一种双膜覆盖沟形温室种植方法与流程

技术特征：
1.一种双膜覆盖沟形温室种植方法，其特征是：第一层膜是下膜，覆盖在倒梯形断面的小沟的沟底、沟壁及沟外地面上，第二层膜是上膜，覆盖在沟面上，使小沟内的空间封闭成为一个小温室，两次铺膜作业由配套点播机一次完成；配套点播机包括机架、地轮、地表整形机构、铺膜机构、覆土滚筒和点种器，在机架(1)前端安装的地表整形机构是一个由开沟铲(10)及其两侧刮土板(9)组成的开沟扶埂器(2)，其开沟铲两翼后面有和前进方向平行的沟壁成形板(11)，两侧刮土板出土端后面有和前进方向平行的土埂成形板(12)，须开出倒梯形断面的小沟，沟壁顶部高出地面，形成小埂，沟底距地面高度3-10厘米，沟底距埂面高度8-20厘米，沟底宽度10厘米；开沟扶埂器后面是下膜铺膜机构(4)，其位置使膜(3)覆盖在开好倒梯形断面小沟的种植带上；接着是出土间隙上带有筛网的膜上覆土滚筒(5)，其在机架上的安装位置和铺好的下膜对正，使土壤落到对准沟底的下膜上；然后是点种器(6)，其位置使点种器的鸭嘴穿透覆土和地膜把种子点播到种床上；最后是上膜铺膜机构(7)和上膜覆土滚筒(8)，其位置使上膜覆盖在点过种的沟面上。2.如权利要求1所述的一种双膜覆盖沟形温室种植方法，其特征是：出土间隙上带筛网的膜上覆土滚筒(5)中部的半径变小，半径变小的量等于土埂上表面到地面的高度；覆土滚筒靠近取土圆盘的外侧端头有一个凹形存土槽(13)，固定在滚筒内壁的导土螺旋片(14)带有折弯的挡土边，其进土端与凹形存土槽相接。3.如权利要求1所述的一种双膜覆盖沟形温室种植方法，其特征是：覆土滚筒的筒壁上的出土间隙(15)与开沟扶埂器开出的小沟相对，覆土的重量使下膜压向沟底，使下膜覆盖在倒梯形断面的小沟的沟底、沟壁及沟外地面上。