一种射线屏蔽结构的制作方法

1.本实用新型涉及电子辐照加速器领域，尤其涉及一种射线屏蔽结构。


背景技术：

2.目前辐照电子加速器在对材料进行电离辐射改性时，会产生大量的高能射线，若无防护措施，会对现场工作人员及周围其他生命体和不耐辐射物品设备造成严重伤害。为此公开了一种升降式在线射线屏蔽结构，该结构包括一中空容腔，所述中空容腔包括分体设计且从上至下排列的上屏蔽室、束下上屏蔽室和束下下屏蔽室，所述束下下屏蔽室包括进料口和出料口；还包括一外支撑体，位于所述外支撑体上安装有垂直滑轨，所述中空容腔的上屏蔽室、束下上屏蔽室和束下下屏蔽室均设置在所述垂直滑轨上。
3.基于现有设备中射线屏蔽结构的整体设计，需要在束下上屏蔽室和束下下屏蔽室之间上下分别安装导向辊(传输滚筒)，其目的是为了让被辐射材料能够更好的穿过束下上屏蔽室和束下下屏蔽室之间的通道，但被辐射材料上方设置导向辊与被辐射材料表面的涂布或印刷接触，会影响被辐射材料表面的涂布或印刷的效果。


技术实现要素：

4.本实用新型的目的在于提供一种射线屏蔽结构，旨在解决现有技术中的被辐射材料上方设置导向辊与被辐射材料表面的涂布或印刷接触，会影响被辐射材料表面的涂布或印刷的效果的技术问题。
5.为实现上述目的，本实用新型采用的一种射线屏蔽结构，包括支撑架、射线传输系统和射线屏蔽系统；所述射线传输系统与所述射线屏蔽系统连接；所述射线屏蔽系统包括上屏蔽室、束下下屏蔽室、束下上屏蔽室、滑轮和支撑装置，所述上屏蔽室与所述支撑架固定连接，并位于所述支撑架的内部，所述束下下屏蔽室与所述支撑架滑动连接，并位于所述支撑架远离所述上屏蔽室的一侧，所述束下上屏蔽室与所述上屏蔽室可拆卸连接，并与所述支撑架滑动连接，且位于所述上屏蔽室靠近所述束下下屏蔽室的一侧，所述滑轮与所述束下下屏蔽室转动连接，并位于所述束下下屏蔽室靠近所述束下上屏蔽室的一侧，所述支撑装置与所述支撑架固定连接，并输出轴与所述束下下屏蔽室固定连接，且位于所述支撑架靠近所述束下下屏蔽室的一侧；所述射线传输系统包括电子枪加速管、离子泵和分子泵，所述电子枪加速管与所述上屏蔽室固定连接，并贯穿所述上屏蔽室，且朝向所述束下上屏蔽室的方向；所述离子泵与所述上屏蔽室固定连接，并与所述电子枪加速管连通，且位于所述上屏蔽室的外侧；所述分子泵与所述上屏蔽室固定连接，并与所述电子枪加速管连通，且位于所述上屏蔽室靠近所述离子泵的一侧。
6.其中，所述射线屏蔽系统还包括底盖，所述底盖与所述支撑装置固定连接，并位于所述束下下屏蔽室固定连接，且位于所述束下下屏蔽室和所述支撑装置之间。
7.其中，所述支撑装置包括支撑底座和液压升降平台，所述支撑底座与所述支撑架固定连接，并位于所述支撑架靠近所述束下下屏蔽室的一侧；所述液压升降平台与所述支
撑底座固定连接，并输出端与所述底盖固定连接，且位于所述支撑底座靠近所述底盖的一侧。
8.其中，所述射线传输系统还包括扫描盒，所述扫描盒与所述上屏蔽室固定连接，并与所述电子枪加速管贯通，且位于所述上屏蔽室靠近所述电子枪加速管的一侧。
9.其中，所述射线传输系统还包括电子束引出窗，所述电子束引出窗与所述扫描盒固定连接，并位于所述扫描盒远离所述电子枪加速管的一侧。
10.其中，所述射线传输系统还包括引出窗冷风路，所述引出窗冷风路与所述扫描盒固定连接，并与所述电子束引出窗固定连接，且位于所述扫描盒靠近所述电子束引出窗的一侧。
11.本实用新型的一种射线屏蔽结构，屏蔽室分为所述上屏蔽室、所述束下下屏蔽室和所述束下上屏蔽室，利用所述支撑装置便于穿料；所述束下上屏蔽室同所述束下下屏蔽室一同降下时方便电子束引出窗零部件，所述离子泵和所述分子泵产生射线，并通过所述电子枪加速管投射到被辐照材料上，采用这样的屏蔽结构，使得被辐射材料上表面无需设置导向辊，被辐射材料表面有涂布或印刷在未通过电子束时固化，避免了导向辊对被辐射材料上表面的涂布或印刷接触，从而影响被辐射材料表面的印刷或涂布的效果。
附图说明
12.为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
13.图1是本实用新型的射线屏蔽结构的主视图。
14.图2是本实用新型的射线屏蔽结构的拆分图。
15.图3是本实用新型的支撑装置的结构示意图。
16.图中：1
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支撑架、2
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射线屏蔽系统、3
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射线传输系统、4
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被辐照材料、21
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上屏蔽室、22
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束下下屏蔽室、23
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束下上屏蔽室、24
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滑轮、25
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支撑装置、26
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底盖、31
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电子枪加速管、32
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离子泵、33
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分子泵、34
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扫描盒、35
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电子束引出窗、36
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引出窗冷风路、100
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射线屏蔽结构、251
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支撑底座、252
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液压升降平台。
具体实施方式
17.下面详细描述本实用新型的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本实用新型，而不能理解为对本实用新型的限制。
18.在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“长度”、“宽度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，在本实用新型的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另
有明确具体的限定。
19.请参阅图1至图3，本实用新型提供了一种射线屏蔽结构100，包括支撑架1、射线传输系统3和射线屏蔽系统2；所述射线传输系统3与所述射线屏蔽系统2连接；所述射线屏蔽系统2包括上屏蔽室21、束下下屏蔽室22、束下上屏蔽室23、滑轮24和支撑装置25，所述上屏蔽室21与所述支撑架1固定连接，并位于所述支撑架1的内部，所述束下下屏蔽室22与所述支撑架1滑动连接，并位于所述支撑架1远离所述上屏蔽室21的一侧，所述束下上屏蔽室23与所述上屏蔽室21可拆卸连接，并与所述支撑架1滑动连接，且位于所述上屏蔽室21靠近所述束下下屏蔽室22的一侧，所述滑轮24与所述束下下屏蔽室22转动连接，并位于所述束下下屏蔽室22靠近所述束下上屏蔽室23的一侧，所述支撑装置25与所述支撑架1固定连接，并输出轴与所述束下下屏蔽室22固定连接，且位于所述支撑架1靠近所述束下下屏蔽室22的一侧；所述射线传输系统3包括电子枪加速管31、离子泵32和分子泵33，所述电子枪加速管31与所述上屏蔽室21固定连接，并贯穿所述上屏蔽室21，且朝向所述束下上屏蔽室23的方向；所述离子泵32与所述上屏蔽室21固定连接，并与所述电子枪加速管31连通，且位于所述上屏蔽室21的外侧；所述分子泵33与所述上屏蔽室21固定连接，并与所述电子枪加速管31连通，且位于所述上屏蔽室21靠近所述离子泵32的一侧。
20.在本实施方式中，该机构包括所述支撑架1，所述支撑架1内部的所述上屏蔽室21、所述束下上屏蔽室23、所述束下下屏蔽室22，与现有射线屏蔽装置不同，本方案采用双腔体结构，将上装置腔、中射线腔统一为一体，采用该方式不仅能有效简化整体屏蔽结构，降低维护成本，而且有利于后期的设备维护，所述支撑装置25为液压起重装置。其中，所述支撑架1包括若干个相连的支撑杆，所述上屏蔽室21固定设置在所述支撑架1的内部或上方，所述支撑装置25设置在所述支撑架1的底部，所述支撑装置25能将被辐照材料4传输至辐照区，所述射线屏蔽系统2包括所述束下下屏蔽室22，所述束下下屏蔽室22位于所述上屏蔽室21的下方；同时，所述射线屏蔽系统2通过滚筒、网链或传送带等传结构移动，并安装在所述上屏蔽室21体内，采用该方式，所述束下下屏蔽室22能相对所述支撑架1移动；由于整体结构的改进，使得所述上屏蔽室21能够起到相应的定位作用，从而有效避免定位机构的设置，进而达到简化整体结构的目的，最终有效降低设备维护成本，缩短维护周期；工作时，所述上屏蔽室21是固定的，所述支撑装置25工作并带动物料传输部分缓缓降落，物料经进料口进入，从出料口方向牵出，启动所述支撑装置25，所述束下下屏蔽室22的下部分缓慢上升，当与所述上屏蔽室21对接后固定；装置检修时，所述上屏蔽室21的下部分与所述上屏蔽室21相互分离，所述束下下屏蔽室22通过所述滑轮24即可实现对被辐照材料4下表面的支撑和移动；所述离子泵32和所述分子泵33产生射线，并通过所述电子枪加速管31投射到被辐照材料4上；如此，屏蔽室分为所述上屏蔽室21、所述束下下屏蔽室22和所述束下上屏蔽室23，利用所述支撑装置25便于穿料；所述束下上屏蔽室23同所述束下下屏蔽室22一同降下时方便电子束引出窗35零部件，所述离子泵32和所述分子泵33产生射线，并通过所述电子枪加速管31投射到被辐照材料4上，采用这样的屏蔽结构，使得被辐射材料上表面无需设置导向辊，被辐射材料表面有涂布或印刷在未通过电子束时固化，避免了导向辊对被辐射材料上表面的涂布或印刷接触，从而影响被辐射材料表面的印刷或涂布的效果。
21.进一步地，请参阅图2，所述射线屏蔽系统2还包括底盖26，所述底盖26与所述支撑装置25固定连接，并位于所述束下下屏蔽室22固定连接，且位于所述束下下屏蔽室22和所
述支撑装置25之间。
22.在本实施方式中，所述束下下屏蔽室22包括所述底盖26，所述底盖26固定连接到所述支撑架1上，采用该方式，物料通过进料口进入，通过出料口输出，能够实现物料的连续处理，有效满足工业化连续生产的需要。
23.进一步地，请参阅图3，所述支撑装置25包括支撑底座251和液压升降平台252，所述支撑底座251与所述支撑架1固定连接，并位于所述支撑架1靠近所述束下下屏蔽室22的一侧；所述液压升降平台252与所述支撑底座251固定连接，并输出端与所述底盖26固定连接，且位于所述支撑底座251靠近所述底盖26的一侧。
24.在实施方式中，所述支撑底座251用于对所述支撑架1和整个装置进行支撑，在所述支撑底座251上螺纹固定有所述液压升降平台252，所述液压升降平台252的输出端驱动所述支撑底座251和所述束下下屏蔽室22一起升降，利用所述液压升降平台252的升降便于设备维护和穿料。
25.进一步地，请参阅图3，所述射线传输系统3还包括扫描盒34，所述扫描盒34与所述上屏蔽室21固定连接，并与所述电子枪加速管31贯通，且位于所述上屏蔽室21靠近所述电子枪加速管31的一侧。
26.进一步地，请参阅图3，所述射线传输系统3还包括电子束引出窗35，所述电子束引出窗35与所述扫描盒34固定连接，并位于所述扫描盒34远离所述电子枪加速管31的一侧。
27.进一步地，请参阅图3，所述射线传输系统3还包括引出窗冷风路36，所述引出窗冷风路36与所述扫描盒34固定连接，并与所述电子束引出窗35固定连接，且位于所述扫描盒34靠近所述电子束引出窗35的一侧。
28.在实施方式中，电子束从所述扫描盒34里面通过所述电子束引出窗35垂直向下引出，在所述电子束引出窗35及电子束轰击的位置就会产生x射线，所述电子束引出窗35是指电子束引出的窗口；所述引出窗风冷系统是指对引出窗进行冷却的风冷系统；通过采用所述上屏蔽室21、所述束下上屏蔽室23、所述束下下屏蔽室22的结构对射线进行屏蔽；其中所述束下上屏蔽室23、所述束下下屏蔽室22之间只留有5
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15mm的缝隙用于被辐照材料4的进出通道；减少缝隙是为了减少x射线的泄漏。屏蔽室之间采用凹凸台阶配合是为了增加x射线的折射次数，屏蔽结构中不能有直缝；下屏蔽室内部安装有4个滚筒是为了对被辐照材料4进行传输的，被辐照材料4的进出轨迹布局为弧形是为了屏蔽x射线，采用圆弧结构以后、保证x射线的折射次数就能避免x射线不再通过进出料口泄漏。
29.以上所揭露的仅为本实用新型一种较佳实施例而已，当然不能以此来限定本实用新型之权利范围，本领域普通技术人员可以理解实现上述实施例的全部或部分流程，并依本实用新型权利要求所作的等同变化，仍属于实用新型所涵盖的范围。