石墨片压延用的透明离型膜的制作方法

文档序号:14170731阅读:437来源:国知局

本实用新型涉及离型膜技术领域,特别涉及一种石墨片压延用的透明离型膜。



背景技术:

导热石墨片是一种全新的导热散热材料,沿两个方均匀导热,屏蔽热源与组件的同时大大改进消费电子产品的性能,能平滑贴附在任何平面和弯曲的表面,并能依客户的需求作任何形式的切割。颜色一般是黑色,材质是天然石墨经过精致加工,导热系数在水平方向高达1500W/M·K。

随着手机和汽车产业的高速技术更新替换,手机导热材料:人工合成石墨导热片逐步代替传统的铝和铁等导热材料,随着石墨片的需求增大,其加工业也迅速的发展,人工石墨在加工成型成很薄的产品时,需要不同要求和离型力的PET离型膜来帮助成型和模切,而一般的离型膜在与石墨片贴合和撕切时,往往会因为硅油转移和氧化问题导致离型不稳定等问题而容易分离,残留在石墨片。故在石墨片压延过程,如何保持重离型膜使用时保持良好的性能,不氧化,不掉硅,让石墨片在成型和模切顺利进行,是薄膜行业苛待解决的难题。



技术实现要素:

针对上述不足,本实用新型目的在于提供一种结构设计巧妙、合理,能方便石墨片顺利成型和模切,易于加工的石墨片压延用的透明离型膜。

本实用新型为实现上述目的,所提供的技术方案是:一种石墨片压延用的透明离型膜,其包括磨砂保护层、胶黏剂层、PET薄膜、电晕处理层和硅油离型涂层,所述磨砂保护层、胶黏剂层、PET薄膜、电晕处理层和硅油离型涂层按照从上至下的顺序依次贴合。

作为本实用新型的一种改进,所述磨砂保护层为厚度为25~38微米的PE薄膜。

作为本实用新型的一种改进,所述PET薄膜为厚度为25~75微米、透光率在90%以上、雾度为3-5%的聚酯薄膜。

作为本实用新型的一种改进,所述电晕处理层的厚度为2~5微米。

作为本实用新型的一种改进,所述硅油离型涂层的厚度为2~6微米。

本实用新型的有益效果为:本实用新型结构设计巧妙、合理,在PET薄膜的表面覆盖有一层磨砂保护层,以胶黏剂层固定住,起到保护离型膜的作用。对PET薄膜的另一面进行电晕处理形成电晕处理层,由光滑平面变为粗糙面,有效增强粘附力,防止涂层脱落,提高复合材料的稳定性,然后再涂布一层硅油涂层,离型力达到250g~350g之间,离型力比普通的离型膜要大,涂布均匀性要高,成型加工出来的产品容易分离,不残留,表面光滑,良率高,合适于石墨粉压延加工后变成薄至0.1mm厚的片状的托底离型膜。

附图说明

图1是本实用新型的截面结构示意图。

具体实施方式

实施例:参见图1,本实用新型实施例提供一种石墨片压延用的透明离型膜,其包括磨砂保护层1、胶黏剂层2、PET薄膜3、电晕处理层4和硅油离型涂层5,所述磨砂保护层1、胶黏剂层2、PET薄膜3、电晕处理层4和硅油离型涂层5按照从上至下的顺序依次贴合。较佳的,还可以在胶黏剂层2和PET薄膜3之间设有镀铝层,能有效提升屏蔽性能,防止静电的干扰,提升防静电效果。

较佳的,所述磨砂保护层1为厚度为25~38微米的PE薄膜。所述PET薄膜3为厚度为25~75微米、透光率在90%以上、雾度为3-5%的聚酯薄膜。所述电晕处理层4的厚度为2~5微米。所述硅油离型涂层5的厚度为2~6微米。

制备时,具体步骤如下:

(1)通过放卷端驱动PET膜材经过除静电机电设备,利用橡胶除尘辊和清除基材上灰尘与异物;

(2)使用微凹涂布机器将胶黏剂层2涂布在PET薄膜3上,设置涂布厚度为3~6微米;

(3)再通过贴合机将PE磨砂保护层1与涂有胶黏剂层2的PET薄膜3贴合;

(4) 将PET薄膜3的另一面经过电晕处理,形成电晕加工处理层,其电晕加工处理层厚度为2~5μm,宽度为500~1300mm;

(5)在PET基材按照步骤(1)和(4)处理过的电晕面上,通过精密微凹涂布4~6μm厚度的硅油离型涂层5,进行预固化;再在驱动导辊的作用下悬空经过烘箱烘干并收卷。

使用时,由于在PET薄膜3的表面覆盖有一层磨砂保护层1,以胶黏剂层2固定住,起到保护离型膜的作用。对PET薄膜3的另一面进行电晕处理形成电晕处理层4,由光滑平面变为粗糙面,有效增强粘附力,防止涂层脱落,提高复合材料的稳定性,然后再涂布一层硅油涂层,离型力达到250g~350g之间,离型力比普通的离型膜要大,涂布均匀性要高,成型加工出来的产品容易分离,不残留,表面光滑,良率高,合适于石墨粉压延加工后变成薄至0.1mm厚的片状的托底离型膜。

根据上述说明书的揭示和教导,本实用新型所属领域的技术人员还可以对上述实施方式进行变更和修改。因此,本实用新型并不局限于上面揭示和描述的具体实施方式,对本实用新型的一些修改和变更也应当落入本实用新型的权利要求的保护范围内。此外,尽管本说明书中使用了一些特定的术语,但这些术语只是为了方便说明,并不对本实用新型构成任何限制,采用与其相同或相似的其它离型膜,均在本实用新型保护范围内。

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