钟，得到可见光光敏电阻主体。
[0103] ⑤将两个电极安装在光敏电阻主体两端，得到光敏电阻。
[0104] 本实施例中，稀土氯化物为氯化钬、氯化铕、氯化铈和氯化镥的混合物，稀土氯化 物由以下组分组成：
[0105] 氯化钬 40% (重量百分比） 氯化铕 20% (重量百分比） 氯化铈 20% (重量百分比） 氯化镥 20% (重量百分比），
[0106] 本实施例中，步骤④之后，步骤⑤之前还包括涂隔离层的步骤，涂隔离层的步骤 为：在光敏层的表面喷涂隔离层，隔离层的材料为环氧树脂。
[0107] 本实施例中，步骤③中将光敏溶液多次喷涂在陶瓷基体的表面，喷涂次数为3-4 次，所述的光敏层的厚度为2微米。
[0108] 本实施例中，陶瓷基体由纯度为93%以上的三氧化二铝制备而成。
[0109] 实施例四：一种可见光光敏电阻的制作方法，包括以下步骤：
[0110] ①制备陶瓷基体；
[0111] ②制备光敏溶液：
[0112] ②-1按照以下配比配置光敏层原料并将各原料混合均匀后得到光敏层混合物：
[0113] CdS 70% (重量百分比） CdSe 20% (重量百分比） CdCl2 9,9% (重量百分比）
[0114] 稀土氯化物 0.1% (重量百分比）
[0115] 稀土氯化物为氯化铕、氯化铈和氯化镥中的一种或者为氯化钬、氯化铕、氯化铈和 氯化镥中两种或两种以上的混合物。
[0116] ②-2将光敏层混合物溶解在离子水中得到光敏溶液，其中光敏溶液中，光敏层混 合物的重量百分比为30%，离子水的重量百分比为70% ;
[0117] ③将光敏溶液喷涂在陶瓷基体的表面，形成光敏层；
[0118] ④将喷涂后的陶瓷基体在常温常压下静置10-15分钟后，再在380-1300°C高温下 烧结15分钟，得到可见光光敏电阻主体。
[0119] ⑤将两个电极安装在光敏电阻主体两端，得到光敏电阻。
[0120] 本实施例中，稀土氯化物为氯化钬、氯化铕、氯化铈和氯化镥的混合物，稀土氯化 物由以下组分组成：
[0121] 氯化钬 45% (重量百分比） 氯化铕 20% (重量百分比） 氯化铈 15% (重量百分比） 氯化镥 20% (重量百分比）。
[0122] 本实施例中，步骤④之后，步骤⑤之前还包括涂隔离层的步骤，涂隔离层的步骤 为：在光敏层的表面喷涂隔离层，隔离层的材料为环氧树脂。
[0123] 本实施例中，步骤③中将光敏溶液多次喷涂在陶瓷基体的表面，喷涂次数为3-4 次，所述的光敏层的厚度为5微米。
[0124] 本实施例中，陶瓷基体由纯度为93%以上的三氧化二铝制备而成。
[0125] 实施例五：一种可见光光敏电阻的制作方法，包括以下步骤：
[0126] ①制备陶瓷基体；
[0127] ②制备光敏溶液：
[0128] ②-1按照以下配比配置光敏层原料并将各原料混合均匀后得到光敏层混合物：
[0129] CdS 70% (重量百分比） CdSe 20% (重量百分比） CdCl2 9.9% (重量百分比） 稀土氯化物 0.1% (重量百分比>
[0130] 稀土氯化物为氯化铕、氯化铈和氯化镥中的一种或者为氯化钬、氯化铕、氯化铈和 氯化镥中两种或两种以上的混合物。
[0131] ②_2将光敏层混合物溶解在离子水中得到光敏溶液，其中光敏溶液中，光敏层混 合物的重量百分比为30%，离子水的重量百分比为70% ;
[0132] ③将光敏溶液喷涂在陶瓷基体的表面，形成光敏层；
[0133] ④将喷涂后的陶瓷基体在常温常压下静置10-15分钟后，再在380-1300°C高温下 烧结15分钟，得到可见光光敏电阻主体。
[0134] ⑤将两个电极安装在光敏电阻主体两端，得到光敏电阻。
[0135] 本实施例中，稀土氯化物为氯化钬、氯化铕、氯化铈和氯化镥的混合物，稀土氯化 物由以下组分组成：
[0136] 氯化钬 45% (重量百分比)： 氯化铕 20% (重量百分比） 氯化铈 15% (重量百分比） 氯化镥 20% C重量百分比）。
[0137] 本实施例中，步骤④之后，步骤⑤之前还包括涂隔离层的步骤，涂隔离层的步骤 为：在光敏层的表面喷涂隔离层，隔离层的材料为环氧树脂。
[0138] 本实施例中，步骤③中将光敏溶液多次喷涂在陶瓷基体的表面，喷涂次数为3-4 次，光敏层的厚度为2微米。本实施例中陶瓷基体由纯度为93%以上的三氧化二铝制备而 成。
[0139] 将采用本发明的制作方法制作的可见光光敏电阻与采用现有技术的方法制作的 可见光光敏电阻进行性能测试，在25°C常温下老化10天后，分别加100V、150V、200V电压， 测量无光下的暗电阻和lOOLux光照射10秒后的亮电阻，两者性能测试结果对照表如下表 1所示：
[0142] 分析表1中的数据可知，由表中数据分析可知，本发明的制作方法制作的可见光 光敏电阻相对于现有技术的制作方法制作的可见光光敏电阻，其灵敏度提高了 50%，且老 化后稳定性高，废品率由15%或者15%以上降到低于5%。除灵敏度、稳定性以外，光敏电 阻的其它性能未受影响。
【主权项】
1. 一种可见光光敏电阻，包括陶瓷基体、光敏层和两个电极，所述的光敏层包覆在所述 的陶瓷基体表面，所述的光敏层和所述的陶瓷基体形成可见光光敏电阻主体，两个电极分 别安装在所述的可见光光敏电阻主体的两端，其特征在于所述的光敏层由W下组分组成：所述的稀±氯化物为氯化館、氯化姉和氯化错中的一种或者为氯化铁、氯化館、氯化姉 和氯化错中两种或两种W上的混合物。2. 根据权利要求1所述的一种光敏电阻，其特征在于稀±氯化物为氯化铁、氯化館、氯 化姉和氯化错的混合物，所述的稀±氯化物由W下组分组成：3. 根据权利要求1所述的一种可见光光敏电阻，其特征在于所述的光敏层的厚度为 2-5微米。4. 根据权利要求1所述的一种可见光光敏电阻，其特征在于所述的陶瓷基体由纯度为 93%W上的=氧化二侣制备而成。5. -种权利要求1所述的一种可见光光敏电阻的制作方法，其特征在于包括W下步 骤： ① 制备陶瓷基体； ② 制备光敏溶液： ②-1按照W下配比配置光敏层原料并将各原料混合均匀后得到光敏层混合物：所述的稀±氯化物为氯化館、氯化姉和氯化错中的一种或者为氯化铁、氯化館、氯化姉 和氯化错中两种或两种W上的混合物。 ② -2将光敏层混合物溶解在离子水中得到光敏溶液，其中光敏溶液中，光敏层混合物 的重量百分比为30%，离子水的重量百分比为70% ; ③ 将光敏溶液喷涂在陶瓷基体的表面，形成光敏层； ④ 将喷涂后的陶瓷基体在常溫常压下静置10-15分钟后，再在380-1300°C高溫下烧结 15分钟，得到可见光光敏电阻主体。 ⑥将两个电极安装在光敏电阻主体两端，得到光敏电阻。6. 根据权利要求5所述的一种光敏电阻的制作方法，其特征在于稀±氯化物为氯化 铁、氯化館、氯化姉和氯化错的混合物，所述的稀±氯化物由W下组分组成：7. 根据权利要求5所述的一种可见光光敏电阻的制作方法，其特征在于所述的步骤④ 之后，所述的步骤⑥之前还包括涂隔离层的步骤，所述的涂隔离层的步骤为：在光敏层的表 面喷涂隔离层，隔离层的材料为环氧树脂。8. 根据权利要求5所述的一种光敏电阻的制作方法，其特征在于所述的步骤③中将光 敏溶液多次喷涂在陶瓷基体的表面，喷涂次数为3-4次，所述的光敏层的厚度为2-5微米。9. 根据权利要求5所述的一种可见光光敏电阻的制作方法，其特征在于所述的陶瓷基 体由纯度为93%W上的=氧化二侣制备而成。
【专利摘要】本发明公开了一种可见光光敏电阻及其制作方法，采用稀土氯化物取代CuCl2，通过在光敏层材料CdS、CdSe和CdCl2中添加重量百分比为0.1％的稀土氯化物，稀土氯化物为氯化钬、氯化钕、氯化钆、氯化镝和氯化钐中的一种或者为两种或两种以上的混合物，并调整CdS、CdSe和CdCl2三种材料的配比，稀土氯化物含量很小，不会影响可见光光敏电阻的材料成本，且稀土氯化物和CdS、CdSe和CdCl2三种材料组合在一起可以增加可见光光敏电阻的暗电阻，减小可见光光敏电阻的亮电阻；优点是可以提高可见光光敏电阻的灵敏度，并且稀土氯化物稳定性较高，可见光光敏电阻在老化工艺中不容易产生变化，不会导致可见光光敏电阻其它性能参数降低，可见光光敏电阻老化工艺中稳定性较高，废品率大幅降低。
【IPC分类】H01L31/18, H01L31/0328, H01L31/08
【公开号】CN105206700
【申请号】CN201510647858
【发明人】鲁道邦, 宋玉玲, 朱永胜, 惠明, 赵俊峰, 孙国良
【申请人】南阳师范学院
【公开日】2015年12月30日
【申请日】2015年10月9日