8] 图2为本实用新型第二实施方式的结构示意图；
[0029] 图3为含光取出结构的底发光OLED显示屏；
[0030] 图4为含光取出结构的顶发光OLED显示屏；
[0031] 图5为含光取出结构的白光加CF结构OLED显示屏；
[0032]图6为微柱体的横截面图；
[0033] 图7为微柱体另一实施方式的横截面图；
[0034] 图8为设置有微孔的光取出层横截面图；
[0035] 图9为微柱体呈六边形排布的结构示意图；
[0036] 图10为OLED光损失模式示意图；
[0037] 图11为现有技术光路不意图；
[0038] 图中附图标记表不为：1-基板，2_第一电极层，3_光取出层，4_有机功能层，5_第 二电极，6-微柱体，7-彩色滤光片，10-防串扰层，13-微孔。
【具体实施方式】
[0039] 为了使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本实用 新型的实施方式作进一步地详细描述。
[0040] 本实用新型可以以许多不同的形式实施，而不应该被理解为限于在此阐述的实施 例。相反，提供这些实施例，使得本公开将是彻底和完整的，并且将把本实用新型的构思充 分传达给本领域技术人员，本实用新型将仅由权利要求来限定。在附图中，为了清晰起见， 会夸大层和区域的尺寸和相对尺寸。应当理解的是，当元件例如层、区域或基板被称作"形 成在"或"设置在"另一元件"上"时，该元件可以直接设置在所述另一元件上，或者也可以 存在中间元件。相反，当元件被称作"直接形成在"或"直接设置在"另一元件上时，不存在 中间元件。
[0041] 如图1所示，本实用新型的一种含光取出结构的显示屏体，包括在基板1上形成的 若干像素单元，每一所述像素单元包括依次堆叠设置的第一电极层2、有机功能层4和第二 电极层5,所述像素单元还包括设置在所述基板和第二电极层5之间的光取出层3,所述光 取出层3中设置有用以改变第二电极反射界面平整性的若干不同质界面区域，所述不同质 界面区域占所述光取出层面积的0. 1-30% ;优选0. 1-20%，进一步优选至0. 5-10%，最优 选 0? 5-5%〇
[0042] 相邻所述像素单元之间设置有防串扰层10,所述防串扰层10的高度大于等于所 述光取出层3的厚度。如图1所示，所述防串扰层10的高度大于等于所述微柱形光取出层 的厚度。第一电极层2设置在所述基板的上方，光取出层、有机功能层4和第二电极层5形 成在第一电极结构上方。
[0043] 所述防串扰层10为黑色矩阵层，具体为黑色光阻材料层，比如采用分散有炭黑或 有机黑色颜料等材料的光刻胶，或黑色的金属如Cr等。
[0044] 所述光取出层3的位置没有特别限定，可以设置在基板和第二电极之间的任意两 层之间。如图1所示，所述光取出层3设置在基第一电极层2和有机功能层4之间。所 述有机功能层包括空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子注入层和电子传输层；所述微柱 体光取出层设置在上述任意两层的界面之间。所述光取出层的厚度为1-lOOOOnm，优选 10-3000nm〇
[0045] 如图6-图8所不，所述光取出层3为若干微柱体6构成的微柱体光取出层，相邻所 述微柱体6之间为空白区域，所述微柱体6构成所述不同质界面区域。微柱体的横截面形 状没有特别要求，可以为任何规则形状或不规则形状，或者规则形状和不规则形状的组合。 当微柱体6为图6所示的圆柱体时，所述所柱体的半径r < 50 ym，相邻所述微柱体6中心 线之间的间距d < 100 ym。当微柱体6横截面为图7所示的三角形时，三角形外切圆的半 径的r < 50 ym，相邻所述三角形的最短距离d < 100 ym。所述微柱体6的横截面面积为 光取出层3整体发光面积的0. 1-30%，优选0. 5-10%，最优选0. 5-5%。所述微柱体6可以 选用的材料没有特别限定，可以为任何透明和易图形化的导电材料或绝缘材料。微柱体结 构面积占比非常小，则不用太多考虑材料的导电性及透光率等，可设置于基板和第二电极 层之间的任何相邻两层之间。作为另一种实施方式，如图8所示，所述光取出层3包括光取 出本体材料和在光取出本体材料中设置的若干微孔13,所述微孔13构成所述不同质界面 区域。微孔13贯穿于所述光取出层3,其中心线垂直于所述基板1。光取出层3设置位置 也可以在基板和第二电极之间的任意相邻的两层之间。在光取出层3上设置微孔结构，由 于材料本身界面较大，如设置在ITO与玻璃表面，则选择透光率较高的材料；如设置在ITO 与有机层界面，则选择具有一定导电性的透明材料。如位于有机材料界面，则选择有对应传 输能力的材料较好。
[0046] 其中微柱体为圆柱体，所述微柱体采用图7所示的六边形排布方式为优选方式。
[0047]
【主权项】
1. 一种含光取出结构的显示屏体，包括在基板（1)上形成的若干像素单元，每一所述 像素单元包括依次堆叠设置的第一电极层（2)、有机功能层（4)和第二电极层（5)，其特征 在于， 所述像素单元还包括设置在所述基板和第二电极层（5)之间的光取出层（3)，所述光 取出层（3)中设置有用以改变第二电极反射界面平整性的若干不同质界面区域，所述不同 质界面区域占所述光取出层面积的0. 1-30% ; 相邻所述像素单元之间设置有防串扰层（10)，所述防串扰层（10)的高度大于等于所 述光取出层（3)的厚度。
2. 根据权利要求1所述含光取出结构的显示屏体，其特征在于，所述防串扰层（10)采 用黑色矩阵吸光层或反射材料矩阵层。
3. 根据权利要求2所述含光取出结构的显示屏体，其特征在于，所述黑色矩阵层为黑 色光阻材料层，所述反射材料层为金属反光材料层或者高反射率的无机盐类材料层。
4. 根据权利要求1-3任一所述含光取出结构的显示屏体，其特征在于，所述不同质界 面区域占所述光取出层（3)面积的0. 1-20%。
5. 根据权利要求4所述含光取出结构的显示屏体，其特征在于，所述不同质界面区域 的面积占所述光取出层（3)面积的0.5-10%。
6. 根据权利要求5所述含光取出结构的显示屏体，其特征在于，所述不同质界面区域 的面积占所述光取出层（3)面积的0.5-5%。
7. 根据权利要求1所述含光取出结构的显示屏体，其特征在于，所述光取出层（3)为 若干微柱体（6)构成的微柱体光取出层，相邻所述微柱体（6)之间为空白区域，所述微柱体 (6)构成所述不同质界面区域。
8. 根据权利要求1所述含光取出结构的显示屏体，其特征在于，所述光取出层包括光 取出本体材料和在光取出本体材料中设置的若干微孔（13)，所述微孔（13)构成所述不同 质界面区域。
9. 根据权利要求7或8所述含光取出结构的显示屏体，其特征在于，所述有机发光层包 括空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层和电子注入层中的一层或其组合； 所述光取出层（3)设置在所述基板（1)、第一电极（2)、空穴注入层、空穴传输层、发光 层、电子传输层、电子注入层和第二电极层（5)中任意相邻的两层之间。
10. 根据权利要求9所述含光取出结构的显示屏体，其特征在于，所述显示屏体为顶发 光模式、底发光模式或白光+滤光膜模式。
【专利摘要】本实用新型所述一种含光取出结构的显示屏体，包括基板、依次设置在所述基板上方的光取出结构和像素单元，所述像素单元包括依次堆叠设置的第一电极层、有机功能层和第二电极层所述光取出结构。所述光取出结构包括防串扰层，所述防串扰层形成连续的网格结构。所述光取出结构还包括微柱体光取出层结构使得器件的表面等离子光被提取出来。所述第一光取出结构分布在网格结构中。光取出结构是为了提高光取出效率，而网格结构设置在像素边缘起防串扰的作用，进一步避免了像素间光线串扰，从而获得具有较高的清晰度、高发光效率的显示屏体。
【IPC分类】H01L51-50, H01L51-52, H01L27-32
【公开号】CN204271086
【申请号】CN201420854328
【发明人】张国辉, 董艳波, 王静, 李曼, 胡永岚
【申请人】北京维信诺科技有限公司
【公开日】2015年4月15日
【申请日】2014年12月29日