技术总结
本实用新型属于光电成像监测技术领域，具体涉及一种强电离辐射环境下光电成像监测用辐射防护系统。该辐射防护系统包括成像反射模块和辐射屏蔽模块；成像反射模块位于辐射源和光电成像监测系统之间，用于将辐射源的图像信息经光路反射后进入光电成像监测系统；辐射屏蔽模块围设在光电成像监测系统外部，用于屏蔽辐射源发出的射线。本实用新型通过采用镜面反射的光路设计，使光电成像监测系统镜头对辐射源的待监测区域进行镜面成像，既能监测指定区域，同时又能避免强电离辐射对光电成像监测系统光敏核心元器件的直接辐照，克服了强电离辐射环境下光电成像监测系统辐射防护的难题，显著提高了光电成像监测系统在强电离辐射环境中的使用寿命。
技术研发人员：王祖军;陈伟;薛院院;刘敏波;刘静;何宝平;姚志斌;郭红霞;金军山;马武英;盛江坤;董观涛
受保护的技术使用者：西北核技术研究所
文档号码：201720473371
技术研发日：2017.04.28
技术公布日：2018.01.19