西瓜的高产环保种植方法与流程

文档序号:11264389阅读:432来源:国知局

本发明涉及农产品种植领域,特别是涉及一种西瓜的高产环保种植方法。



背景技术:

水果是指多汁且主要味觉为甜味和酸味可食用的植物果实,不但含有丰富的营养且能够帮助消化,还带有正能量。

但是现在的粮食、蔬菜或者水果的种植方式都非常的单一,亩产较低,而且容易引发一些病虫害,所以人们需要更加满足要求的种植方法。



技术实现要素:

本发明主要解决的技术问题是提供一种西瓜的高产环保种植方法,具有产量高、种植简单、绿色环保等优点,同时在农产品种植的应用及普及上有着广泛的市场前景。

为解决上述技术问题,本发明采用的一个技术方案是:

提供一种西瓜的高产环保种植方法,步骤包括:

选择沙性土壤、营养基础较好的田块作为种植田;

在种植田中播撒有机肥;

半个月后,对种植田进行深耕30厘米;

在种植田中做垄,垄的宽度为40-45厘米、高度为25-30厘米;

选择根系发达、无病虫害、2-3片叶子的西瓜幼苗作为种植苗;

将种植苗按照1.6-2.0米的行距种植在垄上;

在长出新叶后,施一次尿素;

在花谢时,施一次有机肥。

在本发明一个较佳实施例中,每天检查种植田中的排水,防止种植苗或西瓜浸在水中。

在本发明一个较佳实施例中,每隔5-8天内精心过一次浇水。

在本发明一个较佳实施例中,调节环境温度,使得白天和晚间的温度差大于或等于10℃。

本发明的有益效果是:不仅可以提高其产量和经济效益,而且口感更佳,不使用农药,更加的绿色环保。

具体实施方式

下面将对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅是本发明的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例,都属于本发明保护的范围。

本发明实施例包括:

一种西瓜的高产环保种植方法,步骤包括:

选择沙性土壤、营养基础较好的田块作为种植田;

在种植田中播撒有机肥;

半个月后,对种植田进行深耕30厘米;

在种植田中做垄,垄的宽度为40-45厘米、高度为25-30厘米;

选择根系发达、无病虫害、2-3片叶子的西瓜幼苗作为种植苗;

将种植苗按照1.6-2.0米的行距种植在垄上;

在长出新叶后,施一次尿素;

在花谢时,施一次有机肥。

每天检查种植田中的排水,防止种植苗或西瓜浸在水中。

每隔5-8天内精心过一次浇水。

调节环境温度,使得白天和晚间的温度差大于或等于10℃。

本发明西瓜的高产环保种植方法的有益效果是:不仅可以提高其产量和经济效益,而且口感更佳,不使用农药,更加的绿色环保。

以上所述仅为本发明的实施例,并非因此限制本发明的专利范围,凡是利用本发明说明书内容所作的等效结构或等效流程变换,或直接或间接运用在其它相关的技术领域,均同理包括在本发明的专利保护范围内。



技术特征:

技术总结
本发明公开了一种西瓜的高产环保种植方法,包括:种植田管理、果苗管理等步骤。通过上述方式,本发明西瓜的高产环保种植方法,不仅可以提高其产量和经济效益,而且口感更佳,不使用农药,更加的绿色环保。

技术研发人员:吴平;黄净
受保护的技术使用者:太仓市丰缘农场专业合作社
技术研发日:2017.07.27
技术公布日:2017.09.22
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