一种潮汐控根花盆的制作方法

1.本发明涉及控根花盆技术领域，尤其涉及一种潮汐控根花盆。


背景技术：

2.控根盆乍一看与一般的花盆并无明显区别，只是花盆侧面多了一些透气孔或透气槽，类似我们洗菜用的沥水篮，也正是这些透气孔和透气槽起到了增加透气性、防止积水并且引导主根系定向生长的作用。现有的控根花盆需要及时地观察控根培育土壤的情况，透气孔的空隙过小，人们观察土壤主要还是将土壤从花盆中完全拔出，这样比较麻烦，也会影响植物生长。


技术实现要素：

3.本发明的目的是为了解决现有技术中存在的控根花盆的土壤观察需要将其完全拔出，会影响植物生长的缺点，而提出的一种潮汐控根花盆。
4.为了实现上述目的，本发明采用了如下技术方案：一种潮汐控根花盆，包括花盆主体，所述花盆主体的底壁中心位置预留凸起，所述花盆主体由下盆体和上盆体组成，下盆体为敞口式设计，上盆体为圆环形板材设计，上盆体在其底面一圈设置有插块若干个，下盆体在其顶面一圈设置有与所述插块一一对应的插槽，通过所述插块将上盆体插设在所述下盆体的插槽中。
5.优选的，所述花盆主体的上下盆体合围所形成的内侧空间设计为放置空间。
6.优选的，所述花盆主体的内壁上开设出槽道，槽道由上至下贯穿上盆体以及下盆体。
7.优选的，所述槽道的槽壁上开设出贯通花盆主体的通孔。
8.优选的，所述固定块周向分布在上盆体的底面一圈，并且固定块的底部设置有椭圆形的卡簧，卡簧为金属材质。
9.优选的，所述插槽周向开设在下盆体的顶面一圈，并且插槽在其槽底向下开设出插孔，所述插孔与所述卡簧相适配，卡簧插设在对应的所述插孔中。
10.本发明的有益效果是：通过本方案提出的控根花盆，解决了控根花盆的土壤观察需要将其完全拔出，会影响植物生长的问题，本控根花盆的提出，上下拼叠式的花盆设计，在不影响植物生长的前提下，方便工作人员及时、高效地观察土壤的状况，花盆设计新颖，为人工操作提供了便利，也不会影响植物生长。
附图说明
11.图1为本发明提出的一种潮汐控根花盆的主视结构示意图；图2为本发明提出的一种潮汐控根花盆的俯视结构示意图；图3为本发明提出的一种潮汐控根花盆的图1中a处放大图。
12.图中：1花盆主体、2下盆体、3上盆体、4放置空间、5凸起、6槽道、7通孔、8插块、9卡
簧、10插槽、11插孔。
具体实施方式
13.下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。
14.本实施例中，参照图1
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3，一种潮汐控根花盆，包括花盆主体1，花盆主体1的底壁中心位置预留凸起5，花盆主体1由下盆体2和上盆体3组成，下盆体2为敞口式设计，上盆体3为圆环形板材设计，上盆体3在其底面一圈设置有插块8若干个，下盆体2在其顶面一圈设置有与插块8一一对应的插槽10，通过插块8将上盆体3插设在下盆体3的插槽10中。
15.花盆主体1的上下盆体合围所形成的内侧空间设计为放置空间4，花盆主体1的内壁上开设出槽道6，槽道6由上至下贯穿上盆体3以及下盆体2，槽道6的槽壁上开设出贯通花盆主体1的通孔7，固定块8周向分布在上盆体3的底面一圈，并且固定块8的底部设置有椭圆形的卡簧9，卡簧9为金属材质，插槽10周向开设在下盆体2的顶面一圈，并且插槽10在其槽底向下开设出插孔11，插孔11与卡簧9相适配，卡簧9插设在对应的插孔11中。
16.现有技术中，盆上部不透孔，有利于保持盆内水分，凹凸设计避免根系缠绕，下面20公分高度设计孔，利用光控原理，促进萌发更多的侧根，实现根系指数最大化，同时增加根系的透气性，促进植株旺盛的生长，底部不设孔设计高度1.5公分的积水槽，有利于储存多余的水肥，有潮汐灌溉效果，避免干旱发生。盆上部两侧对应开四个直径1.5公分的圆孔，用于降雨时排出多余的水分，同时便于固定盆上植株的固定和运输。花盆下面开孔增加了根系透气性，利用根系怕光，见光就不长，补发盆内部萌发更多的侧根，实现植物根系指数最大化，去盆栽植土壤后遇到黑暗环境，根系会四周放射状快速生长，达到旺盛健康生长状态。
17.具体工作原理：卡簧9在此可以选择铝合金，其一铝合金质地轻，其二韧性强，正常种植时，将上盆体3沿其底部的各个插块8插入到下盆体2顶面对应的插槽10中，并确保卡簧9可以刚好插设在插孔11中，这样，结合附图3，插孔11的截面形状与卡簧9的形状刚好吻合，这样，当把卡簧9插进插孔11，插孔11的上端口会对卡簧9起到箍紧的作用，防止卡簧9轻松地从插孔11中拔出，这样，上下盆体组装成为一体，作为整体的花盆主体1的稳定性显著提升。
18.而当需要拆卸时，也仅需要稍用力，将上盆体3向上拔出，使得卡簧9从插孔11中被抽出即可，这样便可以使得上下盆体之间被分离开，方便工作人员的日常观察。
19.以上所述，仅为本发明较佳的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本发明的保护范围之内。