一种oled面板的制作方法及制作系统的制作方法

文档序号:8906891阅读:654来源:国知局
一种oled面板的制作方法及制作系统的制作方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及显示装置技术领域,更具体的说,涉及一种OLED面板的制作方法及制作系统。
【背景技术】
[0002]OLED (Organic Light-Emitting D1de,有机发光二极管)显示装置,是 20 世纪中期发展起来的一种新型显示技术,具有超轻薄、全固态、主动发光、响应速度快、高对比度、无视角限制、工作温度范围宽、低功耗、低成本、抗震能力强及可实现柔性显示等诸多优点,被誉为“梦幻显示装置”。所以,OLED显示装置将成为下一代最理想的平面显示装置,其优越性能和巨大的市场潜力,吸引全世界众多厂家和科研机构投入到OLED显示装置的生产和研发中。
[0003]OLED器件是OLED面板的主要结构,OLED器件的典型结构为三明治结构,自下而上依次为阳极层、电致发光(Electroluminescence,简称EL)层和阴极层。当阳极层和阴极层之间施加合适的电压后,空穴和电子分别从阳极层和阴极层注入到有EL层中,进行复合发光。其中,EL层材料决定发光颜色。
[0004]OLED面板包括多个阵列排布的OLED器件,在制备OLED面板时,现有技术是在基板上形成第一电极层,图案化所述第一电极层后形成多个阵列分布的阳极,然后在阳极上面形成有EL层。在EL层上形成第二电极层作为公共阴极,再在第二电极层上贴合盖板或者覆上封装层形成OLED面板。
[0005]现有技术一般通过蒸镀工艺形成EL层,但是蒸镀工艺中的高温过程会导致掩膜板热膨胀变形,从而导致作为OLED面板像素点的各个OLED器件的EL层不均匀,导致OLED面板显示不均匀。

【发明内容】

[0006]为解决上述问题,本发明提供了一种OLED面板制作方法及制作系统,提高了 OLED面板的各个OLED器件的EL层的均匀性,避免了 OLED面板显示不均匀的问题。
[0007]为了实现上述目的,本发明提供如下技术方案:
[0008]一种OLED面板的制作方法,该制作方法包括:
[0009]张开承载膜,并在所述承载膜的第一表面涂覆电致发光材料;
[0010]将阵列基板放置在所述承载膜下方,所述阵列基板与所述承载膜的第一表面相对,所述阵列基板与所述承载膜之间具有间隙;
[0011]利用承压装置对所述承载膜的第二表面进行挤压,将位于所述第一表面的电致发光材料转印到所述阵列基板表面,在所述阵列基板的设定区域形成电致发光层。
[0012]本发明还提供了一种OLED面板的制作系统,该制作系统包括:
[0013]承载膜;
[0014]支撑装置,所述支撑装置用于为承载膜提供拉力,使承载膜张开;
[0015]涂覆装置,所述涂覆装置用于在张开的承载膜的第一表面均匀涂覆电致发光材料;
[0016]工作平台,所述工作平台位于承载膜的下方,用于放置阵列基板;
[0017]承压装置,所述承压装置用于挤压所述承载膜的第二表面,使得所述第二表面与所述阵列基板接触,将所述电致发光材料转印到所述阵列基板的设定位置,形成电致发光层O
[0018]与现有技术相比,本发明所提供的技术方案具有以下优点:
[0019]所述制作方法不同于蒸镀工艺,常温下即可形成EL层,避免了由于蒸镀工艺中高温过程导致的掩膜板热膨胀变形问题,保证了作为OLED面板像素点的各个OLED器件的EL层均匀性,从而避免了 OLED面板显示不均匀的问题。所述制作系统基于所述制作方法,可以制备EL层均匀的OLED面板,制备的OLED面板显示均匀性好。
【附图说明】
[0020]为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据提供的附图获得其他的附图。
[0021]图1为本申请实施例提供的一种OLED面板的制作方法的流程示意图;
[0022]图2为本申请实施例提供的一种电致发光层的形成过程的方法流程图;
[0023]图3为本申请实施例提供的另一种电致发光层的形成过程的方法流程图;
[0024]图4为本申请实施例提供的又一种电致发光层的形成过程的方法流程图;
[0025]图5为本申请实施例提供的又一种电致发光层的形成过程的方法流程图;
[0026]图6为图5所示实施方式中承压装置与承载膜的对位原理示意图;
[0027]图7为本申请实施例提供的一种电致发光材料的喷涂原理示意图;
[0028]图8为本申请实施例提供的另一种电致发光材料的喷涂原理示意图;
[0029]图9为本申请实施例提供的一种OLED面板的制作系统的侧视图;
[0030]图10为本申请实施例提供的一种OLED面板的制作系统的俯视图;
[0031]图11为本申请实施例提供的一种承压装置的承压面的结构示意图;
[0032]图12为本申请实施例提供的另一种承压装置的承压面的结构示意图;
[0033]图13为本申请实施例提供的又一种承压装置的承压面的结构示意图;
[0034]图14为本申请实施例提供的一种电致发光层的制作过程的原理示意图;
[0035]图15为本申请实施例提供的又一种承压装置的承压面的结构示意图;
[0036]图16为图15沿PP’的截面示意图;
[0037]图17为采用本申请实施例所述承压装置进行承压的原理示意图。
【具体实施方式】
[0038]下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
[0039]如【背景技术】中所述,蒸镀工艺中的高温过程会导致掩膜板热膨胀变形,从而导致OLED器件的EL层不均匀,使得OLED面板显示不均匀。另外,蒸镀工艺需要真空条件下进行,成本较高。
[0040]为了解决上述问题,本申请实施例提供了一种OLED面板的制作方法,参考图1,图1为本申请实施例提供的一种OLED面板的制作方法的流程示意图,该制作方法包括:
[0041]步骤Sll:张开承载膜,并在所述承载膜的第一表面涂覆电致发光材料。
[0042]步骤S12:将阵列基板放置在所述承载膜下方,所述阵列基板与所述承载膜的第一表面相对,所述阵列基板与所述承载膜之间具有间隙。
[0043]步骤S13:利用承压装置对所述承载膜的第二表面进行挤压,将位于所述第一表面的电致发光材料转印到所述阵列基板表面,在所述阵列基板的设定区域形成电致发光层O
[0044]本申请实施例所述制作方法无需掩膜板以及高温过程即可形成OLED面板的EL层,因此避免了由于蒸镀工艺中高温过程导致的掩膜板热膨胀变形问题,保证了作为OLED面板像素点的各个OLED器件的EL层均匀性,从而避免了 OLED面板显示不均匀的问题。同时,无需高温真空系统,制作成本低。
[0045]在本申请所示制作方法中,所用的承压装置具有承压面,所述承压面包括图形区域。所述电致发光层的形成过程包括:利用所述承压面对所述第二表面进行挤压,将所述电致发光材料通过所述图形区域的图案转印到所述阵列基板的表面,在所述阵列基板的表面形成所述电致发光层。
[0046]所述制作方法通过所述承压装置挤压所述第二表面,将位于所述第一表面的电致发光材料转印到位于所述承载膜下方的阵列基板表面,通过印刷工艺形成所述电致发光层,且无需高温以及真空等高标准工艺要求,工艺简单,成本低。其中,所述承载膜可以为丝网。
[0047]采用传统的丝网印刷工艺也可以制备OLED的电致发光层。传统的丝网印刷工艺需要对具有印刷图案的丝网,将待印刷浆料置于丝网的上表面,通过刮刀将待印刷浆料通过所述印刷图案印刷到位于所述丝网下方的基板上,形成与所述印刷图案相同的图形结构。但是,传统的丝网印刷工艺制作图案化的丝网模板成本较高,且无法保证待印刷浆料均匀填充在所述印刷图案内,即无法保证形成的电致发光层的均匀性。同时,在进行丝网与基板上的印刷形成的图形结构分离时,丝网与待印刷浆料的粘结力容易损坏所述图形结构,影响产品良率。
[0048]本申请实施例所述制作方法中,电致发光材料涂覆在所述承载膜的第一表面,所述第一表面直接与所述阵列基板相对设置。所述阵列基板位于所述第一表面下方,且与所述第一表面之间具有设定的间隙。通过所述承压装置挤压所述承载膜的第二表面,将所述第一表面的电致发光材料转印到所述阵列基板表面,形成所述电致发光
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