一种微波排气膜及排气袋的制作方法

文档序号:11579008阅读:515来源:国知局

本实用新型涉及软包装技术领域,特别涉及一种可用于微波炉的包装膜及由该包装膜制成的包装袋。



背景技术:

随着现代生活水平的提高,微波炉越来越普及,几乎每家每户都有微波炉,现在普通的微波炉袋子没有排气口,经过加温,袋子里的气体经膨胀后会炸开袋子,容易烫伤使用者,非常不安全。

现在方法中有采用先将微波炉袋子的复合膜完全割破,再贴上不干胶,使其在微波过程中冲破。这样的方法容易使袋体中的内容物渗漏,对内容物阻隔性不好,而且生产加工效率不高,成品率不高,还不环保。



技术实现要素:

本实用新型的目的在于提供一种微波排气膜及排气袋,其可避免微波排气口直接炸裂开,产生较大的爆破声,且改善使用前阻隔性能差的缺陷。

为了达成上述目的,本实用新型的解决方案是:

一种微波排气膜,微波排气膜包括有外层和内层,微波排气膜中通过激光形成至少一刻痕线,刻痕线中部形成至少一转角,其中,刻痕线在外层中烧穿,在内层中仅形成一破坏深度。

进一步,内层中的经激光形成的破坏深度为5-10微米。

进一步,刻痕线为W形、S形、V形、U形或波浪形。

进一步,外层材料为双向拉伸聚酯薄膜、双向拉伸聚丙烯薄膜或双向拉伸聚酰胺薄膜,内层材料为聚乙烯薄膜或流延聚丙烯薄膜。

进一步,由上述微波排气膜制成的微波排气袋,微波排气袋上设有至少一刻痕线。

采用上述结构后,本实用新型通过在微波排气膜或微波排气袋上设有至少一刻痕线,刻痕线通过激光处理,在微波排气膜外层中形成具有转角的非直线状刻痕,刻痕线中的转角处形成应力集中点,更容易破坏内层材料,刻痕线会在转角处的应力集中处破坏,分散了爆破力,避免了直线型的刻痕线爆破后直接炸裂开,产生较大的爆破声。且刻痕线因未完全破坏内层材料,在使用前不会渗漏,有较好的阻水性能。

附图说明

图1为本实用新型第一实施例的结构示意图;

图2为本实用新型第一实施例的结构示意图;

图3为本实用新型第一实施例的结构示意图。

具体实施方式

为了进一步解释本实用新型的技术方案,下面通过具体实施例来对本实用新型进行详细阐述。

本实用新型的微波排气膜为复合层结构,复合层中包括有外层和内层,外层材料为PET、BOPP或NY等,内层为热封层,内层材料为PE或CPP。复合层由外至内复合而成,可以是如PET/PE(外层PET,内层PE)的组合,也可以是NY/CPP(外层NY,内层CPP)等进行组合形成复合层。其中,PET是双向拉伸聚酯薄膜、BOPP是双向拉伸聚丙烯薄膜、NY是双向拉伸聚酰胺薄膜、PE是聚乙烯薄膜、CPP是流延聚丙烯薄膜。

为使微波排气膜在微波使用过程中更容易涨破内层且不会产生较大爆破声,从而达到微波排气功能,本实用新型中,在微波排气膜中通过激光形成至少一刻痕线,刻痕线为非直线型,且刻痕线中部形成至少一转角,刻痕线可以是W形、S形、V形等(如图1至图3所示)。在复合膜中可采用CO2激光或UV激光的方式,采用CO2激光或UV激光将外层全部破坏形成刻痕线,令刻痕线在外层中烧穿,而控制内层仅烧穿破坏部分,在内层中仅形成一破坏深度,从而形成阻隔,并能增进爆破,可控制内层只破坏5-10微米,即内层中经激光形成的破坏深度为5-10微米。因复合膜是透明的,激光能烧穿外层及内层,通过激光功率控制,控制复合膜在外层烧穿,而内层烧的深度5-10微米。

如图1所示,本实用新型的第一实施例,图中所示为采用上述微波排气膜制成的微波排气袋1,在微波排气袋1上设有至少一刻痕线2,本实施例中的刻痕线2为W形。刻痕线2通过激光处理,在外层中形成具有弯折转角的非直线状刻痕,W形的刻痕线2中的转角处形成应力集中点,更容易破坏微波排气袋的内层材料。当微波排气膜在微波使用过程中,可更容易涨破内层,且内层材料破坏时,因为刻痕线会在转角处的应力集中处破坏,分散了爆破力,避免了直线型的刻痕线爆破后直接炸裂开,且会产生较大的爆破声,刻痕线2在破坏后,可达到微波排气功能。而微波排气膜或微波排气袋没有放入微波使用时,且刻痕线2因未完全破坏内层材料,在使用前不会渗漏,有较好的阻水性能。

如图2、图3所示为本实用新型的第二实施例和第三实施例,其刻痕线2分别为S形、V形,当然,刻痕线也可为U形或是波浪形等,在刻痕线中部形成有弯折或弧形转角等。

本实用新型通过在微波排气膜或微波排气袋上设有至少一刻痕线,刻痕线通过激光处理,在微波排气膜外层中形成具有转角的非直线状刻痕,刻痕线中的转角处形成应力集中点,更容易破坏内层材料,刻痕线会在转角处的应力集中处破坏,分散了爆破力,避免了直线型的刻痕线爆破后直接炸裂开,且会产生较大的爆破声。且刻痕线因未完全破坏内层材料,在使用前不会渗漏,有较好的阻水性能。

上述实施例和图式并非限定本实用新型的产品形态和式样,任何所属技术领域的普通技术人员对其所做的适当变化或修饰,皆应视为不脱离本实用新型的专利范畴。

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