专利名称：微位相差板的制造系统及制造方法
技术领域：
本发明是有关于一种微位相差板(micro-retarder)的制造系统及制造方法，且特别是有关于一种以加热处理方式制作微位相差板的制造系统及制造方法。
背景技术：
请参照图1，其绘示一种传统的微位相差板910 (micro-retarder)
的制造方法的示意图。微位相差板910为立体显示器的关键零元件。如图1所示，高分子薄膜911具有一特定高分子排列方向。偏极光穿越高分子薄膜后将产生光学相位延迟的现象。传统的微位相差板910的制造方法是以一加热源930对高分子薄膜911的特定局部区域加热后，使得高分子薄膜911的高分子排列方向回复成无方向性。已加热的局部区域910a与未加热的局部区域910b交错排列，如此即形成一种微位相差板910。
请参照图2，其绘示偏极光L9穿越微位相差板910的示意图。偏极光L9穿越微位相差板910后，可切分成两种偏极方向。当偏极光L9穿越已加热的局部区域910a，偏极光L9没有发生光学相位延迟的现象；当偏极光L9穿越未加热的局部区域910b，偏极光L9则发生光学相位延迟的现象。藉此，微位相差板910即可应用在立体显示器中，以创造出立体影像的效果。
请参照图3，其绘示传统的微位相差板910的位相延迟曲线图。图3的横轴表示位置，纵轴表示相位延迟值。传统的加热源930在对高分子薄膜911加热时，将产生加热能量分布不均匀以及加热能量扩散的情况。
请参照图15及图4，图15绘示采用震荡模式为TEMOO的激光的能量立体分布图，图4绘示采用震荡模式为TEMOO的激光的能量剖
7面分布图。尤其是采用震荡模式为TEM00的激光束作为加热源930时，其能量分布呈高斯分布曲线，其中央处的能量较高，边缘处的能量较低。因此加热能量分布不均匀的情况进一步为严重。如图3所示，在已加热的局部区域910a与未加热的局部区域910b之间，并非以笔直的陡峭直线作变化，而是以渐变的曲线作变化。也就是说，已加热的局部区域910a与未加热的局部区域910b之间的相位延迟程度无法有明显的区隔。因此传统的微位相差板910将形成散射光、影像对比不佳、甚至开口率偏低的问题。
发明内容
本发明是有关于一种微位相差板的制造系统及制造方法，其利用移动控制装置、量测装置、冷却装置、偏极调整装置及反射镜组的搭配设计，不仅使得微位相差板的己加热的局部区域与未加热的局部区域的相位延迟程度具有明显的差异，进一步增进制造程序的方便性。
根据本发明的一方面，提出一种微位相差板的制造系统。微位相差板的制造系统包括一承载装置、 一加热装置及一移动控制装置。承载装置用以承载一高分子薄膜。高分子薄膜具有一高分子排列方向。加热装置用以提供一加热源。加热源中央处的能量小于加热源边缘处的能量。移动控制装置用以控制加热源及高分子薄膜沿一第一方向相对移动，以使调整后的加热源沿第一方向对高分子薄膜的至少一局部区域加热，并改变此局部区域的高分子排列方向。
根据本发明的另一方面，提出一种微位相差板的制造方法。微位
相差板的制造方法包括以下步骤提供一高分子薄膜，具有一高分子排列方向。提供一加热源。加热源中央处的能量小于加热源边缘处的能量。沿一第一方向相对移动高分子薄膜及加热源，以使加热源沿第一方向对高分子薄膜的至少一局部区域加热，并改变此局部区域的高分子排列方向。
为让本发明的上述内容能更明显易懂，下文特举较佳实施例，并配合所附图式，进一步详细说明如下。
8
图1绘示一种传统的微位相差板的制造方法的示意图； 图2绘示偏极光穿越微位相差板的示意图； 图3绘示传统的微位相差板的位相变化曲线图； 图4绘示采用震荡模式为TEM00的激光的能量剖面分布图； 图5绘示本发明第一实施例的微位相差板的制造系统的示意图； 图6绘示采用震荡模式为TEMOl、 TEM10及TEMll的激光的沿 双峰的剖面分布图7绘示本发明第一实施例的微位相差板的制造方法的流程图； 图8绘示第一实施例的加热源沿第一方向移动的能量累积示意图； 图9绘示本发明第二实施例的微位相差板的制造系统的示意图； 图IO绘示圆锥形透镜及聚焦透镜与激光束的能量分布的示意图11绘示第二实施例的加热源H沿第一方向移动的能量累积示意
图12A 12C绘示图IO的圆锥型透镜及聚焦透镜的其它配置方式
图13绘示本发明第三实施例的微位相差板的制造系统的示意图； 图14绘示本发明第四实施例的微位相差板的制造系统的示意图； 图15绘示采用震荡模式为TEM00的激光的能量立体分布图；以
及
图16至图18分别绘示采用震荡模式为TEM01、TEM10及TEM11
的激光的能量立体分布图。
主要元件符号说明
100、 200、 300、 400:微位相差板的制造系统
110、 910:微位相差板
110a、 910a:己加热的局部区域 110b、 910b:未加热的局部区域
111、 911:高分子薄膜
120、 420:承载装置130:加热装置
150、 350、 450:移动控制装置
160、 460反射镜组
161:第一反射镜
162:第二反射镜
170:量测装置
171:分射装置
180:驱动装置
181:处理装置
190:冷却装置
19h偏极调整装置
241:圆锥型透镜
242:聚焦透镜
LO:量测线
L420:中心轴
L9:偏极光
H、 930:加热源
Ch第一方向
C2:第二方向
具体实施例方式
第一实施例
请参照图5，其绘示本发明第一实施例的微位相差板110的制造系 统100的示意图。微位相差板110的制造系统100包括一承载装置120、 一加热装置130及一移动控制装置150。
承载装置120用以承载一高分子薄膜111。在本实施例中，承载装 置120是以一承载平台为例作说明。
加热装置130提供一加热源H。加热源H例如是一激光束、 一红 外线、 一超音波、 一电子束或一中子束。在本实施例中，加热源H以-- C02激光束为例作说明。微位相差板110的制造系统100进一步包 括一反射镜组160，反射镜组160用以反射加热源H至高分子薄膜111上。
在本实施例中，加热源H中央处的能量较低，边缘处的能量较高。 以激光束为例，具有此类特性的激光束可选用震荡模式(transverse electromagnetic mode, TEM)为TEMOl、 TEM10或TEM11。请参照 图16 18及图6，图16 18分别绘示采用震荡模式为TEMOl 、TEM10 及TEM11的激光的能量立体分布图，图6绘示采用震荡模式为TEM01、 TEM10及TEM11的激光的沿双峰的剖面分布图。如图6所示，采用 震荡模式为TEMOl、 TEM10及TEM11的激光的能量分布呈逆高斯分 布曲线，其中央处的能量较低，边缘处的能量较高。
移动控制装置150用以控制加热源H及高分子薄膜111相对移动， 移动控制装置150例如是步进马达或服务器马达。移动控制装置150 的控制方式例如是控制承载装置120移动、控制加热装置130移动或 是直接控制加热源H的反射路径。在本实施例中，移动控制装置150 的控制方式是以控制承载装置120移动为例作说明。
请参照图7，其绘示本发明第一实施例的微位相差板100的制造方 法的流程图。本发明第一实施例的微位相差板100的制造方法如下
首先，在歩骤S102中，提供上述的高分子薄膜111。高分子薄膜 ill被设置于承载装置120上。
接着，在步骤S104中，以加热装置130提供加热源H，加热源H 中央处的能量小于加热源H边缘处的能量。
然后，在步骤S108中，以移动控制装置150沿第一方向C1相对 移动加热源H及高分子薄膜111 ，以使加热源H沿第一方向Cl对高分 子薄膜111的至少一局部区域加热110a，以改变此局部区域110a的高 分子排列方向。在此步骤中，移动控制装置150控制加热源H与高分 子薄膜111以一等速相对移动。在本实施例中，移动控制装置150控 制承载装置120以一等速移动。
当加热源H对某一局部区域110a完成加热处理后，移动控制装置 150进一步控制高分子薄膜111及加热源H沿一第二方向C2相对移动，以使加热源H对另一局部区域110a进行加热处理。第二方向C2实质 上垂直于第一方向Cl (即分别为图4的X轴方向及Y轴方向)。
移动控制装置150控制承载装置120沿第一方向Cl及第二方向 C2移动，即可使加热源H沿第一方向Cl及第二方向C2相对移动。
请参照图8，其绘示第一实施例的加热源H沿第一方向Cl移动的 能量累积示意图。加热源H中央处的能量较低，边缘处的能量较高。 当加热源H以等速沿第一方向Cl移动时，加热源H经过量测线L0 时，能量累积如图8右侧所示。如此一来，当加热源H对一局部区域 110a (绘示于图5)完成加热处理后，局部区域110a内各处所受到的 能量均相等。使得己加热的局部区域100a与未加热的局部区域110b (绘示于图5)的分子排列具有相当明显的差异。
另请参照图5，微位相差板110的制造系统100进一步包括一量测 装置170、 一分射装置171、 一驱动装置180及一处理装置181。分射 装置171设置于加热装置130及反射镜组160之间，分射装置171用 以将部分的加热源H转投射至量测装置170。分射装置171例如是分 光透镜等。透过上述的量测装置170及分射装置171，本实施例的微位 相差板110制造方法进一步包括下列反馈调整的步骤
首先，以量测装置170量测加热源H的一加热能量，例如是量测 激光束的温度或激光束的亮度等。在本实施例中，量测装置170在接 收部分激光束后，据以量测激光束的温度。
接着，加热装置130依据加热能量调整加热源H的一驱动能量。 举例来说，若处理装置181判断加热能量由预定电平降低至第一电平， 则控制驱动装置180增加加热装置130的驱动能量，直到加热能量回 复至预定电平；若处理单元181判断加热能量已增高至第二电平，则 控制驱动装置180降低加热装置130的驱动能量，直到加热能量回复 至预定电平。使得加热源H的加热能量随时间保持稳定。
此外，请再参照图5，微位相差板110的制造系统IOO进一步包括 一冷却装置190。冷却装置190用以冷却已加热的局部区域110a。微 位相差板110的制造方法进一步透过冷却已加热的局部区域110a的步 骤来快速降低已加热的局部区域110a的热量。使得已加热的局部区域
12110a的热量不会扩散至不欲加热的局部区域110b。因此已加热的局部 区域110a与未加热的局部区域110b的分子排列具有相当明显的差异。
此外，本实施例的微位相差板110的制造系统100进一步包括一 偏极调整装置191。偏极调整装置191例如是一偏光板。偏极调整装置 191设置于激光束传递路径上。由于高分子薄膜lll在未加热前，其分 子排列己具有一定的高分子排列方向。微位相差板110的制造方法更 依据高分子薄膜111的高分子排列方向，调整激光束的一偏极角度。 例如是调整激光束的偏极方向与高分子薄膜111的高分子排列方向之 间成平行状态、垂直状态或成一特定角度。偏极角度的调整可依据实 际操作参数(如激光束的种类或高分子薄膜的材质)来作调整。
激光束调整偏极角度后，激光束投射于高分子薄膜111时，可减 少高分子薄膜lll的热扩散的速度。因此，已加热的局部区域110a与 未加热的局部区域110b的分子排列更可维持相当明显的差异。
第二实施例
请参照图9,其绘示本发明第二实施例的微位相差板110的制造系 统200的示意图。本实施例的微位相差板110的制造系统200与制造 方法与第一实施例的微位相差板no的制造系统100与制造方法不同 之处在于微位相差板110的制造系统进一步包括一圆锥型透镜241 及一聚焦透镜242，并且加热装置130输出的激光束的震荡模式为 TEMOO，其余相同之处不再重述。
请参照图10，其绘示圆锥形透镜241及聚焦透镜242与激光束的 能量分布的示意图。圆锥型透镜241用以偏折激光束中央处的能量， 以使激光束形成中央处的能量小于边缘处的能量的加热源H。当激光 束穿越圆锥型透镜241时，激光束的能量分布由高斯分布曲线改变成 谷状分布曲线。激光束再穿越聚焦透镜242后，激光束的能量分布由 谷状分布曲线改变成逆高斯分布曲线。如此一来，本实施例采用圆锥 型透镜241及聚焦透镜242的搭配方式亦可获得中央处的能量较低且 边缘处的能量较高的加热源H。
请参照图11，其绘示第二实施例的加热源H沿第一方向Cl移动
13的能量累积示意图。加热源H中央处的能量较低，边缘处的能量较高，
俨然如同一甜甜圈状。当加热源H以等速沿第一方向Cl移动时，加 热源H经过量测线LO时，能量累积如图11右侧所示。如此一来，当 加热源H对一局部区域110a (绘示于图9)完成加热处理后，局部区 域110a内各处所受到的能量均相等。使得己加热的局部区域100a与 未加热的局部区域110b (绘示于图9)的分子排列具有相当明显的差 异。
请参照图12A 图12C，其绘示图10的圆锥型透镜241及聚焦透 镜242的其它配置方式图。虽然本实施例的圆锥型透镜241及聚焦透 镜242是以图10的配置方式为例作说明，然圆锥型透镜241及聚焦透 镜242的配置方式并不在此限，例如圆锥型透镜241及聚焦透镜242 亦可前后交换位置，或者圆锥型透镜241亦可翻转，如图12A 图12C 所示。
第三实施例
请参照图13，其绘示本发明第三实施例的微位相差板110的制造 系统300的示意图。本实施例的微位相差板110的制造系统300及制 造方法与第一实施例的微位相差板110的制造系统100及制造方法不 同之处在于移动控制装置350不控制承载装置120移动，而控制加 热源H的反射路径，其余相同之处不再重述。
如图13所示，反射镜组160包括第一反射镜161及一第二反射镜 162。第一反射镜161及第二反射镜162反射加热源H后，将加热源H 投射于高分子薄膜111上。移动控制装置350可控制第二反射镜162 沿第一方向Cl移动且控制第一反射镜161跟着第二反射镜162沿第一 方向Cl从动(即第一反射镜161随着第二反射镜162沿第一方向Cl 移动，以使第一反射镜161所反射的加热源H仍投射于第二反射镜 162)，以使加热源H投射于高分子薄膜111上的位置沿着第一方向Cl 移动。移动控制装置350更可控制第二反射镜162沿着第二方向C2移 动并控制第一反射镜161随着第二反射镜162从动(即第一反射镜161 随着第二反射镜162转动，以使第一反射镜161所反射的加热源H仍
14投射于第二反射镜162)，以使加热源H投射于高分子薄膜111上的位 置沿着第二方向C2移动。
此外，反射镜组160的控制方式并非限于此。举例来说，反射镜 组160的控制方式亦可以采取以下的方式移动控制装置350可控制 第一反射镜161沿第一方向Cl移动且控制第二反射镜162跟着第一反 射镜161沿第一方向Cl从动(即第二反射镜162随着第一反射镜161 沿第一方向Cl移动，以使第一反射镜161所反射的加热源H仍投射 于第二反射镜162)，以使加热源H投射于高分子薄膜111上的位置沿 着第一方向Cl移动。移动控制装置350更可控制第一反射镜161沿着 第二方向C2移动并控制第二反射镜162随着第一反射镜161从动(即 第二反射镜162随着第一反射镜161转动，以使第一反射镜161所反 射的加热源H仍投射于第二反射镜162)，以使加热源H投射于高分子 薄膜111上的位置沿着第二方向C2移动。
如此一来，加热装置130及承载装置120皆不须移动，仅需移动 反射镜组160即可改变加热源H投射于高分子薄膜111的位置。反射 镜组160具有质量轻及移动方便等特性，使得加热源H的移动控制变 的相当容易。 ，
第四实施例
参照图14，其绘示本发明第四实施例的微位相差板110的制造系 统400的示意图。本实施例的微位相差板110的制造系统400及制造 方法与第一实施例的微位相差板iio的制造系统100及制造方法不同 之处在于承载装置420为一空心圆桶，其余相同之处不再重述。
承载装置420具有一中心轴L420，高分子薄膜111设置于承载装 置420的内壁。反射镜组460设置于中心轴L420上，以使加热源H 经由反射镜组460反射后，投射于高分子薄膜111上。移动控制装置 450用以控制承载装置420相对中心轴L420持续转动，以使加热源H 投射于高分子薄膜111的位置沿着高分子薄膜111的表面移动。当承 载装置420相对中心轴L420转动一圈时，加热源H亦沿着一长条型 局部区域110a加热，以改变此局部区域110a的高分子排列方向。
15除了控制承载装置420相对中心轴L420持续转动以外，若改控制 反射镜组460相对中心轴L420转动，亦可以使加热源H投射于高分 子薄膜111的位置沿着高分子薄膜111的表面移动。使用者可依据实 际产品及设备的需求来选用。
此外，移动控制装置450更控制反射镜组460沿中心轴L420相对 加热装置130前后移动。当反射镜组460沿中心轴L420相对加热装置 130移动时，加热源H投射于高分子薄膜111的位置亦移至另一长条 型局部区域110a，以使加热源H对高分子薄膜lll的数个局部区域110a 加热。
本实施例藉由移动控制装置450驱动空心圆桶状的承载装置420 不停地以等速转动。在控制空心圆桶状的承载装置420转动时，不需 要刻意地减速或加速，仅须利用惯性作用不断地转动。并且反射镜组 460亦只须沿中心轴L420相对加热装置130前后移动。使得加热源H 的移动控制变的相当容易。
本发明上述实施例所揭露的微位相差板的制造系统及制造方法， 是利用移动控制装置、量测装置、冷却装置、偏极调整装置及反射镜 组的搭配设计，除了使微位相差板的已加热的局部区域与未加热的局 部区域的高分子排列方向具有明显的差异外，更具有多项优点，以下 仅列举部分优点说明如下
1. 加热源中央处的能量较低，边缘处的能量较高。当加热源以等 速沿第一方向移动时，加热源的能量累积相当地平均。如此一来，当 加热源对一局部区域完成加热处理后，局部区域内各处所受到的能量 均相等。使得已加热的局部区域与未加热的局部区域的分子排列具有 相当明显的差异。
2. 量测装置用以量测加热源的加热能量，加热装置再依据加热能 量调整加热装置的驱动能量，使得加热源的加热能量随时间保持稳定。
3. 冷却装置用以冷却已加热的局部区域，使得已加热的局部区域 的热量不会扩散至不欲加热的局部区域。因此已加热的局部区域与未 加热的局部区域的分子排列具有相当明显的差异。
164. 偏极调整装置是依据高分子薄膜的高分子排列方向来调整激光 束的偏极角度，使得激光束投射于高分子薄膜时，可减少高分子薄膜 的热扩散的速度。因此，已加热的局部区域与未加热的局部区域的分 子排列更可维持相当明显的差异。
5. 在加热装置输出的激光束的震荡模式为TEM01的情况下，透 过圆锥型透镜来偏折激光束的中央处的能量，亦可使激光束形成中央 处的能量小于边缘处的能量的加热源。
6. 移动控制装置更可控制反射镜组移动，以改变加热源的反射路 径。藉由反射镜组具有质量轻及移动方便等特性，使得加热源的移动 控制变的相当容易。
7. 此外，承载装置亦可以是一空心圆桶。藉由移动控制装置驱动 空心圆桶状的承载装置不停地以等速转动。在控制空心圆桶状的承载 装置转动时，不需要刻意地减速或加速，仅须利用惯性作用不断地转 动。并且反射镜组亦只须沿中心轴相对加热装置前后移动。使得加热 源的移动控制变的相当容易。
综上所述，虽然本发明已以较佳实施例揭露如上，然其并非用以 限定本发明。本发明所属技术领域中具有通常知识者，在不脱离本发 明的精神和范围内，当可作各种的更动与润饰。因此，本发明的保护 范围当视权利要求书所界定的范围为准。
1权利要求
1、一种微位相差板的制造系统，其特征在于，该方法包括一承载装置，用以承载一高分子薄膜，该高分子薄膜具有一高分子排列方向；一加热装置，用以提供一加热源，该加热源中央处的能量小于该加热源边缘处的能量；以及一移动控制装置，用以控制该高分子薄膜及该加热源沿一第一方向相对移动，以使调整后的该加热源沿该第一方向对该高分子薄膜的至少一局部区域加热，并改变该局部区域的该高分子排列方向。
2、 根据权利要求1所述的微位相差板的制造系统，其特征在于， 该移动控制装置进一步控制该高分子薄膜及该加热源沿一第二方向相 对移动，该第二方向垂直于该第一方向，以使调整后的该加热源对多 个局部区域加热，并使该高分子薄膜形成多个已加热的局部区域及多 个未加热的局部区域，该些已加热的局部区域及该些未加热的局部区 域皆沿该第一方向延伸且交错排列。
3、 根据权利要求1所述的微位相差板的制造系统，其特征在于， 该加热源为一激光束，该激光束的震荡模式TEM选用TEMOl、 TEM10 或TEMll。
4、 根据权利要求1所述的微位相差板的制造系统，其特征在于， 该加热源为一激光束，该微位相差板的制造系统进一步包括一圆锥型透镜，用以偏折该激光束中央处的能量，以使该激光束 中央处的能量小于边缘处的能量。
5、 根据权利要求1所述的微位相差板的制造系统，其特征在于，该加热源为一激光束、 一红外线、 一超音波、 一电子束或一中子束。
6、 根据权利要求l所述的微位相差板的制造系统，其特征在于， 该控制装置控制该高分子薄膜的移动对应于该加热源以一等速相对移 动，使均匀加热。
7、 根据权利要求1所述的微位相差板的制造系统，其特征在于， 该系统进一步包括-一量测装置，用以量测该加热源的一加热能量，该加热装置依据 该加热能量调整该加热装置的一驱动能量，以使该加热源的该加热能 量随时间保持稳定。
8、 根据权利要求1所述的微位相差板的制造系统，其特征在于， 该系统进一步包括一冷却装置，用以冷却已加热的该局部区域。
9、 根据权利要求1所述的微位相差板的制造系统，其特征在于， 该加热源为一激光束，该微位相差板的制造系统进一步包括一偏极调整装置，依据该高分子薄膜的该高分子排列方向，调整 该激光束的一偏极角度。
10、 根据权利要求1所述的微位相差板的制造系统，其特征在于， 该承载装置为一平台，该移动控制装置用以控制该承载装置沿该第一 方向及一第二方向移动，该第二方向垂直于该第一方向。
11、 根据权利要求l所述的微位相差板的制造系统，其特征在于， 该承载装置为一平台，该微位相差板的制造系统进一步包括一反射镜组，用以反射该加热源于该高分子薄膜上，该移动控制 装置用以控制该反射镜组所反射的该加热源沿该第一方向及一第二方 向移动，该第二方向垂直于该第一方向。
12、 根据权利要求11所述的微位相差板的制造系统，其特征在于， 该反射镜组包括一第一反射镜；及一第二反射镜，该加热源依序经由第一反射镜及第二反射镜反射 至该高分子薄膜上；其中，该移动控制装置控制该第二反射镜沿该第一方向移动，并 控制该第一反射镜沿该第一方向移动，以使该第一反射镜所反射的该 加热源投射于该第二反射镜，并使该第二反射镜所反射的该加热源沿该第一方向移动；该移动控制装置控制该第二反射镜沿该第二方向移动，并控制该 第一反射镜随着该第二反射镜转动，以使该第一反射镜所反射的该加 热源投射于该第二反射镜，并使该第二反射镜所反射的该加热源沿该第二方向移动。
13、 根据权利要求11所述的微位相差板的制造系统，其特征在于， 该反射镜组包括一第一反射镜；及一第二反射镜，该加热源依序经由第一反射镜及第二反射镜反射 至该高分子薄膜上；其中，该移动控制装置控制该第一反射镜沿该第一方向移动，并 控制该第二反射镜沿该第一方向移动，以使该第一反射镜所反射的该 加热源投射于该第二反射镜，并使该第二反射镜所反射的该加热源沿 该第一方向移动；该移动控制装置控制该第一反射镜沿该第二方向移动，并控制该 第二反射镜随着该第一反射镜转动，以使该第一反射镜所反射的该加 热源投射于该第二反射镜，并使该第二反射镜所反射的该加热源沿该 第二方向移动。
14、 根据权利要求1所述的微位相差板的制造系统，其特征在于， 该承载装置包括一空心圆桶，该承载装置具有一中心轴，该高分子薄 膜设置于该承载装置的内壁，该微位相差板的制造系统进一步包括一反射镜组，设置于该中心轴上，该移动控制装置用以控制该承 载装置相对该中心轴转动，并控制该反射镜组沿该中心轴移动。
15、 根据权利要求1所述的微位相差板的制造系统，其特征在于， 该承载装置包括一空心圆桶，该承载装置具有一中心轴，该高分子薄膜设置于该承载装置的内壁，该微位相差板的制造系统进一步包括一反射镜组，设置于该中心轴上，该移动控制装置用以控制该反 射镜组相对该中心轴转动，并控制该反射镜组沿该中心轴移动。
16、 一种微位相差板的制造方法，其特征在于，该方法包括提供一高分子薄膜，具有一高分子排列方向；提供一加热源，该加热源中央处的能量小于该加热源边缘处的能量；以及沿一第一方向相对移动该高分子薄膜及该加热源，以使该加热源 沿该第一方向对该高分子薄膜的至少一局部区域加热，并改变该局部区域的该高分子排列方向。
17、 根据权利要求16所述的微位相差板的制造方法，其特征在于，该方法进一步包括沿一第二方向相对移动该高分子薄膜及该加热源，该第二方向垂 直于该第一方向，以使该加热源对多个局部区域加热，并使该高分子 薄膜形成多个己加热的局部区域及多个未加热的局部区域，该些已加 热的局部区域及该些未加热的局部区域皆沿该第一方向延伸且交错排 列。
18、 根据权利要求16所述的微位相差板的制造方法，其特征在于， 该加热源为一激光束，该激光束的震荡模式选用TEMOl、 TEM10或 TEMll，以使该激光束形成中央处的能量小于边缘处的能量。
19、 根据权利要求16所述的微位相差板的制造方法，其特征在于， 该加热源为一激光束，调整该加热源的该步骤是以一圆锥型透镜偏折 该激光束中央处的能量，以使该激光束中央处的能量小于边缘处的能
20、 根据权利要求16所述的微位相差板的制造方法，其特征在于， 该加热源为一激光束、 一红外线、 一超音波、 一电子束或一中子束。
21、 根据权利要求16所述的微位相差板的制造方法，其特征在于， 在沿该第一方向相对移动的该步骤中，该高分子薄膜及该加热源以一 相对移动，使均匀加热。
22、 根据权利要求16所述的微位相差板的制造方法，其特征在于， 该方法进一步包括量测该加热源的一加热能量；以及依据该加热源的该加热能量，调整该加热装置的一驱动能量，以 使该加热源的该加热能量随时间保持稳定。
23、 根据权利要求16所述的微位相差板的制造方法，其特征在于， 该方法进一步包括冷却己加热的该局部区域。
24、 根据权利要求16所述的微位相差板的制造方法，其特征在于， 该加热源为一激光束，该微位相差板的制造方法进一步包括依据该高分子薄膜的该高分子排列方向，调整该激光束的一偏极 角度。
25、 一种微位相差板的制造系统，其特征在于，该系统包括 一承载装置，用以承载一高分子薄膜，该高分子薄膜具有一高分子排列方向；以及一加热装置，用以提供一激光束；一偏极调整装置，依据该高分子薄膜的该高分子排列方向，调整 该激光束的一偏极角度；以及一移动控制装置，用以控制该承载装置及该加热装置沿一第一方 向相对移动，以使调整后的该加热源沿该第一方向对该高分子薄膜的 至少一局部区域加热，并改变该局部区域的该高分子排列方向。
26、 一种微位相差板的制造方法，其特征在于，该方法包括 提供一高分子薄膜，具有一高分子排列方向； 提供一激光束；依据该高分子薄膜的该高分子排列方向，调整该激光束的一偏极 角度；以及沿一第一方向相对移动该高分子薄膜及该激光束，以使该激光束 沿该第一方向对该高分子薄膜的至少一局部区域加热，并改变该局部 区域的该高分子排列方向。
全文摘要
本发明公开了一种微位相差板的制造系统及制造方法。微位相差板的制造系统包括一承载装置、一加热装置及一移动控制装置。承载装置用以承载一高分子薄膜。高分子薄膜具有一高分子排列方向。加热装置用以提供一加热源，加热源中央处的能量小于加热源边缘处的能量。移动控制装置用以控制加热源及高分子薄膜沿一第一方向相对移动，以使调整后的加热源沿第一方向对高分子薄膜的至少一局部区域加热，并改变此局部区域的高分子排列方向。
文档编号H04N13/00GK101498804SQ200810008789
公开日2009年8月5日 申请日期2008年1月29日 优先权日2008年1月29日
发明者吕春福, 蔡朝旭, 黄国忠 申请人:财团法人工业技术研究院