电容浸液槽的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及电子元器件的加工设备，具体来说，涉及一种生产固态电容氧化剂含浸的浸液槽。
【背景技术】
[0002]固态电容关键一道工序为氧化剂含浸，氧化剂通常为对甲苯磺铁溶解在正丁醇或乙醇溶液中，这种溶液粘度较大，不易浸透电容的芯包，因此氧化剂含浸的质量对电容的性能以及一致性在很大关系。故对芯包进行氧化剂含浸需要特殊的含浸设备，这些设备通常能实现产品的常压下含浸，真空下含浸，必要时还要进行加压含浸，现行的设备是制作一个槽体，氧化剂放入槽体中，含浸时产品入槽体中，若要进行真空含浸，则先将芯包脱离液面，真空抽到后再将芯包放入氧化剂中进行含浸。这种方法现在比较普遍使用，但存在明显的缺陷，一是，因为芯包有一定的高度，且芯包之间间距较大，因此每次有较多的氧化剂放入槽中。在进行氧化剂含浸过程中一方面已含浸单体会扩散到氧化剂中对氧化剂造成污染，一方面芯包上的纸肩会进入氧化剂，使用氧化剂得以污染，使用一段时间后，被严重污染的氧化剂则要废弃，因为被污染的量较多，废弃量相对较大；另一个问题是在抽真空时，氧化剂中的气泡会扩散出来，这种气泡会产生大量泡沫，这种泡沫会堆积很高，超出芯包污染胶盖与导针。
【实用新型内容】
[0003]为解决以上技术问题，本实用提供新型固态电容氧化剂含浸槽。
[0004]技术方案如下:一种电容浸液槽，包括槽体(I )，其关键在于:所述槽体(I)内放置有含浸板(2)，该含浸板(2)上分布有条形通孔(2a)，该条形通孔(2a)为上部开口大，下部小的漏斗形。
[0005]上述条形通孔(2a)沿含浸板(2)长度方向均匀分布，所述含浸板(2)下表面长度方向上开有两条贯通左右两端面的凹槽(2b)，所述凹槽(2b)将所有条形通孔(2a)连通。
[0006]上述条形通孔(2a)横截面上部为梯形，下部为矩形。
[0007]有益效果:将含浸槽中加上含浸板好处是:一减少了含浸槽中液体的存量，使得废弃量大大减少，另外，抽真空时气体从氧化剂中逸出的气泡受到含浸板的阻档，不会形成太高，因而不会污染胶盖或导针。同时还有一大好处是:芯包含浸完成后脱离液面时，由于受到含浸板槽的边的摩擦作用，不会有过大的液滴存留于芯包。
【附图说明】
[0008]图1为本实用新型的结构示意图；
[0009]图2为图1的A-A剖视图；
[0010]图3为图1的B-B剖视图；
[0011]图4为图2的局部放大图。
【具体实施方式】
[0012]下面结合实施例和附图对本实用新型作进一步说明。
[0013]如图1、2、3、4所示，一种电容浸液槽，由槽体1、含浸板2组成，所述槽体I内放置有含浸板2，该含浸板2上分布有条形通孔2a，该条形通孔2a为上部开口大，下部小的漏斗形。上述条形通孔2a沿含浸板2长度方向均匀分布，
[0014]所述含浸板2下表面长度方向上开有两条贯通左右两端面的凹槽2b，所述凹槽2b将所有条形通孔2a连通。上述条形通孔2a横截面上部为梯形，下部为矩形。
[0015]最后需要说明的是，上述描述仅仅为本实用新型的优选实施例，本领域的普通技术人员在本实用新型的启示下，在不违背本实用新型宗旨及权利要求的前提下，可以做出多种类似的表示，这样的变换均落入本实用新型的保护范围之内。
【主权项】
1.一种电容浸液槽，包括槽体(I)，其特征在于:所述槽体(I)内放置有含浸板(2)，该含浸板(2)上分布有条形通孔(2a)，该条形通孔(2a)为上部开口大，下部小的漏斗形。
2.根据权利要求1所述电容浸液槽，其特征在于:所述条形通孔(2a)沿含浸板(2)长度方向均匀分布，所述含浸板(2)下表面长度方向上开有两条贯通左右两端面的凹槽(2b)，所述凹槽(2b)将所有条形通孔(2a)连通。
3.根据权利要求1或2所述电容浸液槽，其特征在于:所述条形通孔(2a)横截面上部为梯形，下部为矩形。
【专利摘要】一种电容浸液槽，包括槽体，所述槽体内放置有含浸板，该含浸板上分布有条形通孔，该条形通孔为上部开口大，下部小的漏斗形。将含浸槽中加上含浸板好处是：一减少了含浸槽中液体的存量，使得废弃量大大减少，另外，抽真空时气体从氧化剂中逸出的气泡受到含浸板的阻档，不会形成太高，因而不会污染胶盖或导针。同时还有一大好处是：芯包含浸完成后脱离液面时，由于受到含浸板槽的边的摩擦作用，不会有过大的液滴存留于芯包。
【IPC分类】H01G13-04
【公开号】CN204464071
【申请号】CN201520047261
【发明人】屈发练, 屈长松, 张皓
【申请人】重庆市图达电子科技有限公司
【公开日】2015年7月8日
【申请日】2015年1月23日