超微粒子分散研磨方法及其制品的制作方法

文档序号:202276阅读:682来源:国知局
专利名称:超微粒子分散研磨方法及其制品的制作方法
技术领域
本发明是关于一种研磨方法,尤其是指一种超微粒子分散研磨方法。本发明还涉及上述超微粒子分散研磨方法的制品色膏。
背景技术
一般纳米(nm)等级粒子分散所使用的超微细研磨介质有两类,一为材质硬度较高的金属碳化物,另一为硬度较低的高分子材质研磨介质。当使用硬度较高的研磨介质进行分散时,例如使用密度较高的钇锆或metalcarbide材质的微细研磨介质,则常导致所欲分散的待分散物为研磨槽壁的材料所污染,为避免研磨介质硬度过高导致研磨槽磨损、分散液产品颜色偏差、重金属或化学成份污染、或是酸硷度超出预期设定的范围等,通常必须选用相对较硬材质的研磨槽及分散元件,但这样的设备材质昂贵,将使得设备成本大为提高。
而若使用高分子研磨介质,则可制作研磨槽或叶片的材料范围将较广且较为便宜,但因高分子硬度较低,因此所能分散的粉体仅能局限于软且易分散或解聚的有机粉体上,且因其密度低导致碰撞力量小、会有飘浮现象发生,且分散效率差。此外,其表面自由能较低且气泡亲和性大,易有气泡产生,此会使研磨系统成为气泡/研磨介质/分散浆料三种组成物,出现局部静止、无法搅动混合的状态。亦即使用高分子型微细研磨介质进行纳米等级(<30nm)的分散产品(US),因为其使用的研磨介质的密度较低,所以分散效率较差。

发明内容
本发明的主要目的是在提供一种超微粒子分散研磨方法,以便能减少设备成本,避免研磨介质污染与磨损,并达到高效率粒子微细化的功效。
本发明的另一目的是在提供一种超微粒子分散研磨方法,以便能使颜料粉体达纳米级(小于30nm)的分散效果,以提高其色彩饱合度及展色性。
本发明的另一目的是在提供一种色膏,是利用上述超微粒子分散研磨方法制作的制品,是利用高微细化颜料粒子均匀分散,提高颜色的饱和度。
为达成上述的目的,本发明提供的一种超微粒子分散研磨方法,主要包括以下步骤(a)将一基质、分散剂、与分散媒质混合得一混合物;(b)提供一经预处理的研磨介质,并将该研磨介质加入该混合物中;其中该研磨介质为平均粒径小于100μm的玻璃球;(c)研磨该混合物;以及(d)将该研磨介质自该分散液中分离。
所述的超微粒子分散研磨方法,其中该基质为难溶性染料、颜料、具有结晶性的有机物、高分子或药物粉体。
所述的超微粒子分散研磨方法,其中该分散剂是选自一由阴离子型、阳离子型、非离子型和高分子型界面活性剂及其混合物所组成的群组。
所述的超微粒子分散研磨方法,其中该分散媒质是选自一由水、盐水溶液、甲醇、乙醇、丁醇、己烷、乙二醇及其混合物所组成的群组。
所述的超微粒子分散研磨方法,其中该经预处理的研磨介质是以水溢流方式筛选。
所述的超微粒子分散研磨方法,其中该研磨介质的平均粒径是介于50至100μm。
所述的超微粒子分散研磨方法,其中该研磨介质的密度是介于1至3g/cm3之间。
所述的超微粒子分散研磨方法,其中步骤(C)研磨该混合物是研磨至该基质的平均粒径小于100nm。
所述的超微粒子分散研磨方法,其中该研磨介质为圆球状。
所述的超微粒子分散研磨方法,其中研磨是以一研磨机完成,该研磨机并包含一不锈钢混合槽及一搅拌叶片。
所述的超微粒子分散研磨方法,其中该研磨机为空气式研磨机(airiermill),滚轮研磨机(roller mill),球磨机(ball mill),attritor mill,震动式研磨机(vibratory mill),行星式研磨机(planetary mill),砂磨(sandmill)机或珠磨机(bead mill)中的一种。
所述的超微粒子分散研磨方法,其操作型式为批次式、连续式、或半批次式。
所述的超微粒子分散研磨方法,其是用于制造色膏用颜料、涂料用颜料、聚合物用颜料或油墨用颜料。
为实现上述目的,本发明提供的利用上述超微粒子分散研磨方法制作的一种色膏,是主要包含0.1至70重量份的颜料,其中该颜料的平均粒径小于100nm;0.1至30重量份的分散剂;以及40至90重量份的水;其中该颜料是与分散剂及分散媒质混合;经平均粒径小于100μm的玻璃球研磨至平均粒径小于100nm后;自该分散液中分离而得。
所述的色膏,其中该分散剂是选自一由阴离子型、阳离子型、非离子型和高分子型界面活性剂及其混合物所组成的群组。
本发明的优点在于,以便能减少设备成本,避免研磨介质污染与磨损,并达到高效率粒子微细化的功效,提高色膏颜色的饱和度。


图1是本发明实施例3颜料分散粒径经时变化结果。
具体实施例方式
本发明超微粒子分散研磨方法主要利用小于100微米的玻璃研磨介质,以湿式研磨方式,将欲分散的粉体、有助于分散的分散剂、及提供分散粉体与分散剂混合的分散媒混合成一混合物后,再加入研磨介质于前述混合物中,再以一搅拌机械装置,如研磨机,提供一带动能量,使研磨介质产生碰撞力量,并带动上述混合物,使其流体与固体或固体与固体间产生剪切力量与碰撞力量,因而使存在于研磨介质间的分散粉体微细化。研磨机包含一带动研磨介质的元件或提供其运动的能量,以及一盛装该欲分散混合物与研磨介质的容器。以下针对本发明的研磨介质、分散程序、分散媒、分散剂种类、欲分散粉体种类及分散型式等进行说明。
研磨介质材质为无机的玻璃材质,密度为1~3g/cm3,圆球状,不规则形状成份含量低,若含量过高则需将去除,如以重力、过滤、筛析等方式进行去除与分离。另外,本研磨介质亦可并用粒子较大、密度较低的单颗研磨介质,且与本发明使用的研磨介质具有同等重量的相异研磨介质,此并用的研磨介质多半为高分子型研磨介质,它们可为交联聚苯乙烯(cross linked polystyrenes),聚苯乙烯共聚物(styrene copolymers),聚碳酸酯(polycarbonates),聚亚醛(polyacetals),聚氯乙烯(vinylchloride polymers)及其聚氯乙烯共聚物(polyurethanes),聚胺polyamides),带氟聚合物(fluoropolymers),高密度聚乙烯(highdensity polyethylenes),聚丙烯(polypropylenes)),纤维素醚酯cellulose ethers and esters),压克力聚合物(polyacrylates)及含矽聚合物(silicone cantaining polymers)等。
研磨介质的大小与分散产品的最终细度比例约有1/1000的经验关系。研磨介质为100微米可分散获得<100nm的分散细度产品。研磨介质为50微米,可获得小于50nm的分散细度产品。研磨介质粒径愈小所得产品的细度将愈小。但欲分散的粉体的初始分散大小不可过大,与研磨介质大小接近者不宜。若为软质的聚集体,可分散的适当大小为小于研磨介质大小的1/3,最好是小于研磨介质的1/10。若是硬质或为无机粉体物质,则研磨介质必须大于此种粉体聚集体大小的十倍较为适当。
研磨分散程序可以是干式(如dry roller mill)或是湿式分散(wet-milling),最好是使用湿式分散方式来进行。用来作为分散媒介的液体,称为分散媒,即液体成份,它主要是提供分散剂(界面活性剂、或分散助剂)及分散粉体存在空间的媒介液体。它们可以是水、盐水溶液、甲醇、乙醇、丁醇、己烷、glycol及其它有机溶剂或其混合物等。而分散剂可选自一般界面活性剂的专书中所列的物质,其添加量约为分散粉体成份重量的0.1~90%。
分散剂使用的种类与欲分散的粉体的化学结构与特性有关。它通常在结构上具有表面吸附的特性,一端对于欲分散的粉体表面有很好的亲和性,另一端则对分散媒有很好的媒合特性,并且可有效伸展,产生立体障碍,或是在此亲媒端具有阴电性或阳电性产生静电斥力作用,使已分散的粉体粒子不再接触、聚集而安定下来。通常分散剂的亲粉体的基团最好是与粉体的化学结构或物理特性相近者,如此才会有好的亲和、吸附效果,它们通常为长碳链的基团或是具有饱合或不饱合的环状化合物,单独结构或两者兼具的化合物或其衍生物等。而亲媒基则视分散媒的特性而有所不同,若为极性较高的分散媒,如水或水性溶液则选用以极性较高的基团来作为此基团的材料,具有阴、阳电性的离子基团及能产生氢键的结构基团,如SO3Na,COONa,(CH2CH2O)n,SO4Na,OH。在一般界面活性剂专书与论文中提到的各类型界面活性剂如阴离子型、阳离子型及非离子型或是高分子型的界面活性剂,或者是前述四种型式的界面活性剂的任意组合的混合物符合前述分散要件者均适用的,较佳为聚丙烯酸Polyacrylate,磺化芳香基醛缩合物(Formaldehyde condensates of sulfonated aromaticcompounds),聚乙氧基轻基或芳基(Conventional alkyl or alkrylpolyethoxylates),聚胺基甲醛(Polyurethane type),核-壳型聚合物(Core-shell Polymer),聚酯(Polyester),聚氨基酸(Polyaminoacid dispersant),团块共聚物(Block copolymer),光交联型聚合物(Photo-crosslinkable polymeric dispersant),星形聚合物(Starpolymer),聚胺/聚脂肪酸缩合物(Polyamine/fatty acid condensationpolymeric dispersant),改质聚丙烯胺(Modified acrylamide oligomerdispersant),更佳为Polyoxyethylene sorbitan fatty acid ester,Octyl phenol polyethylene glycol ether,Fatty alcohol polyethyleneglycol ether,Polyoxypropylene polyoxyethylene ether,Fatty acidpolyethylene glycol ether,Castol oil polyethylene glycol ether,Sulfosuccinate monoester,di-octyl sulfouccinate,dodecyl benzenesulfonate,naphthalene formaldehyde condesate,miscellaneousdialkyl ammonium methosulfate,polyoxethylene alkyl ether,polythylene glycol fatty acid,amine ethoxylate,polyoxylethylenedi-styrenated phenol,Nonyl phenyl ether phosphate,Polyoxyethylene di-styrenated cresol,Condensated arylsulfonicacid,Aromatic polyether based dispersant,Alkylphenol ehtoxylatesand butyl glycol,N-methyl-N-oleoyl taurate。
利用本发明可将分散性染料、萤光增白染料、涂料及油墨的颜料、有机或无机的难燃剂、药物粉体及结晶性机能粉末等的微粒化研磨分散,可获得次微米及纳米等级的粒子分散产品,即粒径小于500nm,较好的分散可达粒径小于100nm或是粒径小于30nm。利用本发明的分散系统并不会发生严重的研磨介质污染与研磨介质磨损等状况,所得产品也无颜色严重偏差的问题等发生。
研磨分散的制程可以使用不同种类的研磨机。适当的研磨机可包含airier mill,roller mill,ball mill,attritor mill,vibratory mill,planetary mill,sand mill,bead mill。具有高能量研磨介质分散的装置为较佳的选择,可具有一转动的轴心。研磨分散的操作可以是批次、连续式、或半批次式型式,说明如下。
批次研磨分散使用马达及搅拌叶片的混合装置,将粒径小于100微米的玻璃研磨介质、分散媒、欲分散粉体粒子、分散剂混合。的后将此混合物置于传统的高能量批次研磨程序使用的研磨设备中。如高速attritor分散机,vibratory mills,ball mills等。此混合浆料将以一定时间进行分散,以使欲分散粉体粒子粒径下降至期望的分散大小。分散完成后,将分散产品(已分散的粉体粒子、分散剂及分散媒)与研磨介质过滤或筛离。
连续式研磨分散使用粒径小于100微米的玻璃研磨介质,其与分散媒、欲分散粉体粒子、和分散剂的混合物可由一外部混合槽连续循环通过一传统研磨介质分散机(media mill)中,此分散机具有一介质分离网或间隙,可调整使小于100微米的分散混合物自由通过循环的管路中。俟分散完成后,将分散产品(已分散的粉体粒子、分散剂及分散媒)与研磨介质过滤或筛离。
混合研磨介质研磨分散,将粒径小于100微米的玻璃研磨介质、分散媒、欲分散粉体粒子、和分散剂混合物由一外部混合槽连续循环通过一内含有大于250微米研磨介质的传统研磨介质分散机(media mill)中,此分散机具有一介质分离网或间隙,可使较大研磨介质停留于研磨槽体中,并使小于100微米的研磨介质与分散产品混合物自由通过研磨槽循环的管路中。俟分散完成后,将分散产品(已分散的粉体粒子、分散剂及分散媒)与研磨介质过滤或筛离,可使用传统的过滤技术来进行分离,如过滤、筛析过一固定网目的网筛或相近似的方法。
研磨时间与分散粉体种类、初始大小与最终细度、分散装置与分散操作型式有极大的差别。可以分散混合物在研磨系统中的滞留时间作为比较的指标。一般ball mill时间较长由数天到数周,media mill则需约八小时的操作时间。
为能让贵审查委员能更了解本发明的技术内容,特举超微粒子分散研磨方法的较佳具体实施例说明如下。
实施例1 研磨介质的预处理(A)未使用过的研磨介质不纯物分离取100g Precision GlassSpheres(Class V),粒径范围53-45μm(MO-SCI Specialty Products,L.L.C.)的研磨介质,将其置于一长筒状,底部有经过滤5微米过滤装置的水流入,顶部有溢流孔的玻璃器皿中,将流入此器皿的水流通量调整至存在于容器中的玻璃研磨介质具有稳定的悬浮,且上层有些许微粒的重量无法克服往上流动的动力而溢流而出。持续使水流通至上层悬浮而溢流出的研磨介质粒子几乎不存在为止及停止。未使用过的研磨介质(样品1-1)、溢流出的研磨介质收集(样品1-2)与未溢流出的研磨介质(样品1-3)收集检测。
(B)未经分离进行高速搅拌后分离不纯物将100g水混以体积为100ml的研磨介质以40mm叶片,转速5000rpm进行搅拌碰撞,持续进行10小时后停止。将此混合液置入(A)中所使用的分离装置,以相同方式进行分离,收集溢流出的研磨介质(样品1-4)。
结果说明将前述步骤所收集的样品,以光学显微镜进行观察,显示未使用过的研磨介质(样品1-1)中含有不同的不纯物,如不规则状、黑色者与粒径较小者。不规则形状具有尖锐的菱角,分散后会因应力集中而碎裂。黑色者内包含有气泡,在光照下因折射的关系,会显现出黑色,可能在研磨高速碰撞下碎裂。而粒径较小则易为其它粒径稍大者磨损。这些成份都必须在研磨分散前将的去除。而溢流出的研磨介质(样品1-2)显示均为粒径较小者、黑色者及不规则形状者。未溢流出的研磨介质(样品1-3)显示经处理后研磨介质极为均匀,不纯成份均已去除。而以步骤(B)高速搅拌后,经溢流分离出被磨细的不规则成份(样品1-4)。由前述测试获知研磨介质若未经处理分离出不纯的成份(不规则形状、黑色者、及粒径较小者),在经研磨搅拌时会因高速碰撞而产生稍为细小的碎裂,或是这些碎裂会刮伤正常状态的研磨介质的表面,使欲研磨的分散液产品受到污染。因此,这样的分离步骤是必需的,对于不同材质的研磨介质都必需考量这样的处理型式,否则分散液产品将会受到研磨介质不纯成份或其碎裂物的污染。
实施例2 研磨介质与研磨槽适性的测试将100g、密度为6g/cm3、粒径为38~75微米的钇锆材质研磨介质,混以同体积的水,以40mm不锈钢制叶片,转速5000rpm进行搅拌碰撞,持续进行10小时后停止。
结果以肉眼观察,在此实验进行约两小时后,搅拌的水溶液即开始有黑色显现,时间愈长颜色愈深。因该种研磨介质的颜色为米白色,因此该颜色的来源可确定不是自研磨介质互磨碎裂而来。再者使用的研磨槽为不锈钢,其硬度较研磨介质为低,因此,可确认此颜色的变化主要是来自研磨槽表面被研磨介质磨损所产生。以相同的条件进行50微米玻璃珠的测试结果显示,并未有研磨槽磨损而导致变色的情况发生。由此可知虽然研磨介质的粒径已下降至<100微米,其单颗介质的质量及碰撞力以较小,但使用密度较大的钇锆材质研磨介质仍会磨损不锈钢槽。因此,此种密度较高的微细研磨介质并不适用于成本较低的不锈钢槽的研磨使用,必需改以玻璃材质的研磨介质较为适当。
实施例3 本发明的研磨分散制程其分散配方列于下表1。首先将水与分散剂置入1L研磨槽中,使用装有直径40mm~50mm锯齿状叶片(colwes-type)及ULTRA-TURRAX T50basic的搅拌机(IKA),以300rpm低速搅拌溶解,的后将颜料慢慢加入分散剂水溶液中,俟加完后搅拌约1小时。将研磨介质慢慢加入前述制备的分散液中,待其完全湿润后,将马达转速慢慢提高至搅拌叶片速度在15m/s的状态下(转速约为5000~8000rpm),持续进行研磨分散,过程中每间隔约1小时进行取样,以Malvern 4700作粒径量测以获知分散过程的粒径变化,结果如图1本实施例的颜料分散粒径经时变化结果,显示使用玻璃研磨介质可在约六小时左右即有小于30nm的分散效果,具有高效分散的效果。分散达预定目标规格粒径后(即粒径小于30nm),即将分散液加入定量水稀释至约颜料重量含量为10%,的后使用较研磨介质小的过滤头与吸引装置将纳米等级大小的分散液与研磨介质分离,同时将分散液以1微米孔洞大小的滤材将分离出的分散液进行过滤。
比较例1 250微米聚苯乙烯材质研磨介质分散其分散配方列于下表1。将配方成份同实施例3进行分散研磨,但本例的转速为1900rpm,叶片直径为60mm,研磨槽体机为600ml,研磨时间为29小时。
比较例2 1mm氧化锆材质研磨介质分散其分散配方列于下表1。将配方成份同实施例3进行分散研磨,但本例的转速为1650rpm,叶片直径为50mm,研磨槽体机为600ml,研磨时间为55小时。
以感应藕合浆发射光谱仪进行分散产品的纯度测量,以检测分散产品中金属成份的含量,获知研磨介质在剧烈搅拌的碰撞后,研磨介质微量磨损或对研磨槽磨损的污染情况,下表2为其检测结果。
表1


*采用Sunfast Quinacridone Pigment(sun Chemical公司制造的颜料红色122)表2

比较例2中以同实施例3的分散装置进行分散,结果显示其金属污染高出两倍以上。由分散产品观察,比较例2的产品在静置数天后底部有明显的沉淀,且该沉淀的颜色为与研磨介质同为白色,由此可知表2中比较例2测试结果应低估此研磨介质的效应(其它试验样品并无此沉淀发生)。由测试结果可知,以本发明使用预处理过的玻璃研磨介质进行分散时,因其粒径较小,分散介质单颗的能量较低,所以磨损较不剧烈,因此其与不锈钢分散槽组合具有低金属污染的分散产品效果。
实施例4 本发明分散液制备成喷墨墨水与传统次微米颜料分散的比较若将此分散产品作为彩色喷墨墨水的应用时,一般会要求钙、镁、氯三离子的总含量必须小于100ppm以下,实施例3的产品经离子层析仪测试后获的此三离子的浓度分别为[Mg2+]=46.61ppm、[Ca2+]=14.87ppm、[Cl-]=16.64ppm,其总和为78.13ppm,而此测试分散产品的颜料浓度为12%,与一般墨水的颜料含量约有四倍差异,因此再经配方配置后,其总含量仍为允许的范围。由以上可知使用该种研磨介质来进行高品质的喷墨列印用墨水的颜料分散亦为可行。
将本发明的洋红色颜料分散液(纳米等级)与传统次微米洋红色颜料分散液,以颜料分散液(颜料含量约10%wt)4.08%、保湿剂(Diethyleneglycol)10.42%、抗菌剂0.1%,其余为去离子水的成份组成,混合成喷墨用墨水。两者均可使用热气泡式喷墨墨水匣喷出,其特性有下表3所列的差别。
表3

可知依本发明的分散方法制备的喷墨用墨水具较高的表面张力、配方调控空间更大、低粒径易过滤不阻塞、以及色彩饱合度较高等特点。
实施例5使用传统色膏混合本发明颜料进行PU合成皮的色料涂层传统色膏(颜料分散液)与本发明产出分散液的比较列于下表4
表4

相较于传统色膏色泽混浊不饱和、粘度高,且粒径大等缺点,本发明的颜料分散液呈现出颜色极饱和、具透明性,同时粘度极低、粒径低于30纳米等优点。
将传统色膏混合本发明颜料进行PU合成皮的色料涂层,以颜料分散液(8%wt)混合水性PU树脂(70%),并添加少量湿润剂(~1%)与水份,混合均匀后,以涂布棒将其涂布于灰色PU皮革上,以70℃烘干5min,最后以肉眼观察,获得下表5所列的结果。
表5

IW6540为购自大同公司生产的水性万用色膏。由表5可知添加1至3%本发明的颜料,可使色料涂层的遮盖率高且色饱和度更佳良好。
上述实施例仅是为了方便说明而举例而已,本发明所主张的权利范围自应以申请专利范围所述为准,而非仅限于上述实施例。
权利要求
1.一种超微粒子分散研磨方法,其特征在于,主要包括以下步骤(a)将一基质、分散剂、与分散媒质混合得一混合物;(b)提供一经预处理的研磨介质,并将该研磨介质加入该混合物中;其中该研磨介质为平均粒径小于100μm的玻璃球;(c)研磨该混合物;以及(d)将该研磨介质自该分散液中分离。
2.根据权利要求1所述的超微粒子分散研磨方法,其特征在于,其中该基质为难溶性染料、颜料、具有结晶性的有机物、高分子或药物粉体。
3.根据权利要求1所述的超微粒子分散研磨方法,其特征在于,其中该分散剂是选自一由阴离子型、阳离子型、非离子型和高分子型界面活性剂及其混合物所组成的群组。
4.根据权利要求1所述的超微粒子分散研磨方法,其特征在于,其中该分散媒质是选自一由水、盐水溶液、甲醇、乙醇、丁醇、己烷、乙二醇及其混合物所组成的群组。
5.根据权利要求1所述的超微粒子分散研磨方法,其特征在于,其中该经预处理的研磨介质是以水溢流方式筛选。
6.根据权利要求1所述的超微粒子分散研磨方法,其特征在于,其中该研磨介质的平均粒径是介于50至100μm。
7.根据权利要求1所述的超微粒子分散研磨方法,其特征在于,其中该研磨介质的密度是介于1至3g/cm3之间。
8.根据权利要求1所述的超微粒子分散研磨方法,其特征在于,其中步骤(C)研磨该混合物是研磨至该基质的平均粒径小于100nm。
9.根据权利要求1所述的超微粒子分散研磨方法,其特征在于,其中该研磨介质为圆球状。
10.根据权利要求1所述的超微粒子分散研磨方法,其特征在于,其中研磨是以一研磨机完成,该研磨机并包含一不锈钢混合槽及一搅拌叶片。
11.根据权利要求1所述的超微粒子分散研磨方法,其特征在于,其中该研磨机为空气式研磨机,滚轮研磨机,球磨机,attritor mill,震动式研磨机,行星式研磨机,砂磨机或珠磨机中的一种。
12.根据权利要求1所述的超微粒子分散研磨方法,其特征在于,其操作型式为批次式、连续式、或半批次式。
13.根据权利要求1所述的超微粒子分散研磨方法,其特征在于,其是用于制造色膏用颜料、涂料用颜料、聚合物用颜料或油墨用颜料。
14.一种色膏,其特征在于,是主要包含0.1至70重量份的颜料,其中该颜料的平均粒径小于100nm;0.1至30重量份的分散剂;以及40至90重量份的水;其中该颜料是与分散剂及分散媒质混合;经平均粒径小于100μm的玻璃球研磨至平均粒径小于100nm后;自该分散液中分离而得。
15.根据权利要求14所述的色膏,其特征在于,其中该分散剂是选自一由阴离子型、阳离子型、非离子型和高分子型界面活性剂及其混合物所组成的群组。
全文摘要
本发明是有关于一种超微粒子分散研磨方法,主要包括以下步骤首先将一基质、分散剂与分散媒质混合成一混合物;随之依序提供一经预处理的研磨介质,并将该研磨介质加入该混合物中;其中该研磨介质为平均粒径小于100μm的玻璃球;再研磨该混合物;以及将该研磨介质自该分散液中分离。本发明还涉及应用分散研磨方法制作的色膏。
文档编号B02C19/00GK1548231SQ03136239
公开日2004年11月24日 申请日期2003年5月19日 优先权日2003年5月19日
发明者徐敬添, 张义和, 邹淑贞, 简维谊, 蔡书雅, 萧世明, 陈守一 申请人:财团法人工业技术研究院
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