1.一种洋葱种植灌溉系统，主要包括滴管带和地膜，其特征在于：所述地膜包括黑色的底模和无色的上膜；所述底模设置在上膜下方，所述底模和上膜的垂直方向上设有种植孔；所述滴管带设置在底模下方。
2.根据权利要求1所述的洋葱种植灌溉系统，其特征在于：所述底模和上膜之间的间距为5-10厘米。
3.根据权利要求1所述的洋葱种植灌溉系统，其特征在于：所述滴管带为多根；所述滴管带之间的间距为60-80厘米。
4.根据权利要求1所述的洋葱种植灌溉系统，其特征在于：所述滴管带上设有多个滴管，所述滴管的间距为30-40厘米。
5.根据权利要求1所述的洋葱种植灌溉系统，其特征在于：所述种植孔的间距为15-20厘米。