一种双频率光源分散头的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及光学理疗装置领域，尤其涉及一种双频率光源分散头。
【背景技术】
[0002]激光医学大量临床实验得出，不同波长的激光作用于人体会带来不同的治疗效果，综合不同波长的激光运用到临床领域，是激光医学发展的方向之一，也是提高激光治疗水平的途径。在激光理疗过程中，通常需要得到均匀的且发散的理疗装置，比如小儿肺炎、小孩扁桃体炎、小孩腹泻、新生儿肺炎等。
【实用新型内容】
[0003]本实用新型通过两次散光将入口光源进行分散，有利于提高光源的分散度。
[0004]为实现以上技术目的，本实用新型采用的技术方案一种双频率光源分散头，其特征在于它包括光源通道(I)、安装座(2)、散光壳体(3)、第一散光片(4)、第二散光片(5)、竖直汇聚壳(6);所述的光源通道(I)包括第一光源(11)、第二光源(12);所述的光源通道(I)设置在散光壳体(3)顶部正中央；第一散光片(4)与第二散光片(5)安装在散光壳体(3)内部，第一散光片(4)与第二散光片(5)保持平行；散光壳体(3)底部设置有竖直汇聚壳(6)。
[0005]所述的安装座(2)设置在散光壳体(3)顶部或侧面。
[0006]本实用新型的有益效果:本实用新型结构简单，制造成本较低，便于推广使用。通过本实用新型能够将原有集中的光束进行发散处理，能够得到一个扩大的光圈，使得治疗区域的扩大。同时光束的发散能够有利于降低局部能量，减小光束对皮肤的伤害。不同频率的光束能够治疗不同的疾病。
【附图说明】
[0007]图1为本实用新型的结构原理图。
【具体实施方式】
[0008]结合图1对本实用新型做进一步描述:包括光源通道1、安装座2、散光壳体3、第一散光片4、第二散光片5、竖直汇聚壳6 ;所述的光源通道I包括第一光源11、第二光源12 ；所述的光源通道I设置在散光壳体3顶部正中央；第一散光片4与第二散光片5安装在散光壳体3内部，第一散光片4与第二散光片5保持平行；散光壳体3底部设置有竖直汇聚壳6 ;所述的安装座2设置在散光壳体3顶部或侧面。
[0009]光源通过光源通道I进入散光壳体3，光源首先接触第一散光片4，第一散光片4将光源进行一次发散。经过发散后的光束经过第二散光片5，将光束进行第二次发散。竖直汇聚壳6的作用是使第二散光片5出来的光束汇聚到出口范围。第一光源11、第二光源12能够发出三种不同频率的光束，用于针对不同的疾病的治疗。
[0010]需要说明的是，在本文中，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括哪些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。
[0011]本文中应用了具体个例对本实用新型的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本实用新型的方法及其核心思想。以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，应当指出，由于文字表达的有限性，而客观上存在无限的具体结构，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理的前提下，还可以做出若干改进、润饰或变化，也可以将上述技术特征以适当的方式进行组合；这些改进润饰、变化或组合，或未经改进将实用新型的构思和技术方案直接应用于其它场合的，均应视为本实用新型的保护范围。
【主权项】
1.一种双频率光源分散头，其特征在于它包括光源通道(I)、安装座(2)、散光壳体(3)、第一散光片(4)、第二散光片(5)、竖直汇聚壳(6);所述的光源通道(I)包括第一光源(11)、第二光源(12);所述的光源通道(I)设置在散光壳体(3)顶部正中央；第一散光片(4)与第二散光片(5)安装在散光壳体(3)内部，第一散光片(4)与第二散光片(5)保持平行；散光壳体(3)底部设置有竖直汇聚壳(6)。
2.根据权利要求1所述的一种双频率光源分散头，其特征在于安装座(2)设置在散光壳体(3)顶部或侧面。
【专利摘要】本实用新型公开了一种双频率光源分散头，其特征在于它包括光源通道（1）、安装座（2）、散光壳体（3）、第一散光片（4）、第二散光片（5）、竖直汇聚壳（6）；所述的光源通道（1）包括第一光源（11）、第二光源（12）；所述的光源通道（1）设置在散光壳体（3）顶部正中央；第一散光片（4）与第二散光片（5）安装在散光壳体（3）内部，第一散光片（4）与第二散光片（5）保持平行；散光壳体（3）底部设置有竖直汇聚壳（6）。本实用新型通过两次散光将入口光源进行分散，有利于提高光源的分散度。
【IPC分类】A61N5-067
【公开号】CN204293704
【申请号】CN201420748414
【发明人】邓雪晴
【申请人】邓雪晴
【公开日】2015年4月29日
【申请日】2014年12月4日