供了一种复合增益被动微片，可有效的抑制甚 至克服微脉冲现象。
[0005] 为了实现上述目的，本发明采用如下技术方案： 通过将Nd:YV04+Nd:YAG+Cr:YAG三者光胶在一块可以抑制微脉冲现象的发生，两种 激光晶体共用一个谐振腔。众所周知，要想实现调Q输出就必须同时满足第一阈值条件
【主权项】
1. 一种复合增益被动调制微片激光器，其特征在于：采用两种不同的激光增益介质微 片和可饱和吸收体光胶制成复合微片结构。
2. 根据权利要求1所述的复合增益被动调制微片激光器所述，其特征在于：所述的不 同激光增益介质为Nd:YV04与Nd:YAG，采用的可饱和吸收体为Cr:YAG。
3. 根据权利要求1所述的复合增益被动调制微片激光器所述，其特征在于：三种材料 采用光胶或深化光胶的方式制成复合微片结构。
4. 根据权利要求1所述的复合增益被动调制微片激光器所述，其特征在于：复合微片 入射面镀入射光增透膜、输出光高反膜，出射面镀入射光高反膜、输出光部分反射膜。
5. 根据权利要求1所述的复合增益被动调制微片激光器所述，其特征在于：采用端面 泵浦的方式，可以调节泵浦距离令两种介质获得相同或不同的增益。
6. 根据权利要求1所述的复合增益被动调制微片激光器所述，其特征在于：两种增益 介质可以采用不同的掺杂浓度。
【专利摘要】本发明涉及激光领域的发明专利，本发明采用不同的激光增益介质微片通过光胶，并光胶可饱和吸收体，形成复合被动微片结构。其中，激光增益介质为不同的掺杂或是不同的基质介质；其中使用的半导体泵浦源为同一波长或是不同波长；输出激光为同一波长或是不同波长。其优点是，不同的激光能级结构共用一个谐振腔，使得各激光能级间产生关联。如此可以在不改变激光峰值功率的条件下，抑制尾脉冲，本发明实施方便快捷。
【IPC分类】H01S3-08, H01S3-09, H01S3-105
【公开号】CN104852263
【申请号】CN201510285682
【发明人】校金涛, 江彬, 吴季, 陈伟
【申请人】福建福晶科技股份有限公司
【公开日】2015年8月19日
【申请日】2015年5月29日