一种稳定支撑鞋底的制作方法

文档序号:15333715发布日期:2018-09-04 21:17阅读:309来源:国知局

本实用新型涉及一种稳定支撑鞋底。



背景技术:

宽脚型或者扁平足跑步者,在跑步的过程中,会出现脚部向脚背内侧倾斜状况(简称外翻),从而影响了跑步的正常步态,甚至产生运动伤害。传统的方式,是通过设置矫形鞋垫和专门的鞋来对扁平足来进行校正。如授权公告号CN 202536256U,名称为“扁平足鞋垫”的中国实用新型专利中,公开了扁平足鞋垫,包括加固垫、海绵条;所述位于鞋垫小脚趾处,所述加固垫主体呈L型,下部与鞋垫连接。再如授权公告号CN 205649023U,名称为“一种用于矫正扁平足的鞋,包括鞋面和鞋底,所述鞋底对应足弓部位内部设有TPU空心支架,所述TPU空心支架四周封闭上表面呈现拱形的结构,所述TPU空心支架下表面为封闭的弧面,所述TPU空心支架与鞋底通过注塑一体成型”。上述的这些措施虽然能够起到一定的校正作用,但是这类鞋或者鞋带会影响跑步时足部的动态支撑和稳定性需求和舒适性。

鉴于此,本案发明人对上述问题进行深入研究,遂有本案产生。



技术实现要素:

本实用新型的目的在于提供一种穿着舒适、能够提供外翻步态有效稳定支撑的鞋底。

实用新型为了达到上述目的,本实用新型采用这样的技术方案:

一种稳定支撑鞋底,包括鞋底本体,鞋底本体对应脚背外侧的一侧为外侧,对应脚背内侧的一侧为内侧,鞋底本体对应前脚掌的位置为前掌部,鞋底本体对应脚后跟的位置为后根部,鞋底本体对应前掌部与后跟部之间的位置为足弓部,所述鞋底本体上形成有收纳槽,收纳槽从鞋底本体的上表面向下表面延伸,且在鞋底本体的前后方向延伸,还包括嵌设在收纳槽中的第一支撑块和第二支撑块,第一支撑块靠近鞋底本体的内侧设置,第二支撑块靠近鞋底本体的外侧设置,第一支撑块的硬度大于第二支撑块的硬度。

作为本实用新型的一种优选方式,所述鞋底本体的硬度大于所述第一支撑块的硬度。

作为本实用新型的一种优选方式,所述鞋底本体的硬度为邵氏C硬度56至60度,所述第一支撑块的硬度为邵氏C硬度53至57度,所述第二支撑块的硬度为邵氏C硬度45至49度。

作为本实用新型的一种优选方式,所述第一支撑块靠近所述第二支撑块的一侧形成沉台,沉台从所述第一支撑块的上表面向下表面延伸,所述第二支撑块对应沉台设置有抵接槽,抵接槽从所述第二支撑块的下表面向上表面延伸。

作为本实用新型的一种优选方式,所述沉台上设有向上延伸的第一定位柱,所述第二支撑块上对应抵接槽设有与第一定位柱配合的第一定位孔。

作为本实用新型的一种优选方式,所述鞋底本体对应的所述收纳槽的位置设有第二定位柱,所述沉台上对应第二定位柱设置有第二定位孔。

作为本实用新型的一种优选方式,所述鞋底本体的外侧对应后跟部到足弓部的位置设有多个缓冲槽,缓冲槽从所述鞋底本体的外侧向内侧延伸。

作为本实用新型的一种优选方式,所述鞋底本体的内侧对应足弓部和后跟部的位置设置有补强槽,补强槽从所述鞋底本体的内侧向外侧延伸,在补强槽中嵌装有加强块,加强块的硬度大于所述鞋底本体的硬度。

作为本实用新型的一种优选方式,还包括复合在所述鞋底本体的下表面的橡胶大底,所述加强块一体成型在橡胶大底上。

本实用新型还提出一种稳定支撑鞋底的制作工艺,依次包括如下步骤:

A、分别通过注塑模具成型出第一支撑块、第二支撑块以及鞋底本体,鞋底本体的硬度大于第一支撑块的硬度,第一支撑块的硬度大于第二支撑块的硬度,鞋底本体上形成有收纳槽,收纳槽从鞋底本体的上表面向下表面延伸,且在鞋底本体的前后方向延伸;

B、将第一支撑块和第二支撑块置于鞋底本体的收纳槽中,将鞋底本体置于发泡模具中发泡处理形成鞋底。

采用本实用新型的技术方案后,第一支撑块的硬度大于第二支撑块的硬度,避免了脚型宽大或者扁平足运动者在跑步过程中脚掌向内侧倾靠的过度外翻步态,具有矫正跑步步态的作用,保证鞋底接触的舒适性和稳定性。

附图说明

图1为本实用新型中鞋底本体的结构示意图;

图2为本实用新型中第一支撑块的结构示意图(俯视状态);

图3为本实用新型中第二支撑块的结构示意图(仰视状态);

图4为本实用新型中鞋底的侧视图(从外侧观看);

图5为本实用新型中鞋底的侧视图(从内侧观看);

图中:

10-鞋底本体 11-前掌部

12-后跟部 13-足弓部

14-外侧 15-内侧

16-收纳槽 17-第二定位柱

18-缓冲槽 20-第一支撑块

21-沉台 22-第一定位柱

23-第二定位孔 30-第二支撑块

31-抵接槽 32-第一定位孔

40-橡胶大底 41-加强块

具体实施方式

为了进一步解释本实用新型的技术方案,下面结合附图进行详细阐述。

参照图1至图5,一种稳定支撑鞋底,包括鞋底本体10,鞋底本体10对应脚背外侧的一侧为外侧14,对应脚背内侧的一侧为内侧15,鞋底本体10对应前脚掌的位置为前掌部11,鞋底本体10对应脚后跟的位置为后根部12,鞋底本体10对应前掌部11与后跟部12之间的位置为足弓部13,所述鞋底本体10上形成有收纳槽16,收纳槽16从鞋底本体10的上表面向下表面延伸,且在鞋底本体10的前后方向延伸,通过收纳槽16的设置,在鞋底本体10的上周沿形成环形边墙。

本实用新型还包括嵌设在收纳槽16中的第一支撑块20和第二支撑块30,第一支撑块20靠近鞋底本体10的内侧15设置,第二支撑块30靠近鞋底本体10的外侧14设置,第一支撑块20的硬度大于第二支撑块30的硬度。第一支撑块20和第二支撑块30对接在一起后,第一支撑块20的上表面和第二支撑块30的上表面平滑衔接,两者共同形成鞋底的上表面。在实施例中,第一支撑块20和第二支撑块30均从鞋底本体10的后跟部12延伸至前掌部11,当然,根据不同稳定支撑的需求下,也可以根据需要缩小或放大第一支撑块20和第二支撑块30的覆盖区域,甚至把第一和第二支撑块合并为一。

作为本实用新型的一种优选方式,所述鞋底本体10的硬度大于所述第一支撑块20的硬度。

作为本实用新型的一种优选方式,所述鞋底本体10的硬度为邵氏C硬度58度,所述第一支撑块20的硬度为邵氏C硬度55度,所述第二支撑块30的硬度为邵氏C硬度47度。

作为本实用新型的一种优选方式,所述第一支撑块20靠近所述第二支撑块30的一侧形成沉台21,在实施例中,该沉台21的横截面面积为第一支撑块20横截面面积的一半左右,沉台21从所述第一支撑块20的上表面向下表面延伸,所述第二支撑块30对应沉台21设置有抵接槽31,抵接槽31从所述第二支撑块30的下表面向上表面延伸。第一支撑块20和第二支撑块30拼接后,抵接槽31抵靠在沉台21上,在抵接槽31与沉台21处形成过渡区,该过渡区由硬度较大的第一支撑块20和硬度较小的第二支撑块30重叠在一起,从而形成整体硬度介于第一支撑块20和第二支撑块30的过渡区域,保证了鞋底在跑步过程中受压时的顺畅过度和与足部接触的舒适性,通过该过渡区域也可以使得第一支撑块20和第二支撑块30形成稳定拼接。

作为本实用新型的一种优选方式,所述沉台21上设有向上延伸的多个第一定位柱22,所述第二支撑块30上对应抵接槽31设有与第一定位柱22配合的第一定位孔32。作为本实用新型的一种优选方式,所述鞋底本体10对应的所述收纳槽16的位置设有第二定位柱17,所述沉台31上对应第二定位柱17设置有第二定位孔23。采用这种结构,通过定位柱和定位孔的配合,实现了第一支撑块20、第二支撑块30以及鞋底本体30的准确对位。

作为本实用新型的一种优选方式,所述鞋底本体10的外侧14对应的后跟部12到足弓部13的位置设有多个缓冲槽18,缓冲槽18从所述鞋底本体10的外侧15向内侧14延伸。在图4中,设置7个缓冲槽18,7个缓冲槽18交错设置,缓冲槽18大体设置在足弓部13位置,沿鞋底本体10的前后方向排布,缓冲槽18的纵截面大体呈菱形。采用这种结构,在保证鞋底本体10的强度的情况下,通过缓冲槽18的设置,使得鞋底本体10的外侧15更加容易形变,相对地,鞋底本体10的内侧15不易形变,从而更好地控制或降低鞋底和足部的外翻现象。

作为本实用新型的一种优选方式,所述鞋底本体10的内侧15对应足弓部13和后跟部12的位置设置有补强槽,补强槽从所述鞋底本体10的内侧15向外侧14延伸,在补强槽中嵌装有加强块41,加强块41纵截面呈三角形,加强块41通过胶黏剂粘贴在补强槽中,加强块41的硬度大于所述鞋底本体10的硬度,从而增强鞋底本体10内侧15的硬度,采用这种结构,进一步增强鞋底本体10内侧15的硬度,从而使得整个鞋底从外侧14至内侧15形成硬度有序地过渡,起到更好的矫正和稳定支撑作用,同时保证穿着的舒适性。

作为本实用新型的一种优选方式,还包括复合在所述鞋底本体10的下表面的橡胶大底40,所述加强块41一体成型在橡胶大底40上。

本实用新型还提出一种稳定支撑鞋底的制作工艺,依次包括如下步骤:

A、分别通过注塑模具成型出第一支撑块20、第二支撑块30以及鞋底本体10,第一支撑块20、第二支撑块30以及鞋底本体10均采用EVA材质,鞋底本体10的硬度大于第一支撑块20的硬度,第一支撑块20的硬度大于第二支撑块30的硬度,鞋底本体10上形成有收纳槽16,收纳槽16从鞋底本体10的上表面向下表面延伸,且在鞋底本体10的前后方向延伸;

B、将第一支撑块20和第二支撑块30置于鞋底本体10的收纳槽16中,将鞋底本体10置于发泡模具中发泡处理形成鞋底,发泡的过程中,第一支撑块20、第二支撑块30以及鞋底本体10三者粘结成一个整体,保证了整个鞋底本体10的稳定性。

本实用新型的产品形式并非限于本案图示和实施例,任何人对其进行类似思路的适当变化或修饰,皆应视为不脱离本实用新型的专利范畴。

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