一种盖板结构及移动终端的制作方法

技术特征：

1.一种盖板结构，其特征在于，包括：

透明盖板；

位于所述透明盖板表面的预设区域的镀膜结构，所述镀膜结构包括多个镀膜单元，所述多个镀膜单元中沿第一方向排布的各所述镀膜单元的面积逐渐增大；

位于所述透明盖板背离所述镀膜结构一侧的油墨层，所述油墨层的颜色与所述镀膜结构的颜色不同。

2.根据权利要求1所述的盖板结构，其特征在于，所述多个镀膜单元中沿第二方向排布的各镀膜单元的面积相同，其中，所述第二方向与所述第一方向的夹角位于0-90°范围内，包括右端点值。

3.根据权利要求1所述的盖板结构，其特征在于，所述镀膜单元包括至少两个层叠的叠层单元，所述叠层单元包括层叠的钛氧化物层和硅化物层。

4.根据权利要求3所述的盖板结构，其特征在于，所述钛氧化物为氧化钛，所述硅化物为氧化硅。

5.根据权利要求4所述的盖板结构，其特征在于，所述镀膜单元的厚度取值范围为300nm-800nm，包括端点值。

6.根据权利要求5所述的盖板结构，其特征在于，所述至少两个层叠的叠层单元包括层叠的第一叠层单元、第二叠层单元和第三叠层单元。

7.根据权利要求6所述的盖板结构，其特征在于，所述叠层单元包括层叠的氧化钛层和氧化硅层，所述氧化硅层位于所述氧化钛层背离所述透明盖板的一侧；其中，

所述第一叠层单元中氧化钛层的厚度取值范围为10nm-30nm，包括端点值；氧化硅层的厚度取值范围为30nm-70nm，包括端点值；

所述第二叠层单元中氧化钛层的厚度取值范围为50nm-100nm，包括端点值；氧化硅层的厚度取值范围为10nm-50nm，包括端点值；

所述第三叠层单元中氧化钛层的厚度取值范围为30nm-100nm，包括端点值；氧化硅层的厚度取值范围为30nm-100nm，包括端点值。

8.根据权利要求1-7任一项所述的盖板结构，其特征在于，所述多个镀膜单元的形状相同。

9.根据权利要求8所述的盖板结构，其特征在于，所述镀膜单元的形状为圆形。

10.根据权利要求9所述的盖板结构，其特征在于，所述多个镀膜单元中，任意相邻两个所述镀膜单元在所述透明盖板上的投影的中心之间的距离a均相等，其中，a的取值范围满足：0.01mm<a<3mm。

11.根据权利要求10所述的盖板结构，其特征在于，所述镀膜单元的半径R满足：

10μm≤R≤200μm。

12.根据权利要求11所述的盖板结构，其特征在于，所述油墨层的颜色为黑色，所述油墨层的厚度取值范围为3μm-30μm，包括端点值。

13.一种移动终端，其特征在于，包括权利要求1-12任一项所述的盖板结构。