一种洋葱种植灌溉系统的制作方法

技术总结
本实用新型公开了一种洋葱种植灌溉系统，主要包括滴管带和地膜，地膜包括黑色的底模和无色的上膜；底模设置在上膜下方，底模和上膜的垂直方向上设有种植孔；滴管带设置在底模下方，底模和上膜之间的间距为5‑10厘米。本实用新型灌溉系统结构简单，操作方便，节省人力，小苗发变快，土壤疏松，洋葱的品质和产量都有明显的提高。

技术研发人员：周国兵
受保护的技术使用者：元谋县源泉农业科技开发有限责任公司
文档号码：201620650997
技术研发日：2016.06.27
技术公布日：2017.06.30