雾化芯制备方法与流程

文档序号:33621652发布日期:2023-03-25 12:15阅读:来源:国知局

技术特征:
1.一种雾化芯制备方法,其特征在于,包括如下步骤:采用薄膜沉积工艺将导电材料沉积在多孔陶瓷基底的至少部分外表面上,以在所述多孔陶瓷基底上形成发热层,获得表面具有发热层的雾化芯;采用退火老化工艺,对所述雾化芯进行退火热处理。2.如权利要求1所述的雾化芯制备方法,其特征在于,所述退火热处理步骤中,所述退火热处理的温度为500~800℃,所述退火热处理的时间为5~60分钟。3.如权利要求1所述的雾化芯制备方法,其特征在于,所述退火热处理步骤中,所述雾化芯退火热处理过程,在保护气体氛围中进行。4.如权利要求1所述的雾化芯制备方法,其特征在于,所述雾化芯制备方法还包括通电老化处理步骤,所述通电老化处理步骤包括:采用通电老化工艺,对退火热处理后的所述雾化芯进行供电,退火热处理后的所述雾化芯通电后发热,以对所述发热层的微观结构进行老化处理。5.如权利要求4所述的雾化芯制备方法,其特征在于,所述通电老化处理步骤中,通电功率为6~8w,通电时间为1~20分钟。6.如权利要求4所述的雾化芯制备方法,其特征在于,所述通电老化处理步骤中,所述雾化芯的通电老化处理过程,在大气氛围下进行。7.如权利要求4所述的雾化芯制备方法,其特征在于,所述通电老化处理步骤中,采用直流稳压电源对所述雾化芯进行供电。8.如权利要求1至7任一项所述的雾化芯制备方法,其特征在于,所述导电材料为镍铬合金材料,所述镍铬合金材料通过所述薄膜沉积工艺沉积形成镍铬合金发热层,所述镍铬合金发热层的沉积厚度为1~5μm。9.如权利要求8所述的雾化芯制备方法,其特征在于,所述镍铬合金材料中ni/(ni+cr)的质量比为0.2~0.9。10.如权利要求1至7任一项所述的雾化芯制备方法,其特征在于,所述多孔陶瓷基底的孔隙率为30%~80%,所述多孔陶瓷基底的孔径为10~30μm。

技术总结
本发明提供了一种雾化芯制备方法,本发明提供的雾化芯制备方法,首先通过薄膜沉积工艺将导电材料形成于多孔陶瓷基底的外表面上,以形成表面具有发热层的雾化芯;其次,采用退火老化工艺,对雾化芯的发热层进行退火热处理,使发热层微观结构中的晶粒长大,促使发热层更加致密,减少发热层的微观缺陷;然后,对退火热处理后的雾化芯进行通电发热处理,以对发热层的微观结构进行进一步的老化处理。这样,雾化芯在经过退火热处理及通电老化处理后,能够改善并提高发热层电阻的稳定性,增强了发热层的电学稳定性,进而使得发热层发热更均匀,防止雾化芯出现局部温度过高的现象,可对气溶胶形成基质具有良好的雾化效果。成基质具有良好的雾化效果。成基质具有良好的雾化效果。


技术研发人员:邱伟华
受保护的技术使用者:东莞市维万特智能科技有限公司
技术研发日:2021.09.22
技术公布日:2023/3/24
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